以下、本発明の好適実施形態について、詳� ��に説明する。
 上記一般式(I)~(III)中、R ¹ ~R ⁸ で表されるハロゲン原子、並びに、アルキル 基、アリール基およびアリールアルキル基の 水素原子を置換してもよいハロゲン原子とし ては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げら れる。

 また、R ¹ ~R ⁸ で表されるアルキル基およびアリールアルキ ル基のメチレン基は-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCO O-、-S-、-SO-、-SO ₂ -若しくは-SO ₃ -で中断されていてもよく、これらアルキル� �およびアリールアルキル基のアルキレン部� �は二重結合や三重結合で中断していてもよ� �。

 上記のR ¹ ~R ⁸ で表される置換基の具体的な例としては、メ チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ チル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、イ� ��ペンチル、t-ペンチル、ネオペンチル、ヘ� �シル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル� �2-エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデ シル、ドデシル、トリデシル、イソトリデシ ル、ミリスチル、パルミチル、ステアリル、 シクロプロピル、シクロヘキシル、1-アダマ� ��チル、2-アダマンチル、2-メチル-1-アダマン チル、2-メチル-2-アダマンチル、2-エチル-1-� �ダマンチル、2-エチル-2-アダマンチル、2-ノ� ��ボルニル、2-ノルボルニルメチル、カンフ� �ー-10-イル、ビニル、アリル、イソプロペニ� ��、1-プロペニル、2-メトキシ-1-プロペニル、 フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフ ルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチ ル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブ ロモメチル、トリブロモメチル、ジフルオロ エチル、トリクロロエチル、ジクロロジフル オロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタ フルオロプロピル、ノナフルオロブチル、デ カフルオロペンチル、トリデカフルオロヘキ シル、ペンタデカフルオロヘプチル、ヘプタ デカフルオロオクチル、メトキシメチル、メ トキシエトキシメチル、メチルチオメチル、 エトキシエチル、ブトキシメチル、t-ブチル� ��オメチル、4-ペンテニルオキシメチル、ト� �クロロエトキシメチル、ビス(2-クロロエト� �シ)メチル、メトキシシクロヘキシル、1-(2-� �ロロエトキシ)エチル、メトキシエチル、1-� �チル-1-メトキシエチル、エチルジチオエチ� �、トリメチルシリルエチル、t-ブチルジメチ ルシリルオキシメチル、2-(トリメチルシリル )エトキシメチル、t-ブトキシカルボニルメチ ル、エチルオキシカルボニルメチル、エチル カルボニルメチル、t-ブトキシカルボニルメ� ��ル、アクリロイルオキシエチル、メタクリ� ��イルオキシエチル、2-メチル-2-アダマンチ� �オキシカルボニルメチル、アセチルエチル� �のアルキル基;フェニル、1-ナフチル、2-ナフ チル、アントラセン-1-イル、フェナントレン -1-イル、o-トリル、m-トリル、p-トリル、4-ビ� ��ルフェニル、エチルフェニル、プロピルフ� ��ニル、3-イソプロピルフェニル、4-イソプロ ピルフェニル、4-ブチルフェニル、4-イソブ� �ルフェニル、4-t-ブチルフェニル、4-ヘキシ� �フェニル、4-シクロヘキシルフェニル、4-オ� ��チルフェニル、4-(2-エチルヘキシル)フェニ� ��、2,3-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェ� �ル、2,5-ジメチルフェニル、2,6-ジメチルフェ ニル、3,4-ジメチルフェニル、3,5-ジメチルフ� ��ニル、2,4-ジ-t-ブチルフェニル、2,5-ジ-t-ブ� �ルフェニル、2,6-ジ-t-ブチルフェニル、2,4-ジ -t-ペンチルフェニル、2,5-ジ-t-アミルフェニ� �、シクロヘキシルフェニル、ビフェニリル� �2,4,5-トリメチルフェニル、9-フルオレニル、 4-クロロフェニル、3,4-ジクロロフェニル、4-� ��リクロロフェニル、4-トリフルオロフェニ� �、フルオロフェニル、トリフルオロメチル� �ェニル、ペンタフルオロフェニル、ヘプタ� �ルオロ-p-トリル、4-ホルミルフェニル、4-ニ� ��ロフェニル、エトキシナフチル、4-フルオ� �メチルフェニル、4-メトキシフェニル、2,4-� �ニトロフェニル等のアリール基; ベンジル� �メチルベンジル、ジメチルベンジル、トリ� �チルベンジル、フェニルベンジル、ジフェ� �ルメチル、トリフェニルメチル、2-フェニル エチル、2-フェニルプロピル、スチリル、シ� ��ナミル、フルオロベンジル、クロロベンジ� ��、ブロモベンジル、シアノベンジル、ジク� ��ロベンジル、メトキシベンジル、ジメトキ� ��ベンジル、ベンジルオキシメチル、メトキ� ��ベンジルオキシメチル、1-メチル-1-ベンジ� �オキシエチル、1-メチル-1-ベンジルオキシ-2- フルオロエチル、グアイアコールメチル、フ ェノキシメチル、フェニルチオメチル、ニト ロベンジル、ジニトロベンズヒドリル、ジベ ンゾスベリル、(フェニルジメチルシリル)メ� ��キシメチル、フェニルスルホニルエチル、� ��リフェニルホスホニオエチル、トリフェニ� ��メトキシメチル、フェナシル、ブロモフェ� ��シル、等のアリールアルキル基;Rとして上� �アルキル基、アリール基、アリールアルキ� �基や、テトラヒドロピラニル、3-ブロモテト ラヒドロピラニル、テトラヒドロチオピラニ ル、メトキシテトラヒドロピラニル、メトキ シテトラヒドロチオピラニル、4-メトキシテ� ��ラヒドロチオピラン-S,S-ジオキシド-4-イル� �1-〔(2-クロロ-4-メチル)フェニル〕-4-メトキ� �ピペリジン-4-イル、1,4-ジオキサン-2-イル、� ��トラヒドロフラニル、テトラヒドロチオフ� ��ニル、2,3,3a,4,5,6,7,7a-オクタヒドロ-7,8,8-トリ メチル-4,7-メタノベンゾフラン-2-イル、2-ピ� �ジルメチル、4-ピリジルメチル、3-ピコリン- N-オキシド-2-イルメチル、1,3-ベンゾジチオラ ニル、ベンズイソチアゾリン-S,S-ジオキシド- 3-イル、テトラフルオロ-4-ピリジル等の複素� ��基が含まれる、RO-で表されるアルコキシ基; RCO-で表されるアシル基;RCOO-やROCO-で表される エステル基;ROCOO-で表されるカーボネート基;R S-で表されるスルファニル基;RSO-で表される� �ルフィニル基;RSO ₂ -で表されるスルホニル基;RSO ₃ -で表されるスルホン酸エステル基;ホルミル� ��;カルボキシル基;ホルミルオキシ基;スルホ� ��;トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリ ルオキシ、トリプロピルシリルオキシ、ジメ チルプロピルシリルオキシ、ジエチルプロピ ルシリルオキシ、ジメチル(1,1,2,2-テトラメチ ル)エチルシリルオキシ、ブチルジメチルシ� �ルオキシ、ブチルジフェニルシリルオキシ� �トリベンジルシリルオキシ、トリキシリル� �リルオキシ、トリフェニルシリルオキシ、� �フェニルメチルシリルオキシ、ブチルメト� �シフェニルシリルオキシ等のシリルオキシ� �;ジメチルホスホリルオキシ基、ジエチルホ� ��ホリルオキシ基、ジフェニルホスホリルオ� ��シ基等の置換ホスホリルオキシ基;ベンジル チオカーボネート;メチルジチオカーボネー� �等が挙げられる。

 上記の中でも、上記式中、R ¹ ~R ⁸ の少なくとも1つが水酸基であるものが、現� �性に優れているため好ましく、R ¹ ~R ⁸ の4つ以上が水酸基であるものがより好まし� �。さらには、上記式において、R ¹ 、R ² 、R ⁷ およびR ⁸ が水酸基であり、a、b、gおよびhが1である化� ��物が、特に好適である。

