KONDO ASAKO (JP)
NAGATSUKA SHINYA (JP)
ARAI HIDEHIRO (JP)
KONDO ASAKO (JP)
NAGATSUKA SHINYA (JP)
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Hiroshi Asamura (JP)
| 下記式(1) (式中、R 11 、R 12 及びR 13 は、それぞれ独立に、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、または(C1-C10)アルキル基を示し、ここで、置換基群Aは、水酸基、ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C10)アルキル基、(C1-C10)アルキルアミノ基、ジ(C1-C10)アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基および(C1-C10)アルコキシ基を意味する。)で表されるホスフィン酸エステル化合物; 下記式(2) (式中、R 21 は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基を示し;R 22 は、置換基群Aによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基を示し;R 23 は、置換基群Aによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アルコキシ基によって置換されていてもよい)を示し、ここで、置換基群Aは、上記定義と同じである。)で表されるホスホン酸エステル化合物; 下記式(3) (式中、R 31 、R 32 及びR 33 は、それぞれ独立に、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、または(C1-C10)アルキル基を示し;R 34 は、水素原子、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、または(C1-C10)アルキル基を示し、ここで、置換基群Aは、上記定義と同じである。)で表されるホスフィン酸アミド化合物; 下記式(4) (式中、R 41 は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基を示し;R 42 は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アルコキシ基によって置換されていてもよい)を示し;R 43 は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基を示し;R 44 は、水素原子、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または置換基群Aによって置換されていてもよい(C1-C10)アルキル基を示し、ここで、置換基群Aは、上記定義と同じである。)で表されるホスホン酸アミド化合物;および、 下記式(5) (式中、R 51 、R 52 及びR 53 は、それぞれ独立に、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、または(C1-C10)アルキル基を示し;R 54 及びR 55 は、それぞれ独立に、水素原子、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、または(C1-C10)アルキル基を示し、ここで、置換基群Aは、上記定義と同じである。)で表されるホスホン酸ジアミドから選ばれる少なくとも1種の有機リン系化合物またはそれらの塩と、界面活性剤とを含有する水性分散液。 |
| 置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基が(C1-C10)アルキルフェニル基、ビフェニル基または(C1-C10)アルコキシフェニル基である請求項1に記載の水性分散液。 |
| 式(1)から式(5)で表される有機リン系化合物を水性分散液中に総量で1から90重量%含有する請求項1または2に記載の水性分散液。 |
| 界面活性剤が非イオン型界面活性剤またはアニオン型界面活性剤、あるいはその両者である請求項1から3のいずれか一項に記載の水性分散液。 |
| 更に、紫外線吸収剤を含有する請求項1から4のいずれか一項に記載の水性分散液。 |
| 繊維用の防炎剤として使用するための請求項1から5のいずれか一項に記載の水性分散液。 |
| 繊維がポリエステル繊維である請求項6に記載の水性分散液。 |
| ポリエステル繊維がカチオン可染型ポリエステル繊維またはカチオン可染型ポリエステル繊維を含有する混紡繊維である請求項7に記載の水性分散液。 |
| 請求項1から8のいずれか一項に記載の水性分散液を用いることを特徴とする繊維の防炎加工方法。 |
| 請求項9に記載の方法により防炎加工された繊維。 |
| 下記式(2) (式中、R 21 は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、または置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基を示し;R 22 は、置換基群Aによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基を示し;R 23 は、置換基群Aによって置換されていてもよいフェニル基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アルコキシ基によって置換されていてもよい)を示し、ここで、置換基群Aは、上記定義と同じである。)で表されるホスホン酸エステル化合物、または 式(4) (式中、R 41 は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、または置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基を示し;R 42 は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリールオキシ基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アルコキシ基によって置換されていてもよい)を示し;R 43 は、置換基群Aによって置換されていてもよいアリール基、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)アルキル基を示し;R 44 は、水素原子、置換基群Aによって置換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、または置換基群Aによって置換されていてもよい(C1-C10)アルキル基を示し、ここで、置換基群Aは、上記定義と同じである。)で表されるホスホン酸アミド化合物、あるいはそれらの塩。 |
| R 21 が水酸基、ニトロ基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基;水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、ニトロ基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキル基であり;R 22 がニトロ基、(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキル基であり;R 23 が水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキルオキシ基、(C1-C6)アルコキシ基、水酸基、アミノ基、(C1-C6)アルキルアミノ基、カルボキシ基若しくはウレイド基によって置換されていてもよい(C1-C6)アルキル基;または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキル基である請求項11記載のホスホン酸エステル化合物あるいはその塩。 |
| R 21 がフェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ニトロベンジル基、またはビフェニル基;R 22 が(C1-C6)アルキル基、ニトロ基、またはフェニル基で置換されていてもよいフェニル基;R 23 がフェノキシ基で置換されている(C1-C6)アルキル基、ベンジル基またはフェネチル基である請求項11または12に記載のホスホン酸エステル化合物あるいはその塩。 |
| R 41 が水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基;水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、ニトロ基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキル基であり;R 42 が水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、(C7-C12)アラルキル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、(C7-C12)アラルキル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキル基、またはフェノキシ基によって置換されていてもよい(C1-C6)アルキル基であり;R 43 が水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよいナフチル基、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキル基であり;R 44 が(C1-C6)アルキル基または水素原子である請求項11記載のホスホン酸アミド化合物あるいはその塩。 |
| R 41 がフェニル基、p-メトキシフェニル基、またはベンジル基であり;R 42 が(C1-C6)アルキル基、フェニル基、ベンジル基、フェネチル基若しくはフェニルプロピル基によって置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基;水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキル基または2-フェノキシエチル基であり;R 43 がフェニル基、ベンジル基またはフェネチル基であり;R 44 がメチル基、エチル基または水素原子である請求項11または14に記載のホスホン酸アミド化合物あるいはその塩。 |
本発明は、有機リン系化合物の水性分散 とそれを用いる防炎加工方法に関する。更 詳細には、合成繊維構造物に有機リン系化 物にて、耐久性にすぐれる防炎性能を付与 ることができる防炎加工用の水性分散液と 炎加工方法及びそれにより防炎加工された 維、並びに新規な有機リン系化合物に関す 。
