Title:
薄膜の異方性堆積のためのリボンビームプラズマ化学気相堆積システム
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023507112
Kind Code:
A
Abstract:
リボンビームプラズマ化学気相堆積（PECVD）システムは、基板を支持するためのプラテンを含むプロセスチャンバ、及び、プロセスチャンバに隣接して配置され、プラズマチャンバ内でフリーラジカルを生成するように適合されたプラズマ源を備え、プラズマチャンバは、フリーラジカルのビームがプラズマチャンバから出ることを可能にするために関連付けられた開口を有し、プロセスチャンバは、第１の圧力に維持され、プラズマチャンバは、プラズマチャンバからプロセスチャンバの中へフリーラジカルを駆動するために、第１の圧力よりも高い第２の圧力に維持される。【選択図】図１
Inventors:
Hautara, John
Ma, Tristan Wye.
Krunch, Peter F.
Ma, Tristan Wye.
Krunch, Peter F.
Application Number:
JP2022536556A
Publication Date:
February 21, 2023
Filing Date:
October 25, 2020
Export Citation:
Assignee:
APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
International Classes:
H01J27/02; C23C16/513; H01J37/08; H01J37/317; H01L21/31; H05H1/46
Attorney, Agent or Firm:
Sonoda & Kobayashi Patent Attorneys Corporation
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