 本発明の芳香族スルホニウム塩化合物は� ��上記一般式(I)中、rおよびsが0であるもの、m およびnが0であるもの、あるいはnおよびrが0� ��あるものが、製造が容易であるので好まし� ��、上記一般式(I)中、mとsの和が1であるもの� ��、より好ましい。

 また、本発明の芳香族スルホニウム塩化合� ��は、上記一般式(I)中、E ¹ ~E ⁴ で表される置換基が上記一般式(II)で表され� �基であるものが、溶解性の面や構造を容易� �変化させられるという点で好ましく、上記� �般式(I)中、gおよびhが共に1であるものがよ� �好ましい。

 また、上記一般式(I)中、An ^q- はq価(qは1または2である)のアニオンであり、 その具体的な例としては、1価のもの(An ^- )として、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨ� �化物イオン、フッ化物イオン等のハロゲン� �ニオン;過塩素酸イオン、塩素酸イオン、チ� ��シアン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イ� ��ン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、� ��トラフルオロホウ酸イオン等の無機系アニ� ��ン;ベンゼンスルホン酸イオン、トルエンス ルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホ ン酸イオン、ジフェニルアミン-4-スルホン酸 イオン、2-アミノ-4-メチル-5-クロロベンゼン� ��ルホン酸イオン、2-アミノ-5-ニトロベンゼ� �スルホン酸イオン、N-アルキル(またはアリ� �ル)ジフェニルアミン-4-スルホン酸イオン等� ��有機スルホン酸系アニオン;オクチルリン酸 イオン、ドデシルリン酸イオン、オクタデシ ルリン酸イオン、フェニルリン酸イオン、ノ ニルフェニルリン酸イオン、2,2’-メチレン� �ス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)ホスホン酸イオ� �等の有機リン酸系アニオン、ビストリフル� �ロメチルスルホニルイミドイオン、ビスパ� �フルオロブタンスルホニルイミドイオン、� �ーフルオロ-4-エチルシクロヘキサンスルホ� �酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェ� ��ル)ホウ酸イオン等が挙げられ、2価のもの(A n ^2- )としては、例えば、ベンゼンジスルホン酸� �オン、ナフタレンジスルホン酸イオン等が� �げられ、これらの中でもヘキサフルオロア� �チモン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イ� �ン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、テトラフ� �オロホウ酸イオン、ヘキサクロロアンチモ� �酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオロ� �タンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸� �オン、フルオロスルホン酸イオン、ジフル� �ロリン酸イオン、p-トルエンスルホン酸イオ ン、カンファースルホン酸イオン、ノナフル オロブタンスルホン酸イオン、ヘキサデカフ ルオロオクタンスルホン酸イオン、有機フル オロスルホンイミドイオン、テトラアリール ホウ酸イオン等が、製造面で好ましく、中で も、トリフルオロメタンスルホン酸イオンま たはノナフルオロブタンスルホン酸イオンで あるものが、コストおよび安全衛生性の面で より好ましい。

 テトラアリールホウ酸イオンの具体例と� ��ては、例えば、テトラフェニルホウ酸イオ� ��、およびこれのフェニル基上の少なくとも1 つの水素原子がアルキル基、ハロゲン原子、 ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル 基、アルコキシル基、フェニル基、アルコキ シカルボニル基で置換された化合物等を挙げ ることができ、好ましいものとしてはテトラ キス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオン� ��テトラキス(4-フルオロフェニル)ホウ酸イオ ン、テトラフェニルホウ酸イオン等が挙げら れる。また、有機フルオロスルホンイミドイ オンの具体例としては、ビス(トリフルオロ� �タンスルホン)イミドイオン、ビス(ペンタフ ルオロエタンスルホン)イミドイオン、ビス(� ��プタフルオロプロパンスルホン)イミドイオ ン、ビス(ノナフルオロブタンスルホン)イミ� ��イオン、ビス(ウンデカフルオロペンタンス ルホン)イミドイオン、ビス(ペンタデカフル� ��ロヘプタンスルホン)イミドイオン、ビス(� �リデカフルオロヘキサンスルホン)イミドイ� ��ン、ビス(ヘプタデカフルオロオクタンスル ホンイミド)イオン、(トリフルオロメタンス� ��ホン)(ノナフルオロブタンスルホン)イミド� ��オン、(メタンスルホン)(トリフルオロメタ� ��スルホン)イミドイオン等が挙げられる。