従来、繊維に後加工処理によって防炎性 を付与する方法としては、ハロゲン系化合 を水に分散させて防炎加工剤とし、これを いて繊維を防炎加工する方法が知られてい 。上記のハロゲン系化合物の代表例として 、1,2,5,6,9,10-ヘキサブロモシクロドデカンの ような臭素化シクロアルカンが挙げられる。 ハロゲン系化合物の防炎性能は一般に高いこ とが知られているが、防炎加工された繊維が 燃焼すると有害なハロゲン化ガスが発生し、 これが人体ならびに自然環境に有害な影響を 及ぼす等の問題がある。従って、近年、防炎 剤としてハロゲン系化合物を用いることが規 制されるに至っている。
そこで、ハロゲン系化合物に代わる防炎剤
して有機リン酸エステルのようなリン系化
物を用いた防炎剤及びそれを用いる繊維の
炎加工方法等が提案されている(特許文献1
ら4)。
しかし、これらのリン系化合物を用いた場
には、繊維、特にCDP(カチオン可染型ポリエ
ステル)繊維とポリエステル繊維との混紡繊
や、抗菌加工、消臭加工、表面加工等の種
の機能性を付与された繊維には十分な防炎
能を付与することができなかった。
また、特許文献5には防炎用リン系化合物と
してホスホン酸ナフチルエステル化合物が記
載されているが耐光性が低い等の問題点があ
った。
また、非特許文献1から2にはホスホン酸化
物が記載されているが、防炎性能について
記載はない。
本発明の課題は、繊維、特にCDP繊維とポ エステル繊維との混紡繊維や、機能性を付 した繊維に、耐久性のある優れた防炎性能 付与することができる防炎加工用の水性分 液と防炎加工方法及びそれにより防炎加工 れた繊維、並びに新規な有機リン系化合物 提供することにある。
本発明者等は上記課題を解決する為に鋭 研究した結果、特定の有機リン系化合物を いることによって、耐久性にすぐれる防炎 能を繊維に付与することができることを見 して、本発明に至ったものである。
即ち、本発明は以下の[1]から[15]に関する。
[1]. 下記式(1)
(式中、R 11
、R 12
及びR 13
は、それぞれ独立に、置換基群Aによって置
されていてもよいアリール基、または(C1-C10)
アルキル基を示し、ここで、置換基群Aは、
酸基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、ホ
ミル基、カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C10)
アルキル基、(C1-C10)アルキルアミノ基、ジ(C1-
C10)アルキルアミノ基、フェニル基、フェノ
シ基および(C1-C10)アルコキシ基を意味する。
)で表されるホスフィン酸エステル化合物;
下記式(2)
(式中、R 21
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 22
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
フェニル基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 23
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
フェニル基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによ
て置換されていてもよいアリールオキシ基
置換基群Aによって置換されていてもよい(C7
-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アル
キシ基によって置換されていてもよい)を示
、ここで、置換基群Aは、上記定義と同じで
ある。)で表されるホスホン酸エステル化合
;
下記式(3)
(式中、R 31
、R 32
及びR 33
は、それぞれ独立に、置換基群Aによって置
されていてもよいアリール基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 34
は、水素原子、置換基群Aによって置換され
いてもよいアリール基、または(C1-C10)アルキ
ル基を示し、ここで、置換基群Aは、上記定
と同じである。)で表されるホスフィン酸ア
ド化合物;
下記式(4)
(式中、R 41
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 42
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによ
て置換されていてもよいアリールオキシ基
置換基群Aによって置換されていてもよい(C7
-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アル
キシ基によって置換されていてもよい)を示
;R 43
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 44
は、水素原子、置換基群Aによって置換され
いてもよいアリール基、置換基群Aによって
換されていてもよい(C7-C15)アラルキル基、
たは置換基群Aによって置換されていてもよ
(C1-C10)アルキル基を示し、ここで、置換基
Aは、上記定義と同じである。)で表されるホ
スホン酸アミド化合物;および、
下記式(5)
(式中、R 51
、R 52
及びR 53
は、それぞれ独立に、置換基群Aによって置
されていてもよいアリール基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 54
及びR 55
は、それぞれ独立に、水素原子、置換基群A
よって置換されていてもよいアリール基、
たは(C1-C10)アルキル基を示し、ここで、置換
基群Aは、上記定義と同じである。)で表され
ホスホン酸ジアミドから選ばれる少なくと
1種の有機リン系化合物またはそれらの塩と
、界面活性剤とを含有する水性分散液;
[2]. 置換基群Aによって置換されていてもよ
いアリール基が(C1-C10)アルキルフェニル基、
フェニル基または(C1-C10)アルコキシフェニ
基である上記[1]に記載の水性分散液;
[3]. 式(1)から式(5)で表される有機リン系化
物を水性分散液中に総量で1から90重量%含有
する上記[1]または[2]に記載の水性分散液;
[4]. 界面活性剤が非イオン型界面活性剤ま
はアニオン型界面活性剤、あるいはその両
である上記[1]から[3]のいずれか一項に記載
水性分散液;
[5]. 更に、紫外線吸収剤を含有する上記[1]
ら[4]のいずれか一項に記載の水性分散液;
[6]. 繊維用の防炎剤として使用するための
記[1]から[5]のいずれか一項に記載の水性分
液;
[7]. 繊維がポリエステル繊維である上記[6]
記載の水性分散液;
[8]. ポリエステル繊維がカチオン可染型ポ
エステル繊維またはカチオン可染型ポリエ
テル繊維を含有する混紡繊維である上記[7]
記載の水性分散液;
[9]. 上記[1]から[8]のいずれかに記載の水 分散液を用いることを特徴とする繊維の防 加工方法;
[10]. 上記[9]に記載の方法により防炎加工 された繊維;
[11]. 下記式(2)
(式中、R 21
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、または置換基群Aによって置換
れていてもよい(C7-C15)アラルキル基を示し;R
22
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
フェニル基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 23
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
フェニル基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによ
て置換されていてもよいアリールオキシ基
置換基群Aによって置換されていてもよい(C7
-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アル
キシ基によって置換されていてもよい)を示
、ここで、置換基群Aは、上記定義と同じで
ある。)で表されるホスホン酸エステル化合
、または
下記式(4)
(式中、R 41
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、または置換基群Aによって置換
れていてもよい(C7-C15)アラルキル基を示し;R
42
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによ
て置換されていてもよいアリールオキシ基
置換基群Aによって置換されていてもよい(C7
-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アル
キシ基によって置換されていてもよい)を示
;R 43
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 44
は、水素原子、置換基群Aによって置換され
いてもよい(C7-C15)アラルキル基、または置換
基群Aによって置換されていてもよい(C1-C10)ア
ルキル基を示し、ここで、置換基群Aは、上
定義と同じである。)で表されるホスホン酸
ミド化合物、あるいはそれらの塩;
[12]. R 21
が水酸基、ニトロ基、シアノ基、(C1-C6)アル
ル基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ
によって置換されていてもよいフェニル基
水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェ
ニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって
換されていてもよいナフチル基、または水
基、ニトロ基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基
フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によ
って置換されていてもよい(C7-C12)アラルキル
であり;R 22
がニトロ基、(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキ
アミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、フェ
ニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって
換されていてもよいフェニル基、または水
基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基
ウレイド基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基
フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキシ基に
よって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキ
基であり;R 23
が水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フ
ニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって
換されていてもよい(C7-C12)アラルキルオキ
基、(C1-C6)アルコキシ基、水酸基、アミノ基
(C1-C6)アルキルアミノ基、カルボキシ基若し
くはウレイド基によって置換されていてもよ
い(C1-C6)アルキル基;または水酸基、シアノ基
ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、(
C1-C6)アルキル基、フェニル基、フェノキシ基
若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換さ
ていてもよい(C7-C12)アラルキル基である上記
[11]記載のホスホン酸エステル化合物あるい
その塩;
[13]. R 21
がフェニル基、トリル基、ニトロフェニル基
、ニトロベンジル基、またはビフェニル基;R 22
が(C1-C6)アルキル基、ニトロ基、またはフェ
ル基で置換されていてもよいフェニル基;R 23
がフェノキシ基で置換されている(C1-C6)アル
ル基、ベンジル基またはフェネチル基であ
上記[11]または[12]に記載のホスホン酸エステ
ル化合物あるいはその塩;
[14]. R 41
が水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フ
ニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって
換されていてもよいフェニル基、水酸基、
アノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基若し
くは(C1-C6)アルコキシ基によって置換されて
てもよいナフチル基、または水酸基、ニト
基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル
若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換さ
れていてもよい(C7-C12)アラルキル基であり;R 42
が水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アル
ル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アル
キルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、
(C7-C12)アラルキル基若しくは(C1-C6)アルコキシ
基によって置換されていてもよいフェニル基
、水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アル
ル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アル
キルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、
(C7-C12)アラルキル基若しくは(C1-C6)アルコキシ
基によって置換されていてもよいナフチル基
、水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキ
シ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル基、フェ
ル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキ
基によって置換されていてもよい(C7-C12)ア
ルキル基、またはフェノキシ基によって置
されていてもよい(C1-C6)アルキル基であり;R 43
が水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アル
ル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アル
キルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若
しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換され
いてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基
シアノ基、(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキル
アミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、フェ
ル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキ
基によって置換されていてもよいナフチル
、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、
ルボキシ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル基
、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)
ルコキシ基によって置換されていてもよい(C
7-C12)アラルキル基であり;R 44
が(C1-C6)アルキル基または水素原子である上
[11]のホスホン酸アミド化合物あるいはその
;および
[15]. R 41
がフェニル基、p-メトキシフェニル基、また
ベンジル基であり;R 42
が(C1-C6)アルキル基、フェニル基、ベンジル
、フェネチル基若しくはフェニルプロピル
によって置換されていてもよいフェニル基
ナフチル基;水酸基、シアノ基、ホルミル基
カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル
基、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6
)アルコキシ基によって置換されていてもよ
(C7-C12)アラルキル基または2-フェノキシエチ
基であり;R 43
がフェニル基、ベンジル基またはフェネチル
基であり;R 44
がメチル基、エチル基または水素原子である
上記[11]または[14]に記載のホスホン酸アミド
合物あるいはその塩。
本発明で提供される前記式(1)から(5)で表 れる有機リン系化合物と界面活性剤とを含 する水性分散液は、防炎剤として優れてお 、これを用いて繊維に防炎加工を施すこと よって、耐光性、耐久性を有する優れた防 性能を付与することができる。また、前記 (2)および(4)で表される有機リン系化合物の の大部分のホスホン酸エステル化合物およ ホスホン酸アミド化合物は、新規化合物で る。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において(C1-C10)アルキル基として 、炭素数1から10の直鎖、分岐鎖、環状のア キル基が挙げられ、例えば、メチル基、エ ル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブ ル基、s-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル 基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル 基、n-デシル基、シクロプロピル基、シクロ ンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ 。(C1-C6)アルキル基としては、炭素数1から6 直鎖、分岐鎖、環状のアルキル基が挙げら 、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピ 基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル 、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基 、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シ クロヘキシル基等が挙げられる。
本発明において(C1-C10)アルコキシ基とは 上記の(C1-C10)アルキル基が酸素原子に結合し た基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ 基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n- トキシ基、s-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n- ンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-オ チルオキシ基、n-デシルオキシ基、シクロ ンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基 が挙げられる。(C1-C6)アルコキシ基とは、上 の(C1-C6)アルキル基が酸素原子に結合した基 であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、 n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブト シ基、s-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペン ルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、シクロペ ンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等 が挙げられる。
本発明において(C1-C10)アルキルアミノ基 は、上記の(C1-C10)アルキル基1個が窒素原子 結合した基であり、例えば、メチルアミノ 、エチルアミノ基、n-プロピルアミノ基、イ ソプロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、t- チルアミノ基、n-ペンチルアミノ基、n-ヘキ ルアミノ基、n-オクチルアミノ基、n-デシル アミノ基、シクロプロピルアミノ基、シクロ ペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基 等が挙げられる。(C1-C6)アルキルアミノ基と 、上記の(C1-C6)アルキル基1個が窒素原子に結 合した基であり、例えば、メチルアミノ基、 エチルアミノ基、n-プロピルアミノ基、イソ ロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、t-ブチ ルアミノ基、n-ペンチルアミノ基、n-ヘキシ アミノ基、シクロペンチルアミノ基、シク ヘキシルアミノ基等が挙げられる。
