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Title:
光生成方法及びシステム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2021500599
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、第１領域と、第２領域と、第３領域とを形成でき、且つ、第１領域における光強度が前記第２領域及び前記第３領域における光強度のそれぞれより高い第１光を生成することと、第１領域及び第２領域を同時に照射できる第２光を生成することと、第１領域及び第３領域を同時に照射できる第３光を生成することと、前記第２光及び前記第３光の光強度をそれぞれ制御することとを含む光生成方法、及びシステムを提供する。本発明に係る光生成方法及びシステムによって生成された光は、理論上解像度が無限小に近づける超解像を実現できるだけでなく、採用する初期光源はいずれもレーザ発生器から出射された光であるため、コストが非常に安く、しかも光源の回折限界に制限されず、リソグラフィ分野で幅広い利用が見込まれる。【選択図】図１

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Inventors:
One Lee Jean
WANG Wei
Zooson
Application Number:
JP2020520516A
Publication Date:
January 07, 2021
Filing Date:
October 23, 2018
Export Citation:
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Assignee:
SHANGHAI BIXIUFU ENTERPRISE MANAGEMENT CO., LTD.
International Classes:
G03F7/20; G02B3/00; G02B5/18; G02B5/30; G02B19/00
Domestic Patent References:
JP2006093487A2006-04-06
JP2014106432A2014-06-09
JP2017146623A2017-08-24
JPH0425290A1992-01-29
Foreign References:
US20130130182A12013-05-23
US20050111089A12005-05-26
Attorney, Agent or Firm:
KTS Patent Business Corporation



 
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