 本発明の芳香族スルホニウム塩化合物の� ��チオンの具体的な例としては、以下の化合� ��が挙げられる。

 本発明の芳香族スルホニウム塩化合物の製� ��方法としては、特に制限されることなく、� ��知の有機合成反応を応用した方法を用いる� ��とができる。例えば、ジアリールスルホキ� ��ド化合物と、ジアリールフルオレン化合物� ��のスルホニオ化反応によりスルホニウム塩� ��合物を得て、必要に応じてアニオン成分pAn ^q- を導入するための塩化合物を用いて塩交換反 応を行うことにより得ることができる。

 本発明の芳香族スルホニウム塩化合物は、E UV(Extreme Ultra-Violet)、X線、F ₂ 、ArF、KrF、I線、H線、G線等の遠紫外線、電子 線、放射線、高周波などの活性エネルギー線 の照射によりルイス酸を放出する特性を有し 、酸反応性有機物質に作用して分解や重合を することが可能である。従って、本発明のス ルホニウム塩化合物は、ポジ型、およびネガ 型フォトレジストの光酸発生剤としてや、カ チオン重合開始剤として有用である。

 上記スルホニウム塩化合物からなる本発� ��の光酸発生剤を使用する場合の使用量は、� ��に制限されるものではないが、好ましくは� ��反応性有機物質100質量部に対して0.05~100質� �部、更に好ましくは0.05~20質量部の割合で用� ��ることが好ましい。但し、酸反応性有機物� ��の性質、光の照射強度、反応に要する時間� ��物性、コストなどの要因により、配合量を� ��述の範囲より増減させて用いることも可能� ��ある。

 本発明の光酸発生剤は、これを構成する� ��分以外の不純物金属元素分、不純物塩素等� ��不純物ハロゲン、不純物有機分を極力含ま� ��いようにする。不純物金属元素分は元素毎� ��は、好適には100ppb以下、より好適には10ppb� �下であって、総量では、好適には1ppm以下、� ��り好適には100ppb以下である。また、不純物� ��ロゲン分は、100ppm以下が好ましく、10ppm以� �がより好ましく、1ppm以下が更に好ましい。� ��らに、不純物有機分は、総量で500ppm以下が� ��ましく、50ppm以下が好ましく、10ppm以下がよ り好ましい。

 なお、本発明のスルホニウム塩化合物が� ��体であって、再結晶により、求められる純� ��にまで精製が可能であることも、本発明の� ��合物が上記のフォトレジスト用光酸発生剤� ��して好ましい理由の1つとして挙げられる。

 次に、本発明のレジスト組成物は、酸の� ��用で現像液に対する溶解性が変化する樹脂( 以下、「レジストベース樹脂」とも称する)� �ともに、本発明の芳香族スルホニウム塩化� �物を必須の光酸発生剤として含有するレジ� �ト組成物である。

 本発明のレジスト組成物に用いるレジス� ��ベース樹脂は、特に制限されるものではな� ��が、活性エネルギー線の波長の吸光係数が� ��さく、かつ、高いエッチング耐性を有する� ��造のものが好ましい。

 かかるレジストベース樹脂としては、ポ� ��ヒドロキシスチレンおよびその誘導体、ポ� ��アクリル酸およびその誘導体、ポリメタク� ��ル酸およびその誘導体、ヒドロキシスチレ� ��とアクリル酸とメタクリル酸とそれらの誘� ��体から選ばれ形成される共重合体、シクロ� ��レフィンおよびその誘導体と無水マレイン� ��とアクリル酸およびその誘導体から選ばれ� ��3以上の共重合体、シクロオレフィンおよび その誘導体とマレイミドとアクリル酸および その誘導体から選ばれる3以上の共重合体、� �リノルボルネン、およびメタセシス開環重� �体からなる一群から選択される1種以上の高� ��子重合体に、アルカリ溶解制御能を有する� ��不安定基を部分的に置換した高分子重合体� ��が挙げられる。