本発明においてジ(C1-C10)アルキルアミノ とは、上記の(C1-C10)アルキル基2個が窒素原 に結合した基であり、例えば、ジメチルア ノ基、ジエチルアミノ基、ジ(n-プロピル)ア ノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ(n-ブチ )アミノ基、ジ(t-ブチル)アミノ基、ジ(n-ペ チル)アミノ基、ジ(n-ヘキシル)アミノ基、ジ (n-オクチル)アミノ基、ジ(n-デシル)アミノ基 ジシクロプロピルアミノ基、ジシクロペン ルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基等 挙げられる。ジ(C1-C6)アルキルアミノ基とは 、上記の(C1-C6)アルキル基2個が窒素原子に結 した基であり、例えば、ジメチルアミノ基 ジエチルアミノ基、ジ(n-プロピル)アミノ基 、ジイソプロピルアミノ基、ジ(n-ブチル)ア ノ基、ジ(t-ブチル)アミノ基、ジ(n-ペンチル) アミノ基、ジ(n-ヘキシル)アミノ基、ジシク ペンチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミ 基等が挙げられる。
本発明においてアリール基としては、フ ニル基、ナフチル基等が挙げられる。
本発明において(C7-C15)アラルキル基とは フェニル基、ナフチル基等にアルキル基が 合した基であり、例えば、ベンジル基、フ ネチル基、フェニルプロピル基、フェニル チル基、フェニルペンチル基、フェニルヘ シル基、フェニルオクチル基、ナフチルメ ル基、ナフチルエチル基、ナフチルプロピ 基等が挙げられる。(C7-C12)アラルキル基とは 、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェ ニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニ ルペンチル基、ナフチルメチル基、ナフチル エチル基等が挙げられる。
本発明においてアリールオキシ基として 、フェニルオキシ基あるいはナフチルオキ 基等が挙げられる。
本発明において(C7-C15)アラルキルオキシ とは、上記した(C7-C15)アラルキル基に酸素原 子が結合した基であり、例えば、ベンジルオ キシ基、フェネチルオキシ基、フェニルプロ ピルオキシ基、フェニルブチルオキシ基、フ ェニルペンチルオキシ基、フェニルヘキシル オキシ基、フェニルオクチルオキシ基、ナフ チルメトキシ基、ナフチルエトキシ基、ナフ チルプロピルオキシ基等が挙げられる。(C7-C1 2)アラルキルオキシ基とは、上記した(C7-C12) ラルキル基に酸素原子が結合した基であり 例えば、ベンジルオキシ基、フェネチルオ シ基、フェニルプロピルオキシ基、フェニ ブチルオキシ基、フェニルペンチルオキシ 、ナフチルメトキシ基、ナフチルエトキシ 等が挙げられる。
本発明において置換基群Aとは、水酸基、 ニトロ基、アミノ基、シアノ基、ホルミル基 、カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C10)アルキ 基、(C1-C10)アルキルアミノ基、ジ(C1-C10)アル キルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基お よび(C1-C10)アルコキシ基を意味する。これら 置換基群Aから選ばれる置換基は、各官能基 に、通常1個から3個置換される。
特に、本発明において置換基群Aによって 置換されていてもよいアリール基としては、 (C1-C10)アルキルフェニル基、ビフェニル基ま は(C1-C10)アルコキシフェニル基、フェノキ フェニル基、ニトロフェニル基等が好まし 。
本発明の防炎加工に用いる水性分散液に含 される前記式(1)から(5)で表される有機リン 化合物におけるR 11 乃至R 13 、R 31 乃至R 33 、R 41 乃至R 43 、R 51 乃至R 53 として好ましい基としては、フェニル基、メ チルフェニル基、ビフェニル基、メトキシフ ェニル基、フェノキシフェニル基、ベンジル 基が挙げられ、中でもフェニル基、ビフェニ ル基、メトキシフェニル基が特に好ましい。 R 34 、R 44 、R 54 、R 55 としては水素原子が好ましい。R 21 乃至R 23 としては、フェニル基、メチルフェニル基、 メトキシフェニル基、ニトロフェニル基、フ ェノキシフェニル基、ベンジル基、ビフェニ ル基、ニトロベンジル基が好ましく挙げられ 、フェニル基、ビフェニル基、メトキシフェ ニル基が特に好ましい。
次に、本発明に含まれる前記式(2)で表される
化合物のうち、新規リン系化合物について説
明する。
即ち、式(2)において、R 21
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、または置換基群Aによって置換
れていてもよい(C7-C15)アラルキル基を示し;R
22
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
フェニル基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 23
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
フェニル基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによ
て置換されていてもよいアリールオキシ基
置換基群Aによって置換されていてもよい(C7
-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アル
キシ基によって置換されていてもよい)であ
、ホスホン酸エステル化合物は新規化合物
ある。
ここで、R 21
が水酸基、シアノ基、ニトロ基、(C1-C6)アル
ル基、フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ
によって置換されていてもよいフェニル基;
水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェ
ル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置
されていてもよいナフチル基、または水酸
、ニトロ基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、
フェニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によ
て置換されていてもよい(C7-C12)アラルキル基
であり;R 22
がニトロ基、(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキ
アミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、フェ
ニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって
換されていてもよいフェニル基、または水
基、シアノ基、ホルミル基、カルボキシ基
ウレイド基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基
フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキシ基に
よって置換されていてもよい(C7-C12)アラルキ
基であり;R 23
が水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フ
ニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって
換されていてもよい(C7-C12)アラルキルオキ
基、(C1-C6)アルコキシ基、水酸基、アミノ基
(C1-C6)アルキルアミノ基、カルボキシ基若し
くはウレイド基によって置換されていてもよ
い(C1-C6)アルキル基;または水酸基、シアノ基
ホルミル基、カルボキシ基、ウレイド基、(
C1-C6)アルキル基、フェニル基、フェノキシ基
若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換さ
ていてもよい(C7-C12)アラルキル基であるホス
ホン酸エステル化合物が好ましい。特に、R 21
がフェニル基、トリル基、ニトロフェニル基
、ニトロベンジル基、またはビフェニル基;R 22
がニトロ基、(C1-C6)アルキル基またはフェニ
基で置換されていてもよいフェニル基;R 23
がフェニル基、フェノキシ基で置換されてい
る(C1-C6)アルキル基、ベンジル基またはフェ
チル基であるホスホン酸エステル化合物が
ましい。
中でも、特に、式(2)におけるR 21 としては、フェニル基、メチルフェニル基、 ビフェニル基、メトキシフェニル基、ニトロ フェニル基、ベンジル基、ニトロベンジル基 、フェネチル基が好ましく、中でもフェニル 基、メトキシフェニル基、ベンジル基が特に 好ましく、フェニル基が殊更好ましい。R 22 としては、フェニル基、メチルフェニル基、 ビフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジ ル基、フェネチル基が特に好ましく、中でも フェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル 基が殊更好ましい。R 23 としては、フェニル基、ベンジル基、フェネ チル基、フェノキシエチル基が好ましい。
本発明に含まれる前記式(4)で表される化合
のうち、新規リン系化合物について説明す
。
即ち、式(4)において、R 41
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、または置換基群Aによって置換
れていてもよい(C7-C15)アラルキル基を示し;R
42
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基(該アルキル基は、置換基群Aによ
て置換されていてもよいアリールオキシ基
置換基群Aによって置換されていてもよい(C7
-C15)アラルキルオキシ基、または(C1-C10)アル
キシ基によって置換されていてもよい)を示
;R 43
は、置換基群Aによって置換されていてもよ
アリール基、置換基群Aによって置換されて
てもよい(C7-C15)アラルキル基、または(C1-C10)
アルキル基を示し;R 44
は、水素原子、置換基群Aによって置換され
いてもよい(C7-C15)アラルキル基、または置換
基群Aによって置換されていてもよい(C1-C10)ア
ルキル基である、ホスホン酸アミド化合物は
新規化合物である。
ここで、R 41
が水酸基、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フ
ニル基若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって
換されていてもよいフェニル基;水酸基、シ
アノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基若し
は(C1-C6)アルコキシ基によって置換されてい
もよいナフチル基、または水酸基、ニトロ
、シアノ基、(C1-C6)アルキル基、フェニル基
若しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換さ
