Title:
ステージ、成膜装置、および膜加工装置
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2024026478
Kind Code:
A
Abstract:
【課題】基板の温度を精密に制御するためのステージを提供する【解決手段】ステージは、ステージは、第１の支持プレート、第１の支持プレート下の第２の支持プレート、第２の支持プレートの下に位置し、第１の支持プレートと第２の支持プレートと重なるシャフト、および第２の支持プレートを貫通する少なくとも一つのシースヒータを備える。少なくとも一つのシースヒータは、第２の支持プレートの上面に平行であり、かつ、第１の支持プレートからの距離が異なる第１の面上と第２の面上を延伸するように配置される。【選択図】図２
Inventors:
Toshihiko Hanmachi
Arata Tatsumi
Kenji Sekiya
Naoya Aikawa
Arata Tatsumi
Kenji Sekiya
Naoya Aikawa
Application Number:
JP2023216573A
Publication Date:
February 28, 2024
Filing Date:
December 22, 2023
Export Citation:
Assignee:
Nippon Jojo Co., Ltd.
International Classes:
H05B3/68; C23C14/50; C23C16/46; H01L21/205; H01L21/3065; H01L21/31; H01L21/683
Attorney, Agent or Firm:
Patent Attorney Corporation Takahashi Hayashi and Partners
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