 レジストベース樹脂の詳細な具体例は、� ��えば、特開2003-192665号公報の請求項8~11、特� ��2004-323704の請求項3等に開示されている。

 かかるレジストベース樹脂のゲルパーミ� ��ーションクロマトグラフィー(GPC)によるポ� �スチレン換算重量平均分子量(Mw)は、通常3,00 0~300,000、好ましくは4,000~200,000、さらに好ま� �くは5,000~100,000である。この場合、ベース樹� ��のMwが3,000未満では、レジストとしての耐熱 性が低下する傾向があり、一方300,000を越え� �と、レジストとしての現像性が低下する傾� �がある。

 本発明のレジスト組成物中の光酸発生剤� ��、本発明の芳香族スルホニウム塩化合物を� ��須成分として含有するものであれば、これ� ��外の光酸発生剤を任意成分として使用して� ��よい。光酸発生剤の使用量は、レジストと� ��ての感度および現像性を確保する観点から� ��レジストベース樹脂100質量部に対して、通� ��、0.05~10質量部、好ましくは0.5~7質量部であ� ��。この場合、光酸発生剤の使用量が0.05質量 部未満では、感度および現像性が低下する場 合があり、一方、10質量部を越えると、放射� ��に対する透明性が低下して、矩形のレジス� ��パターンを得られにくくなる場合がある。

 レジスト組成物は、通常、その使用に際� ��て、全固形分濃度が、通常5~50重量%、好ま� �くは10~25重量%となるように溶剤に溶解した� �、例えば、孔径0.2μm程度のフィルターで濾� �することによって調整される。

 本発明のレジスト組成物は、特に、化学� ��幅型レジストとして有用である。化学増幅� ��レジストとは、露光により光酸発生剤から� ��生した酸の作用によって、ベース樹脂中の� ��解離性基が解離して、酸性官能基、好まし� ��はカルボキシル基を生じ、その結果、レジ� ��トの露光部のアルカリ現像液に対する溶解� ��が高くなり、この露光部がアルカリ現像液� ��よって溶解、除去されて、ポジ型のレジス� ��パターンが得られるものを指す。

 レジスト組成物の露光で使用される光源� ��しては、使用する光酸発生剤の種類に応じ� ��、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、荷電 粒子線等から適宜選定して使用されるが、本 発明は、KrFエキシマーレーザー(波長248nm)ま� �はArFエキシマーレーザー(波長193nm)等の遠紫� ��線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線 、EUV等の荷電粒子線など、各種の放射線を使 用するレジスト組成物において好適に使用す ることが可能である。

 次に、本発明のカチオン重合性組成物は� ��上記芳香族スルホニウム塩化合物からなる� ��発明のカチオン重合開始剤と、カチオン重� ��性化合物とを含有する組成物であり、平板� ��凸版用印刷板の作成、プリント基板やIC、LS I作製のためのフォトレジスト、レリーフ像� �画像複製等の画像形成、光硬化性のインキ� �塗料、接着剤等、広範囲の応用分野におい� �有用である。

 本発明のカチオン重合性組成物に用いる� ��チオン重合性化合物は、カチオン重合によ� ��重合物を得られるように、1種類にて、また は2種類以上混合して使用される。

 カチオン重合性化合物として代表的なも� ��は、エポキシ化合物およびオキセタン化合� ��である。これらは入手が容易であり、取り� ��いが便利である点で好ましい化合物である

 このうちエポキシ化合物としては、脂環� ��エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、� ��肪族エポキシ化合物などが適している。