ていてもよい(C7-C12)アラルキル基であり;R 42
が水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アル
ル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アル
キルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、
(C7-C12)アラルキル基若しくは(C1-C6)アルコキシ
基によって置換されていてもよいフェニル基
、水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アル
ル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アル
キルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基、
(C7-C12)アラルキル基若しくは(C1-C6)アルコキシ
基によって置換されていてもよいナフチル基
、水酸基、シアノ基、ホルミル基、カルボキ
シ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル基、フェ
ル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキ
基によって置換されていてもよい(C7-C12)ア
ルキル基、またはフェノキシ基によって置
されていてもよい(C1-C6)アルキル基であり;R 43
が水酸基、アミノ基、シアノ基、(C1-C6)アル
ル基、(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C1-C6)アル
キルアミノ基、フェニル基、フェノキシ基若
しくは(C1-C6)アルコキシ基によって置換され
いてもよいフェニル基、水酸基、アミノ基
シアノ基、(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキル
アミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、フェ
ル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)アルコキ
基によって置換されていてもよいナフチル
、または水酸基、シアノ基、ホルミル基、
ルボキシ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキル基
、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-C6)
ルコキシ基によって置換されていてもよい(C
7-C12)アラルキル基であり;R 44
が(C1-C6)アルキル基または水素原子である、
スホン酸アミド化合物が好ましい。
特に、R 41
がフェニル基、p-メトキシフェニル基、また
ベンジル基;R 42
が(C1-C6)アルキル基、フェニル基、ベンジル
、フェネチル基若しくはフェニルプロピル
によって置換されていてもよいフェニル基
ナフチル基、水酸基、シアノ基、ホルミル
、カルボキシ基、ウレイド基、(C1-C6)アルキ
基、フェニル基、フェノキシ基若しくは(C1-
C6)アルコキシ基によって置換されていてもよ
い(C7-C12)アラルキル基または2-フェノキシエ
ル基であり;R 43
がフェニル基、ベンジル基またはフェネチル
基であり;R 44
がメチル基、エチル基または水素原子である
、ホスホン酸アミド化合物が好ましい。
中でも、特に、式(4)におけるR 41 としては、フェニル基、メチルフェニル基、 ビフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジ ル基、フェネチル基が好ましく、中でもフェ ニル基、メトキシフェニル基、ベンジル基が 特に好ましく、フェニル基が殊更好ましい。 R 42 としては、特に好ましくはフェニル基、ベン ジル基、フェネチル基、フェノキシエチル基 等が挙げられる。R 43 としては、フェニル基、メチルフェニル基、 ビフェニル基、メトキシフェニル基、ベンジ ル基、フェネチル基が特に好ましく、中でも フェニル基、メトキシフェニル基、ベンジル 基、フェネチル基が特に好ましく、フェニル 基、ベンジル基またはフェネチル基が殊更好 ましい。R 44 としては、メチル基、エチル基、水素原子が 特に好ましい。
式(1)から式(5)の有機リン系化合物は、そ らの塩であってもよい。塩としては、例え 、リチウム、ナトリウム、カリウム、アン ニウム等との塩が挙げられ、ナトリウム塩 びアンモニウム塩が好ましい。
式(1)、式(3)および式(5)の有機リン系化合 は、公知の方法あるいは公知の方法を応用 て製造することができる。また、式(2)およ 式(4)の有機リン系化合物の一部の公知化合 は、公知の方法によって製造することがで る。式(2)および式(4)の有機リン系化合物の の上記した新規化合物は、公知の方法を応 して製造することができる。具体的には、 えば、非特許文献2等の文献に記載の類縁化 合物の製造法を参考にして製造することがで きる。例えば、目的化合物に応じたハロゲン 化リン系化合物とアルコール類、フェノール 類またはアミン類とを無溶媒または有機溶媒 中、必要に応じて塩基存在下で反応させる方 法により製造することができる。実施例に使 用している化合物についてはその製造法を後 記しているが、本発明の式(2)の新規ホスホン 酸エステル化合物および式(4)の新規ホスホン 酸アミド化合物の製造法はこれらに限定され ない。
本発明の水性分散液は、式(1)から(5)の有 リン系化合物から選らばれる少なくとも1種 の化合物またはそれらの塩と界面活性剤を用 いることを特徴とする。また、より耐光堅牢 度を向上させる目的で紫外線吸収剤を含有し てもよい。
界面活性剤はカチオン型、非イオン型及 アニオン型が知られており、本発明の水性 散液に含有される界面活性剤としては、い れの種類でも使用することが可能である。 発明の水性分散液を調製する場合には、非 オン型またはアニオン型、または非イオン とアニオン型とを混合して用いる。
該アニオン界面活性剤としては、高級ア コール硫酸エステル塩、高級アルキルエー ル硫酸エステル塩、硫酸化脂肪酸エステル のアルキルスルフェート塩やアルキルベン ンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスル ン酸塩等のアルキルスルホネート塩、更に 、高級アルコールリン酸エステル塩、高級 ルコールのアルキレンオキシド付加物、リ 酸エステル塩等のアルキルホスフェート塩 挙げられる。また、アルキルアリールスル ネート塩、ポリオキシアルキレンアルキル ーテルスルフェート塩、ポリオキシアルキ ンアルキルエステルホスフェート塩、ポリ キシアルキレンアルキルエーテルカルボキ レート塩、ポリカルボン酸塩、ロート油、 油スルホネート、アルキルジフェニルエー ルスルホネート塩が挙げられる。好ましく 、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニ エーテル硫酸エステル塩、若しくはポリオ シエチレントリスチレン化フェニルエーテ 硫酸エステル塩である。
上記のうち特に好ましいアニオン界面活性
は、下記式(107)
(式中、Rは、水素原子、(C1-C18)アルキル基、
チリル基またはベンジル基を示し、nは1~15の
整数を示す。)で表されるポリオキシエチレ
フェニルエーテルの硫酸エステル、あるい
下記式(31)
(式中R’は(C8-C30)アルキル基または(C8-C30)アル
キルアリール基を、nは1~30の整数を、R’’は
水素原子またはR’O(CH 2
CH 2
O) n
基を示す。)で表されるポリオキシエチレン
ルキルアリルエーテルのリン酸エステルが
げられる。
式(31)で表される化合物としては、例えば 、プライサーフAL(商品名、第一工業製薬(株) )等が挙げられる。
式(107)、式(31)では便宜上、遊離酸として 載したが、対カチオンとしてアルカリ金属 アンモニウム等である塩として使用しても く、該対カチオンとしては、例えば、リチ ム、ナトリウム、カリウム、アンモニウム が挙げられ、ナトリウム塩及びアンモニウ 塩としての使用が好ましい。
好ましい式(107)の化合物としては、Rが(C6- C12)直鎖アルキル基、nが4から12である化合物 挙げられ、Rがノニル基、nが7の化合物が特 好ましい。
非イオン型界面活性剤として、例えば、 リオキシエチレンスチレン化フェニルエー ル、ポリオキシエチレンジスチレン化フェ ルエーテルまたはポリオキシエチレントリ チレン化フェニルエーテル等を好ましく用 ることができる。
ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエ
テルとしては、例えば、下記式(108)
で表される化合物または式(108)で表される化
物の混合物が挙げられる。式(108)において
m’は1から3、n’は8から30の化合物が好まし
。
式(108)で表される化合物の混合物として 、例えば、第一工業製薬(株)製、商品名ノイ ゲンEA-87等が挙げられる。
界面活性剤は単独で用いてもよいし混合 て用いてもよい。即ち、アニオン型または イオン型をそれぞれ複数種類混合して用い もよいし、それぞれ複数種類のアニオン型 び非イオン型を混合してもよい。
本発明の水性分散液に含有されていてもよ
紫外線吸収剤としては、紫外線を吸収する
合物であれば特に制限無く使用することが
能である。また、該紫外線吸収剤は耐光堅
度をより向上させるために使用される。
紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル
系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベン
トリアゾール系化合物、ヒンダードアミン
化合物、トリアジン系化合物、桂皮酸系化
物、スチルベン系化合物;または、ベンズオ
キサゾール系化合物に代表される紫外線を吸
収して蛍光を発する化合物(所謂、蛍光増白
)も用いることができる。
好ましい紫外線吸収剤の構造式を下記に示
。
ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤であ 式(106)中、R 15 としては(C1-C12)直鎖または分岐鎖アルキル基 たはクミル基が挙げられ、より好ましくは( C3-C6)直鎖または分岐鎖アルキル基が挙げられ 、更に好ましくは(C3-C5)分岐鎖アルキル基が げられ、例えば、イソプロピル基、イソブ ル基、s-ブチル基、t-ブチル基、1-メチルブ ル基、2-メチルブチル基、3-メチルブチル基 1-エチルプロピル基等が挙げられる。
上記式(106)中、R 16 としては水酸基、(C1-C12)直鎖または分岐鎖ア キル基、(C1-C12)直鎖または分岐鎖アルコキ 基またはベンジルオキシ基が挙げられ、(C1-C 12)直鎖または分岐鎖アルキル基が好ましい。 より好ましくは(C1-C6)直鎖または分岐鎖のア キル基であり、更に好ましくは(C1-C3)直鎖ま は分岐鎖のアルキル基であり、例えば、メ ル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロ ル基が挙げられる。
