Title:
塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024041070
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】良好なＣＤ均一性を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】環状単酸エステル構造を有する特定構造のスルホニウムカチオンと、不飽和二重結合を有しかつα位の炭素原子がフッ素原子等で置換されている特定構造のスルホン酸アニオンとの塩又は該塩に由来する構造単位を含有する樹脂による酸発生剤、及び該酸発生剤を含有するレジスト組成物。【選択図】なし
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Inventors:
Shohei Terato
Ryoken Aono
Koji Ichikawa
Ryoken Aono
Koji Ichikawa
Application Number:
JP2023148394A
Publication Date:
March 26, 2024
Filing Date:
September 13, 2023
Export Citation:
Assignee:
Sumitomo Chemical Co., Ltd.
International Classes:
G03F7/004; C07D317/36; C08F220/10; C09K3/00; G03F7/039; G03F7/20
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Shinju Global IP