 脂環族エポキシ化合物の具体例としては� ��少なくとも1個の脂環族環を有する多価アル コールのポリグリシジルエーテルまたはシク ロヘキセンやシクロペンテン環含有化合物を 酸化剤でエポキシ化することによって得られ るシクロヘキセンオキサイドやシクロペンテ ンオキサイド含有化合物が挙げられる。例え ば、水素添加ビスフェノールAジグリシジル� �ーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル- 3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレー� �、3,4-エポキシ-1-メチルシクロヘキシル-3,4-� �ポキシ-1-メチルシクロヘキサンカルボキシ� �ート、6-メチル-3,4-エポキシシクロヘキシル� ��チル-6-メチル-3,4-エポキシシクロヘキサン� �ルボキシレート、3,4-エポキシ-3-メチルシク� ��ヘキシルメチル-3,4-エポキシ-3-メチルシク� �ヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシ-5-� ��チルシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシ-5-� �チルシクロヘキサンカルボキシレート、2-(3, 4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポ キシ)シクロヘキサン-メタジオキサン、ビス( 3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)アジペー� ��、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルカル ボキシレート、メチレンビス(3,4-エポキシシ� ��ロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポ キサイド、エチレンビス(3,4-エポキシシクロ� ��キサンカルボキシレート)、エポキシヘキサ ヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサ ヒドロフタル酸ジ-2-エチルヘキシル等が挙げ られる。

 上記脂環族エポキシ樹脂として好適に使� ��できる市販品としては、UVR-6100、UVR-6105、UVR -6110、UVR-6128、UVR-6200(以上、ユニオンカーバ� �ド社製)、セロキサイド2021、セロキサイド202 1P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セ� �キサイド2085、セロキサイド2000、セロキサイ ド3000、サイクロマーA200、サイクロマーM100、 サイクロマーM101、エポリードGT-301、エポリ� �ドGT-302、エポリード401、エポリード403、ETHB� ��エポリードHD300(以上、ダイセル化学工業(株 )製)、KRM-2110、KRM-2199(以上、(株)ADEKA製)などを 挙げることができる。

 上記脂環族エポキシ樹脂の中でも、シク� ��ヘキセンオキシド構造を有するエポキシ樹� ��が、硬化性(硬化速度)の点で好ましい。

 また、芳香族エポキシ樹脂の具体例とし� ��は、少なくとも1個の芳香族環を有する多価 フェノールまたは、そのアルキレンオキサイ ド付加物のポリグリシジルエーテル、例えば ビスフェノールA、ビスフェノールF、または� ��れらにさらにアルキレンオキサイドを付加� ��た化合物のグリシジルエーテルやエポキシ� ��ボラック樹脂などが挙げられる。

 さらに、脂肪族エポキシ樹脂の具体例と� ��ては、脂肪族多価アルコールまたはそのア� ��キレンオキサイド付加物のポリグリシジル� ��ーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシ� ��ルエステル、グリシジルアクリレートまた� ��グリシジルメタクリレートのビニル重合に� ��り合成したホモポリマー、グリシジルアク� ��レートまたはグリシジルメタクリレートと� ��の他のビニルモノマーとのビニル重合によ� ��合成したコポリマー等が挙げられる。代表� ��な化合物として、1,4-ブタンジオールジグリ シジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグ� �シジルエーテル、グリセリンのトリグリシ� �ルエーテル、トリメチロールプロパンのト� �グリシジルエーテル、ソルビトールのテト� �グリシジルエーテル、ジペンタエリスリト� �ルのヘキサグリシジルエーテル、ポリエチ� �ングリコールのジグリシジルエーテル、ポ� �プロピレングリコールのジグリシジルエー� �ルなどの多価アルコールのグリシジルエー� �ル、またプロピレングリコール、トリメチ� �ールプロパン、グリセリン等の脂肪族多価� �ルコールに1種または2種以上のアルキレンオ キサイドを付加することによって得られるポ リエーテルポリオールのポリグリシジルエー テル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエ ステルが挙げられる。さらに、脂肪族高級ア ルコールのモノグリシジルエーテルやフェノ ール、クレゾール、ブチルフェノール、また 、これらにアルキレンオキサイドを付加する ことによって得られるポリエーテルアルコー ルのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸の グリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エ ポキシステアリン酸オクチル、エポキシステ アリン酸ブチル、エポキシ化ポリブタジエン 等が挙げられる。