式(106)中、R 17 としては水素原子、水酸基、(C1-C12)直鎖また 分岐鎖アルキル基または(C1-C12)直鎖または 岐鎖アルコキシ基が挙げられ、水素原子、 チル基、エチル基、n-プロピル基またはイソ プロピル基が好ましく、水素原子がより好ま しい。
式(106)中、R 18 としては水素原子または水酸基が挙げられ、 水酸基が好ましく、Xとしては水素原子また 塩素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい
特に好ましいR 15 からR 18 及びXの組合せとしては、R 15 がt-ブチル基、R 16 がメチル基、R 17 が水素原子、R 18 が水酸基、Xが塩素原子である。
また、式(106)で示されるベンゾトリアゾー 系化合物以外の紫外線吸収剤として好まし 化合物としては、式(101)、式(102)及び式(103) 表されるベンゾフェノン系化合物、式(104)で 表されるトリアジン系化合物(式中、R 9 及びR 10 はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基または (C1-C5)アルキル基を示す。)、式(105)で表され ベンゾトリアゾール系とベンゾフェノン系 複合系化合物(式中、R 1 は(C1-C2)アルキル基またはクミル基を、R 2 は水酸基、(C1-C2)アルコキシ基またはベンジ オキシ基を、R 3 は水素原子、水酸基または(C1-C2)アルコキシ を、R 4 は水素原子または水酸基を、Xは水素原子ま は塩素原子を示す。)が挙げられる。
上記の紫外線吸収剤の内、特に好ましい 合物は式(106)で表されるベンゾトリアゾー 系化合物である。
本発明の防炎剤の水性分散液における好ま
い態様としては以下のものが挙げられる。
即ち、式(1)、式(2)、式(3)、式(4)または式(5)
化合物は水性分散液中、通常、それらの化
物の総量が1-90重量%、好ましくは5-50重量%、
特に好ましくは5-30重量%の範囲で含有される
紫外線吸収剤を含有する場合、その含有 は水性分散液中、通常0.1-10重量%、好ましく は0.5-10重量%、特に好ましくは1-5重量%の範囲 含有される。
界面活性剤は有機リン系化合物及び任意 分である紫外線吸収剤の総量に対して、通 5-80重量%、好ましくは10-50重量%、特に好ま くは15-35重量%の範囲で含有される。
本発明の効果を損なわない範囲内におい 、必要に応じて、本発明の水性分散液には 記以外の界面活性剤や分散剤等の添加剤を んでいてもよい。更に必要に応じて、貯蔵 定性を高めるために、ポリビニルアルコー 、メチルセルロース、カルボキシメチルセ ロース、デンプン糊等の保護コロイド剤、 ン酸エステルやリン酸アミド等の防炎効果 高めるための防炎助剤、酸化防止剤等を含 でいてもよい。更に、必要に応じて、アル リ剤、酸類、油脂、高級アルコール類、高 脂肪酸、低級アルコール類、有機溶剤、浸 促進剤、多価アルコール、防腐剤、キレー 剤、pH調整剤、色素、及び顔料等を添加し もよい。
上記の各成分を水に加えることにより、 発明の水性分散液が調製される。
本発明の分散液により防炎加工し得る繊 としては特に限定されないが、ポリエステ 繊維、特にCDP繊維及びCDP繊維とポリエステ 繊維の混紡繊維が挙げられる。
CDP繊維やポリエステル繊維としては、例え
、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチ
ンテレフタレート、ポリオキシエトキシベ
ゾエート、ポリエチレンナフタレート、シ
ロヘキサンジメチレンテレフタレート等の
リエステルの繊維、及び上記のポリエステ
に、付加的成分として、イソフタル酸、ア
ピン酸、スルホイソフタル酸のようなジカ
ボン酸成分や、プロピレングリコール、ブ
レングリコール、シクロヘキサンジメタノ
ル、ジエチレングリコールのようなジオー
成分を共重合させた材質の繊維等を挙げる
とができるが、これらに限定されるもので
ない。
また、繊維構造物としては糸、織物、編物
不織布等のいずれの形態のものであっても
い。
本発明の水性分散液によって繊維を防炎 工するには、浸染同浴法やパディング法等 知の方法を用いることができる。
浸染同浴法を用いる場合には、繊維用の分
染料や、分散型カチオン染料等と水性分散
とを併用し、110-150℃、好ましくは120-140℃
範囲の温度で10-60分間程度加工処理を行う。
必要に応じて蛍光染料等の染料を更に加える
こともできる。
パディング法を用いる場合には、繊維構造
をパッド後、乾熱処理、または、飽和常圧
チーム処理、過熱スチーム処理若しくは高
スチーム処理等の蒸熱処理によって熱処理
る。乾熱処理、蒸熱処理のいずれにおいて
、熱処理温度は、通常110-210℃の範囲であり
、好ましくは170-210℃の範囲である。熱処理
度が210℃を超えるとポリエステル系合成繊
の黄変や脆化のおそれがある。
必要に応じて、浸染同浴法とパディング を併用してもよい。この場合には浸染同浴 で繊維に防炎加工を行った後、パディング により再加工するのがよい。この方法によ 、更に高い防炎性能を付与することもでき 。
以下に実施例によって本発明を更に具体的
説明するが、本発明がこれらの実施例のみ
限定されるものではない。実施例中「部」
び「%」と表記した場合には特に断りのない
限り、それぞれ「重量部」及び「重量%」を
す。
以下の実施例1-12及び比較例1-3で使用した有
機リン系化合物の構造式を、下記にまとめて
記載する。Meはメチル基、Phはフェニル基を
れぞれ表す。各化合物は文献公知の製造法
より、または該製造法を応用して製造でき
。
式(201)の化合物は、R 11
からR 13
の全てがフェニル基である前記式(1)の化合物
である。この化合物はジフェニルホスホン酸
クロリドとフェノール及びトリエチルアミン
をテトラヒドロフラン中、1時間加熱反応さ
合成することができる。
式(202)の化合物は、R 21
、R 22
及びR 23
がフェニル基である前記式(2)の化合物である
。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロ
リドとフェノール及びトリエチルアミンをテ
トラヒドロフラン中、1時間加熱反応させ合
することができる。
式(203)の化合物は、R 31
、R 32
、R 33
がフェニル基、R 34
が水素原子である前記式(3)の化合物である。
この化合物はジフェニルホスホン酸クロリド
とアニリン及びトリエチルアミンをテトラヒ
ドロフラン中、1時間加熱反応させ合成する
とができる。
式(204)の化合物は、R 41
、R 42
、R 43
がフェニル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリ
ドとフェノール及びトリエチルアミンをテト
ラヒドロフラン中、1時間加熱反応させた後
アニリンと1時間加熱反応させ合成すること
できる。
式(205)の化合物は、R 51
、R 52
、R 53
がフェニル基、R 54
、R 55
が水素原子である前記式(5)の化合物である。
この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリ
ドとアニリン及びトリエチルアミンをテトラ
ヒドロフラン中、1時間加熱反応させ合成す
ことができる。
式(206)の化合物はR 11
、R 12
がフェニル基、R 13
が3-メチルフェニル基である前記式(1)の化合
である。この化合物はジフェニルホスホン
クロリドとm-クレゾール及びトリエチルア
ンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反応
せ合成することができる。
式(207)の化合物は、R 21
がフェニル基、R 22
、R 23
が3-メチルフェニル基である前記式(2)の化合
である。この化合物はフェニルホスフィン
ジクロリドとm-クレゾール及びトリエチル
ミンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反
させ合成することができる。
式(208)の化合物は、R 11
、R 12
がフェニル基、R 13
が4-メチルフェニル基である前記式(1)の化合
である。この化合物はジフェニルホスホン
クロリドとp-クレゾール及びトリエチルア
ンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反応
せ合成することができる。
式(209)の化合物は、R 21
がフェニル基、R 22
、R 23
が4-メチルフェニル基である前記式(2)の化合
である。この化合物はフェニルホスフィン
ジクロリドとp-クレゾール及びトリエチル
ミンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反
させ合成することができる。
式(210)の化合物はR 11
、R 12
がフェニル基、R 13
が4-メトキシフェニル基である前記式(1)の化
物である。この化合物はジフェニルホスホ
酸クロリドとp-メトキシフェノール及びト
エチルアミンをテトラヒドロフラン中、1時
加熱反応させ合成することができる。
式(211)の化合物は、R 21
がフェニル基、R 22
、R 23
が4-メトキシフェニル基である前記式(2)の化
物である。この化合物はフェニルホスフィ
酸ジクロリドとp-メトキシフェノール及び
リエチルアミンをテトラヒドロフラン中、1
間加熱反応させ合成することができる。
式(212)の化合物は、R 41
、R 43
がフェニル基、R 42
がp-メトキシフェニル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロリ
ドとp-メトキシフェノール及びトリエチルア
ンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反応
させた後、アニリンと1時間加熱反応させ合
することができる。
式(301)の化合物は大八化学(株)製、商品名NDP
Pとして市販されている。
式(302)の化合物は北興化学(株)製、商品名TPP
Oとして市販されている。
式(303)の化合物は、大八化学(株)製、商品名
TPPとして市販されている。
以下の実施例1-12および比較例1-3において 、表1-15に示す各有機リン系化合物を、必要 応じてサンドグラインダーにて粉砕し、各 分を水に加えて水性分散液を得た。
実施例1
実施例2
実施例3
実施例4
実施例5
実施例6
実施例7
実施例8
実施例9
実施例10
実施例11
実施例12
比較例1
比較例2
比較例3
試験例1
上記の実施例1-12または比較例1-3で調製した
防炎剤の水性分散液を用い、浸染同浴処理法
にて、ポリエステルを30%及びCDPを70%含有する
混紡繊維の布帛40センチ四方をそれぞれ染色
ると同時に防炎加工した。
即ち、染浴として分散染料0.72%o.w.f.(on weight
of fiber)とカチオン染料0.92%o.w.f.と実施例1~12
または比較例1~3で調整した防炎加工剤をそれ
ぞれ浴比1:20、130℃×60分間処理した。
