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Title:
高解像度、高速照射イメージングのための方法と装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2021523374
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】本開示の一方法では、高フレームレートで低ラグを提供する高解像度照射線検出の方法が提供される。【解決手段】入射照射線からイメージを生成するためのシステムにおいて、上部電極層と、光伝導層と、一組の下部電極と、基板層と、前記一組の下部電極内に統合された一組のピクセル回路とを含み、前記光伝導層の厚さは、個々のピクセル回路のピッチよりも少なくとも３倍厚い、システムが提供される。【選択図】図１

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Inventors:
Karim, Karim S.
Scott, Chris
Li, Yuncho
Application Number:
JP2020563673A
Publication Date:
September 02, 2021
Filing Date:
May 07, 2019
Export Citation:
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Assignee:
Keiei Imaging Incorporated
International Classes:
G01T1/24; G01T1/20; H01L27/144; H01L27/146; H04N5/32; H04N5/374
Domestic Patent References:
JP2012531046A2012-12-06
JP2018505565A2018-02-22
JP2016019110A2016-02-01
JP2013516609A2013-05-13
JP2015181563A2015-10-22
JP2014130892A2014-07-10
JP2007524234A2007-08-23
Foreign References:
US20090290680A12009-11-26
Other References:
ALIREZA PARSAFAR, ET AL: "Direct-Conversion CMOS X-ray Imager with 5.6umx6.25um Pixcels", IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, vol. 36, no. 5, JPN7023001433, May 2015 (2015-05-01), US, pages 481 - 483, ISSN: 0005034007
Attorney, Agent or Firm:
Asamura patent office



 
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