 上記芳香族および脂肪族エポキシ樹脂と� ��て好適に使用できる市販品としては、エピ� ��ート801、エピコート828(以上、油化シェルエ ポキシ社製)、PY-306、0163、DY-022(以上、チバ・ スペシャルティ・ケミカルズ社製)、KRM-2720、 EP-4100、EP-4000、EP-4080、EP-4900、ED-505、ED-506(以� ��、(株)ADEKA製)、エポライトM-1230、エポライ� �EHDG-L、エポライト40E、エポライト100E、エポ� ��イト200E、エポライト400E、エポライト70P、� �ポライト200P、エポライト400P、エポライト150 0NP、エポライト1600、エポライト80MF、エポラ� ��ト100MF、エポライト4000、エポライト3002、エ ポライトFR-1500(以上、共栄社化学(株)製)、サ� ��トートST0000、YD-716、YH-300、PG-202、PG-207、YD-1 72、YDPN638(以上、東都化成(株)製)などを挙げ� �ことができる。

 また、オキセタン化合物の具体例として� ��、例えば、以下の化合物を挙げることがで� ��る。3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタ� �、3-(メタ)アリルオキシメチル-3-エチルオキ� ��タン、(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メ チルベンゼン、4-フルオロ-[1-(3-エチル-3-オキ セタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、4-メト� �シ-[1-(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチ ル]ベンゼン、[1-(3-エチル-3-オキセタニルメ� �キシ)エチル]フェニルエーテル、イソブトキ シメチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エ� �テル、イソボルニルオキシエチル(3-エチル-3 -オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニ� ��(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、 2-エチルヘキシル(3-エチル-3-オキセタニルメ� ��ル)エーテル、エチルジエチレングリコール (3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、� �シクロペンタジエン(3-エチル-3-オキセタニ� �メチル)エーテル、ジシクロペンテニルオキ� ��エチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エー テル、ジシクロペンテニル(3-エチル-3-オキセ タニルメチル)エーテル、テトラヒドロフル� �リル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテ� ��、テトラブロモフェニル(3-エチル-3-オキセ� ��ニルメチル)エーテル、2-テトラブロモフェ� ��キシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチル) エーテル、トリブロモフェニル(3-エチル-3-オ キセタニルメチル)エーテル、2-トリブロモフ ェノキシエチル(3-エチル-3-オキセタニルメチ ル)エーテル、2-ヒドロキシエチル(3-エチル-3- オキセタニルメチル)エーテル、2-ヒドロキシ プロピル(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エ� �テル、ブトキシエチル(3-エチル-3-オキセタ� �ルメチル)エーテル、ペンタクロロフェニル( 3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、ペ ンタブロモフェニル(3-エチル-3-オキセタニル メチル)エーテル、ボルニル(3-エチル-3-オキ� �タニルメチル)エーテル、3,7-ビス(3-オキセタ ニル)-5-オキサ-ノナン、3,3’-(1,3-(2-メチレニ� ��)プロパンジイルビス(オキシメチレン))ビス -(3-エチルオキセタン)、1,4-ビス[(3-エチル-3-� �キセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,2-� �ス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル ]エタン、1,3-ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメ トキシ)メチル]プロパン、エチレングリコー� ��ビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテ ル、ジシクロペンテニルビス(3-エチル-3-オキ セタニルメチル)エーテル、トリエチレング� �コールビス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)� ��ーテル、テトラエチレングリコールビス(3-� ��チル-3-オキセタニルメチル)エーテル、トリ シクロデカンジイルジメチレン(3-エチル-3-オ キセタニルメチル)エーテル、トリメチロー� �プロパントリス(3-エチル-3-オキセタニルメ� �ル)エーテル、1,4-ビス(3-エチル-3-オキセタニ ルメトキシ)ブタン、1,6-ビス(3-エチル-3-オキ� ��タニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリ トールトリス(3-エチル-3-オキセタニルメチル )エーテル、ペンタエリスリトールテトラキ� �(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、� ��リエチレングリコールビス(3-エチル-3-オキ� ��タニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリ トールヘキサキス(3-エチル-3-オキセタニルメ チル)エーテル、ジペンタエリスリトールペ� �タキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エー� ��ル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3-� ��チル-3-オキセタニルメチル)エーテル、カプ ロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキ サキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エー� �ル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリ� �ールペンタキス(3-エチル-3-オキセタニルメ� �ル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテ� ��ラキス(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エー テル、EO変性ビスフェノールAビス(3-エチル-3- オキセタニルメチル)エーテル、PO変性ビスフ ェノールAビス(3-エチル-3-オキセタニルメチ� �)エーテル、EO変性水添ビスフェノールAビス( 3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテル、PO� ��性水添ビスフェノールAビス(3-エチル-3-オキ セタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノ ールF(3-エチル-3-オキセタニルメチル)エーテ� ��などを例示することができる。