使用した染料は、分散染料としてカヤロ マイクロエステルイエローAQ-LE0.24%、カヤロ ンマイクロエステルレッドAQ-LE0.24%、カヤロ マイクロエステルブルーAQ-LE0.24%、カチオン 料としてカヤクリルイエロー3RL-ED0.46%(いず も日本化薬(株)製)、カヤクリルレッドGL-ED0. 24%、カヤクリルブルーGSL-ED0.22%(いずれも日本 化薬(株)製)である。
その後、各布帛に対して還元洗浄を行い、
いで、170℃で60秒間熱処理を実施した。更
、JIS K3371に従って、弱アルカリ性第1種洗剤
を1g/Lの割合で用い、浴比1:40として、60℃±2
で15分間、各布帛を水洗濯した後、40℃±2℃
5分間のすすぎを3回、遠心脱水を2分間行な
、その後、60℃±5℃で熱風乾燥する1サイク
を5サイクル行なった。
上記の操作で得た15種類の混紡繊維布帛を
験片とし、これらについて燃焼性試験を行
た。
なお上記の還元洗浄とは以下の操作をい 。即ちハイドロサルファイト2g/L、苛性ソー ダ2g/L、界面活性剤1g/Lの水溶液を調製し、こ を80℃に加温した後、防炎加工済の上記の 帛を加えて20分間処理する操作である。
燃焼性試験の試験方法
消防法JIS L1091A-1法(45度ミクロバーナー法)
て試験を行い、以下の評価を行った。その
果を下記表16に示す。
評価A:合格率
残炎時間が3秒以下の場合を合格とし、測定
回数でその測定中における合格回数を除した
数値を合格率として記載した。小数点以下を
四捨五入し、単位は%である。合格率の高い
うが防炎性能が高い。
合格率の後ろの括弧書きは、合格率の算出
使用した合格回数と測定回数であり、「(合
格回数/測定回数)」で表示した。
評価B:平均残炎時間
試験Aにて測定した残炎時間の総合計を、測
定回数で除することにより、平均残炎時間を
算出した。単位は秒である。平均残炎時間の
短いほうが防炎性能が高い。
評価C:平均燃焼面積
試験片の燃焼面積を計測し、その総和を測
回数で除することにより、平均燃焼面積を
出した。単位はcm 2
である。平均燃焼面積の小さいほうが防炎性
能が高い。
表16の結果から明らかなように、評価Aの 格率は本発明の実施例1-12が95から100%である のに対して、各比較例が57から65%であり、本 明の実施例の方が合格率が高い。また、評 Bの平均残炎時間については実施例1-12が0.5-0 .9であるのに対して、各比較例は2.5-3.8であり 、後者は約3から7倍も平均残炎時間が長い。 に、評価Cの平均燃焼面積については実施例 1-12が3.6-4.1であるのに対して、各比較例は5.6- 7.1であり、後者は1.4-2.0倍も平均燃焼面積が きい。
以上のように本発明の水性分散液を用い 試験片は、優れた防炎性能を示すことが判 した。また、本発明の水性分散液を用いた 験片は水洗濯等を5サイクルも繰り返して行 ったにもかかわらず、上記の性能を保持して いることから、耐久性においても極めて優れ たものであることが明白である。
実施例13
本発明により提供される前記式(2)および式(
4)で表される新規化合物として、下記式(213)
ら(238)で表される化合物を製造した。また、
比較化合物として、下記式(304)および(305)の
合物を用いた。
1.式(213)の化合物は、R 21
、R 22
がフェニル基、R 23
がベンジル基である前記式(2)の化合物である
。
テトラヒドロフラン200部中でジフェニルホ
ホン酸クロリド50部、フェノール24部及びト
リエチルアミン57部を10℃以下で1時間反応さ
た後、次いでベンジルアルコールと室温で1
時間反応させた。水100部を添加し、更に希塩
酸にてpH7以下として静置した。上層を分液し
、飽和食塩水にて洗浄後、下層を分液して廃
棄し、上層部からエバポレーターにてテトラ
ヒドロフラン等を留去してホスホン酸化合物
を得た。得られた化合物は淡黄色の液体で、
LC-MS(高速液体クロマトグラフィー-質量分析
)の測定から式(213)の化合物と同定した。
MS:324.09 (理論値 324.09)
2.式(214)の化合物は、R 41
、R 42
がフェニル基、R 43
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ド、フェノール及びトリエチルアミンを1時
反応させた後、次いでベンジルアミンと1時
間反応させ合成した。
MS:323.11 (理論値 323.11)
3.式(215)の化合物は、R 21
がフェニル基、R 22
が4-メチルフェニル基、R 23
がベンジル基である前記式(2)の化合物である
。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとp-クレゾール及びトリエチルアミンを1
間反応させた後、次いでベンジルアルコー
と1時間反応させ合成した。
MS: 338.11 (理論値 338.11)
4.式(216)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
が3-メチルフェニル基、R 43
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとm-クレゾール及びトリエチルアミンを1
間反応させた後、次いでベンジルアミンと1
間反応させ合成した。
MS:337.12 (理論値 337.12)
5.式(217)の化合物は、R 41
、R 43
がフェニル基、R 42
が3-メチルフェニル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとm-クレゾール及びトリエチルアミンを1
間反応させた後、次いでアニリンと1時間反
させ合成した。
MS:323.11 (理論値 323.11)
6.式(218)の化合物は、R 21
がフェニル基、R 22
が4-フェニルフェニル基、R 23
がベンジル基である前記式(2)の化合物である
。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとp-フェニルフェノール及びトリエチルア
ミンを1時間反応させた後、次いでベンジル
ルコールと1時間反応させ合成した。
MS:400.12 (理論値 400.12)
7.式(219)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
が4-メチルフェニル基、R 43
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとp-クレゾール及びトリエチルアミンを1
間反応させた後、次いでベンジルアミンと1
間反応させ合成した。
MS: 337.12 (理論値 337.12)
8.式(220)の化合物は、R 41
、R 43
がフェニル基、R 42
が4-メチルフェニル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ド、p-クレゾール及びトリエチルアミンを1
間反応させた後、次いでアニリンと1時間反
させ合成した。
MS:323.11 (理論値 323.11)
9.式(221)の化合物は、R 21
がフェニル基、R 22
が4-t-ブチルフェニル基、R 23
がベンジル基である前記式(2)の化合物である
。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドと4-t-ブチルフェノール及びトリエチルア
ンを1時間反応させた後、次いでベンジルア
ルコールと1時間反応させ合成した。
MS:380.15 (理論値 380.15)
10.式(222)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
が4-t-ブチルフェニル基、R 43
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ド、4-t-ブチルフェノール及びトリエチルア
ンを1時間反応させた後、次いでベンジルア
ミンと1時間反応させ合成した。
MS:379.17 (理論値 379.17)
11.式(223)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
が4-フェニルフェニル基、R 43
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとp-フェニルフェノール及びトリエチルア
ミンを1時間反応させた後、次いでベンジル
ミンと1時間反応させ合成した。
MS: 399.14 (理論値 399.14)
12.式(224)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
がp-クミルフェニル基、R 43
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとp-クミルフェノール及びトリエチルアミ
ンを1時間反応させた後、次いでベンジルア
ンと1時間反応させ合成した。
MS:441.19 (理論値 441.19)
13.式(225)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
が2-ナフチル基、R 43
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドと2-ナフトール及びトリエチルアミンを1
間反応させた後、次いでベンジルアミンと1
間反応させ合成した。
MS:373.12 (理論値 373.12)
14.式(226)の化合物は、R 41
、R 43
がフェニル基、R 42
が2-ナフチル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドと2-ナフトール及びトリエチルアミンを1
間反応させた後、次いでアニリンと1時間反
させ合成した。
MS:359.11 (理論値 359.11)
15.式(227)の化合物は、R 41
、R 42
がフェニル基、R 43
が2-メチルベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとフェノール及びトリエチルアミンを1時
反応させた後、次いで2-メチルベンジルア
ンと1時間反応させ合成した。
MS:337.12 (理論値 337.12)
16.式(228)の化合物は、R 41
、R 42
がフェニル基、R 43
がベンジル基、R 44
がメチル基である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとフェノール及びトリエチルアミンを1時
反応させた後、N-メチルベンジルアミンと1
間反応させ合成した。
MS:337.12 (理論値 337.12)
17.式(229)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
が4-t-ブチルフェニル基、R 43
がフェニル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドと4-t-ブチルフェノール及びトリエチルア
ンを1時間反応させた後、次いでアニリンと
1時間反応させ合成した。
MS:365.15 (理論値 365.15)
18.式(230)の化合物は、R 41
、R 42
、R 43
がフェニル基、R 44
がN-メチルフェニル基である前記式(4)の化合
である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとフェノール及びトリエチルアミンを1時
反応させた後、次いでN-メチルアニリンと1
間反応させ合成した。
MS:323.11 (理論値 323.11)
19.式(231)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
が2-フェニルフェニル基、R 43
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドと2-フェニルフェノール及びトリエチルア
ミンを1時間反応させた後、次いでベンジル
ミンと1時間反応させ合成した。
MS:399.14 (理論値 399.14)
20.式(232)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
が2-フェニルフェニル基、R 43
がフェニル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドと2-フェニルフェノール及びトリエチルア
ミンを1時間反応させた後、次いでアニリン
1時間反応させ合成した。
MS:385.12 (理論値 385.12)
21.式(233)の化合物は、R 21
、R 23
がフェニル基、R 22
が2-フェノキシエチル基である前記式(2)の化
物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとフェノール及びトリエチルアミンを1時
反応させた後、次いで2-フェノキシエタノ
ルと1時間反応させ合成した。
MS:354.10 (理論値 354.10)
22.式(234)の化合物は、R 41
、R 43
がフェニル基、R 42
が2-フェノキシエチル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドと2-フェノキシエタノール及びトリエチル
アミンを1時間反応させた後、次いでアニリ
と1時間反応させ合成した。
MS:353.12 (理論値 353.12)
23.式(235)の化合物は、R 41
、R 43
がフェニル基、R 42
がp-クミルフェニル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとp-クミルフェノール及びトリエチルアミ
ンを1時間反応させた後、次いでアニリンと1
間反応させ合成した。
MS:427.17 (理論値 427.17)
24.式(236)の化合物は、R 41
がフェニル基、R 42
、R 43
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとベンジルアルコール及びトリエチルア
ンを1時間反応させた後、次いでベンジルア
ンと1時間反応させ合成した。
MS:337.12 (理論値 337.12)
25.式(237)の化合物は、R 41
、R 43
がフェニル基、R 42
がベンジル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとベンジルアルコール及びトリエチルア
ンを1時間反応させた後、次いでアニリンと1
時間反応させ合成した。
MS:323.11 (理論値 323.11)
26.式(238)の化合物は、R 41
、R 42
がフェニル基、R 43
がシクロヘキシル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
式(213)の化合物の製造法と同様に、テトラ
ドロフラン中でジフェニルホスホン酸クロ
ドとフェノール及びトリエチルアミンを1時
反応させた後、次いでシクロヘキシルアミ
と1時間反応させ合成した。
MS:315.14 (理論値 315.14)
式(304)の化合物は、テトラヒドロフラン でジフェニルホスフィン酸クロリドとフェ ール及びトリエチルアミンを1時間反応させ 後、次いで、アニリンと1時間反応させ合成 した。
式(305)は、R 21
、R 23
がフェニル基、R 22
が2-ナフチル基である特許文献5記載のホスホ
ン酸エステル化合物である。
テトラヒドロフラン中でジフェニルホスホ
酸クロリドとフェノール及びトリエチルア
ンを1時間反応させた後、2-ナフトールと1時
間反応させ合成した。
以下の実施例14-39および比較例4-5におい 、表17-44に示す各有機リン系化合物を、必要 に応じてサンドグラインダーにて粉砕し、各 成分を水に加えて水性分散液を得た。
実施例14
実施例15
実施例16
実施例17
実施例18
実施例19
実施例20
実施例21
実施例22
実施例23
実施例24
実施例25
実施例26
実施例27
実施例28
実施例29
実施例30
実施例31
実施例32
実施例33
実施例34
実施例35
実施例36
実施例37
実施例38
実施例39
比較例4
比較例5
試験例2
上記の実施例14-39または比較例4-5で調製し
防炎剤の水性分散液を用い、試験例1と同様
して、浸染同浴処理法にて、ポリエステル3
0%及びCDPを70%含有する混紡繊維の布帛20セン
四方をそれぞれ染色すると同時に防炎加工
た。
その後、試験例1と同様にして、燃焼試験(
価A、評価B)を実施した。更には、試験例1の
価C(平均燃焼面積)に代えて、以下の評価D(
光堅牢度)の試験を行った。結果は下記表45
示した。
評価D:耐光堅牢度
耐光堅牢度を1~5級で表した。
表45の結果から、評価Aの合格率は本発明の
施例14-39が86%から100%であるのに対して、比
例4が57%であり、本発明の実施例の方が、合
格率が高い。比較例5の場合、評価Aの合格率
86%と高いが、耐光堅牢度が低く耐光性が悪
。また、評価Bの平均残炎時間については実
施例14-39が0.5から4.5であるのに対して、比較
4-5は4.9から7.8であり、後者は平均残炎時間
長い。
即ち、本発明の防炎剤は評価Aと評価Bと評
Dでバランスのよい性能を示し、防炎剤とし
有用であることは明らかである。
実施例40
本発明により提供される前記式(2)および式(
4)で表される新規化合物として、下記式(239)
ら(246)で表される化合物を製造した。
1.式(239)の化合物は、R 21
がベンジル基、R 22
、R 23
がフェニル基である前記式(2)の化合物である
。この化合物はベンジルホスフィン酸ジクロ
リドとフェノールをテトラヒドロフラン中、
1時間加熱反応させ合成することができる。
MS:324.09 (理論値 324.09)
2.式(240)の化合物は、R 21
がフェニル基、R 22
がp-ニトロフェニル基、R 23
がフェニル基である前記式(2)の化合物である
。この化合物はフェニルホスフィン酸ジクロ
リドとp-ニトロフェノール及びトリエチルア
ンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反応
させた後、フェノールと1時間加熱反応させ
成することができる。
MS:355.06 (理論値 355.06)
3.式(241)の化合物は、R 21
がp-クレジル基、R 22
、R 23
がフェニル基である前記式(2)の化合物である
。この化合物はクレジルホスフィン酸ジクロ
リドとフェノール及びトリエチルアミンをテ
トラヒドロフラン中、1時間加熱反応させ合
することができる。
MS:324.09 (理論値 324.09)
4.式(242)の化合物は、R 21
がm-ニトロフェニル基、R 22
、R 23
がフェニル基である前記式(2)の化合物である
。この化合物はm-ニトロフェニルホスフィン
ジクロリドとフェノール及びトリエチルア
ンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反応
させ合成することができる。
MS:355.06 (理論値 355.06)
5.式(243)の化合物は、R 21
がp-ニトロベンジル基、R 22
、R 23
がフェニル基である前記式(2)の化合物である
。この化合物はp-ニトロベンジルホスフィン
ジクロリドとフェノール及びトリエチルア
ンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反応
させ合成することができる。
MS:369.08 (理論値 369.08)
6.式(244)の化合物は、R 21
が4-フェニルフェニル基、R 22
、R 23
がフェニル基である前記式(2)の化合物である
。この化合物は4-フェニルフェニルホスフィ
酸ジクロリドとフェノール及びトリエチル
ミンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反
応させ合成することができる。
MS:386.11 (理論値 386.11)
7.式(245)の化合物は、R 41
がベンジル基、R 42
、R 43
がフェニル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
この化合物はベンジルホスフィン酸ジクロリ
ドとフェノール及びトリエチルアミンをテト
ラヒドロフラン中、1時間加熱反応させた後
アニリンと1時間加熱反応させ合成すること
できる。
MS:323.11 (理論値 323.11)
8.式(246)の化合物は、R 41
がメトキシフェニル基、R 42
、R 43
がフェニル基、R 44
が水素原子である前記式(4)の化合物である。
この化合物はメトキシフェニルホスフィン酸
ジクロリドとフェノール及びトリエチルアミ
ンをテトラヒドロフラン中、1時間加熱反応
せた後、アニリンと1時間加熱反応させ合成
ることができる。
MS:323.11 (理論値 339.10)
以下の実施例41-48において、表46-53に示す 各有機リン系化合物を、必要に応じてサンド グラインダーにて粉砕し、各成分を水に加え て水性分散液を得た。
実施例41
実施例42
実施例43
実施例44
実施例45
実施例46
実施例47
実施例48
試験例3
上記の実施例41-48で調製した防炎剤の水性
散液を用い、試験例1と同様にして、浸染同
処理法にて、ポリエステル30%及びCDPを70%含
する混紡繊維の布帛20センチ四方をそれぞ
染色すると同時に防炎加工した。
その後、試験例1と同様にして、燃焼試験(
価A、評価B)および平均燃焼面積(評価C)を実
した。結果は下記表54に示した。
表54の結果から明らかなように、評価Aの 格率は本発明の実施例41-48の全てが100%であ 、評価Bの平均残炎時間は0.5-0.8、評価Cの平 燃焼面積は3.1-3.9であり、本発明の水性分散 液を用いた試験片は、優れた防炎性能を示す ことが判明した。
以上のように本発明の水性分散液を用い 試験片は、優れた防炎性能を示すことが判 した。また、本発明の水性分散液を用いた 験片は水洗濯等を5サイクルも繰り返して行 ったにもかかわらず、上記の性能を保持して いることから、耐久性においても極めて優れ たものであることが明白である。
本発明により、繊維、特にCDPとポリエス ルの混紡繊維に耐久性のある優れた防炎性 を付与することができる有機リン系化合物 水性分散液を提供することができる。