 これらオキセタン化合物は、特に可撓性� ��必要とする場合に使用すると効果的であり� ��好ましい。

 カチオン重合性化合物のその他の化合物� ��具体例としては、テトラヒドロフラン、2,3- ジメチルテトラヒドロフランなどのオキソラ ン化合物、トリオキサン、1,3-ジオキソラン� �1,3,6-トリオキサンシクロオクタンなどの環� �アセタール化合物、β-プロピオラクトン、ε -カプロラクトンなどの環状ラクトン化合物� �エチレンスルフィド、チオエピクロルヒド� �ンなどのチイラン化合物、1,3-プロピンスル� ��ィド、3,3-ジメチルチエタンなどのチエタン 化合物、テトラヒドロチオフェン誘導体など の環状チオエーテル化合物、エチレングリコ ールジビニルエーテル、アルキルビニルエー テル、2-クロロエチルビニルエーテル、2-ヒ� �ロキシエチルビニルエーテル、トリエチレ� �グリコールジビニルエーテル、1,4-シクロヘ� ��サンジメタノールジビニルエーテル、ヒド� ��キシブチルビニルエーテル、プロピレング� ��コールのプロペニルエーテルなどのビニル� ��ーテル化合物、エポキシ化合物とラクトン� ��反応によって得られるスピロオルトエステ� ��化合物、スチレン、ビニルシクロヘキセン� ��イソブチレン、ポリブタジエンなどのエチ� ��ン性不飽和化合物、シリコーン類等周知の� ��合物が挙げられる。

 本発明の芳香族スルホニウム塩化合物か� ��なるカチオン重合開始剤の使用量は、上記� ��カチオン重合性化合物100質量部に対して、0 .01~質量部~10質量部が好ましく、0.1質量部~5質 量部がより好ましい。この使用量が0.01質量� �より少ないと、硬化が不充分となる場合が� �り、一方、10質量部を超えても使用効果の増 加が得られないばかりでなく、硬化物の物性 に悪影響を与える場合がある。

 また、本発明の芳香族スルホニウム塩化� ��物からなるカチオン重合開始剤は、上記カ� ��オン重合性化合物と共に各種添加剤を配合� ��て、カチオン重合性組成物に用いてもよい� ��各種添加剤としては、有機溶剤、ベンゾト� ��アゾール系、トリアジン系、ベンゾエート� ��の紫外線吸収剤;フェノール系、リン系、硫 黄系酸化防止剤;カチオン系界面活性剤、ア� �オン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤� �両性界面活性剤等からなる帯電防止剤;ハロ� ��ン系化合物、リン酸エステル系化合物、リ� ��酸アミド系化合物、メラミン系化合物、フ� ��素樹脂または金属酸化物、(ポリ)リン酸メ� �ミン、(ポリ)リン酸ピペラジン等の難燃剤;� �化水素系、脂肪酸系、脂肪族アルコール系� �脂肪族エステル系、脂肪族アマイド系また� �金属石けん系の滑剤;染料、顔料、カーボン� ��ラック等の着色剤;フュームドシリカ、微粒 子シリカ、けい石、珪藻土類、クレー、カオ リン、珪藻土、シリカゲル、珪酸カルシウム 、セリサイト、カオリナイト、フリント、長 石粉、蛭石、アタパルジャイト、タルク、マ イカ、ミネソタイト、パイロフィライト、シ リカ等の珪酸系無機添加剤;ガラス繊維、炭� �カルシウム等の充填剤;造核剤、結晶促進剤� ��の結晶化剤、シランカップリング剤等が挙� ��られる。

 本発明のカチオン重合開始剤の用途とし� ��は、インキ、保護膜(保護層)、塗料、接着� �、絶縁材、構造材、光学的立体造形、光学� �ィルム、カラーフィルタ、FRP、半導体用レ� �スト等が挙げられる。