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Title:
DEVICE FOR APPLYING SPATIALLY LIMITED ELEMENTS, IN PARTICULAR, FLEXIBLE ELEMENTS
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2000/064794
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a device for applying spatially limited, flexible elements (26), to a continuous web (14), in particular for applying holograms. The speed of the continuous web (14) is reduced in the application zone and the flexible element is applied at this time.

Inventors:
WITTMAIER KLAUS (DE)
Application Number:
PCT/EP2000/003271
Publication Date:
November 02, 2000
Filing Date:
April 12, 2000
Export Citation:
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Assignee:
SCHOBER GMBH (DE)
WITTMAIER KLAUS (DE)
International Classes:
B65H20/24; B65H20/30; B65H39/14; B65H39/16; (IPC1-7): B65H20/30; B65H20/24; B65H39/16
Foreign References:
EP0858888A21998-08-19
CH365259A1962-10-31
US5277571A1994-01-11
Attorney, Agent or Firm:
Steimle, Josef (Dreiss Patentanwälte Postfach 10 37 62 Stuttgart, DE)
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Claims:
Patentansprüche
1. Vorrichtung zur Applikation von räumlich begrenzten, insbesondere flexiblen Elementen, z. B. von Hologrammen u. dgl., auf eine Endlosbahn (14), welche von einer Vorratsrolle abgezogen, über eine Siegelstation (20) zu einer Abzugsoder Führungsstation (12) transportiert wird, wobei in der Siegelstation (20) das flexible Element auf die Endlosbahn (14) appliziert wird, dadurch gekennzeichnet, dass vor und nach der Siegelstation (20) jeweils eine Beschleunigungsoder Verzögerungsstation vorgesehen ist, durch welche die Endlosbahn hindurchgeführt und die Geschwindigkeit der Endlosbahn verändert wird.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschleunigungsoder Verzögerungsstation eine Exzenterstation (18,22) ist und die Exzenterstation (18,22) eine Exzenterwelle (34,36) aufweist, über welche die Endlosbahn (14) geführt ist, wobei die beiden Exzenterwellen (34,36) um 180° versetzt umlaufen.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Exzenterwellen (34,36) in Transportrichtung der Endlosbahn (14) umlaufen.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Exzenterwellen (34,36) einen kreisrunden Querschnitt aufweisen und exzentrisch gelagert sind.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Exzenterwellen (34,36) auf ihrem Außenumfang eine relativ zu dieser verdrehbare Hülse lagern.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Exzentrizität der Exzenterwellen (34,36) verstellbar ist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Exzenterwellen (34,36) synchron zum Applikationstakt umlaufen.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass über die Exzenterwellen (34,36) die Transportgeschwindigkeit der kontinuierlich von der Vorratsrolle abgezogenen Endlosbahn (14) im Bereich der Siegelstation (20) veränderbar ist, insbesondere verzögert und beschleunigt wird.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Applikation erfolgt, wenn die Endlosbahn (14) in der Siegelstation (20) ihre minimale Geschwindigkeit besitzt.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das zu applizierende Element einer zweiten Endlosbahn (26) entnommen wird.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Endlosbahn (26) eine der minimalen Geschwindigkeit der ersten Endlosbahn (14) entsprechende Geschwindigkeit aufweist.
12. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dassdie Siegelstation (20) eine Heißsiegelstation, Prägestation, Klebestation, Heftstation o. dgl. ist.
Description:
Vorrichtung zur Applikation von räumlich begrenzten, insbesondere flexiblen Elementen Beschreibung Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Applikation von räumlich begrenzten, insbesondere flexiblen Elementen, z. B.

Hologrammen o. dgl., auf eine Endlosbahn, welche von einer Vorratsrolle abgezogen, über eine Siegelstation zu einer Abzugs-oder Führungsstation transportiert wird, wobei in der Siegelstation das flexible Element auf die Endlosbahn appliziert wird.

Es ist bekannt, dass Karten, Scheine, Papierbögen o. dgl. dadurch hergestellt werden, dass zunächst eine Endlosbahn bedruckt, gestanzt, geprägt usw. behandelt wird, und schließlich die einzelnen Produkte aus der Endlosbahn ausgeschnitten bzw. ausgestanzt werden. Außerdem ist bekannt, dass diese einzelnen Produkte auch mit räumlich begrenzten Elementen, z. B. Bildern, oder sehr teuren Hologrammen u. dgl. bestückt sind. Diese räumlich begrenzten Elemente befinden sich ihrerseits wieder auf einer Endlosbahn, von der sie abgehoben und auf die erste Endlosbahn aufgebracht werden. Laufen die beiden Endlosbahnen mit gleicher Geschwindigkeit durch die Siegelstation, dann wird lediglich ein Bruchteil der zweiten Endlosbahn benutzt, sodass der überwiegende Teil dieser zweiten Endlosbahn als Abfall entsorgt werden muss. Dies ergibt sich dadurch, dass das räumlich begrenzte Element wesentlich kleiner ist als die Produkte, auf welche diese appliziert werden sollen. Die Zwischenräume zwischen den einzelnen räumlich begrenzten Elementen auf der zweiten Endlosbahn müssen demnach als Abfall entsorgt werden.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung bereitzustellen, mit welcher die zweite Endlosbahn besser genutzt werden kann, sodass der Abfall verringert wird.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass bei einer Vorrichtung der eingangs genannten Art vor und nach der Siegelstation jeweils eine Exzenterstation vorgesehen ist und die Exzenterstation eine Exzenterwelle aufweist, über welche die Endlosbahn geführt ist, wobei die beiden Exzenterwellen um 180° versetzt umlaufen.

Aufgrund der Maßnahme, dass vor und nach der Siegelstation Exzenterstationen vorgesehen werden, durch welche die Endlosbahn hindurchgeführt wird, wird die Möglichkeit geschaffen, dass in diesen Exzenterstationen, die zeitweise als Puffer wirken, die Transportgeschwindigkeit der Materialbahn verringert bzw. beschleunigt wird. Dies wird durch Exzenterwellen erreicht, über welche die Endlosbahn geführt ist. Drehen sich die Exzenterwellen, so nehmen sie quasi bei der Auslenkung Endlosband mit und geben dieses anschließend wieder frei. Hierdurch wird die Transport- geschwindigkeit der Endlosbahn mit einer sinusförmigen Vor- und Zurückbewegung überlagert, sodass die resultierende Transportgeschwindigkeit eine langsame und eine schnelle Bewegung ist.

Befindet sich nun das räumlich begrenzte Element, z. B. das Hologramm, ebenfalls auf einer Endlosbahn, so wird das Hologramm dann auf die erste Endlosbahn appliziert, wenn diese ihre minimale Transportgeschwindigkeit aufweist. Die die Hologramme tragende Endlosbahn muss deshalb lediglich mit dieser minimalen Transportgeschwindigkeit transportiert werden, sodass der Abfall zwischen den einzelnen Hologrammen reduziert wird. Nach der Applikation des Hologramms auf die erste Endlosbahn wird diese wieder auf maximale Geschwindig- keit beschleunigt und anschließend zur Applikation des nächsten Hologramms wieder abgebremst.

Bevorzugt laufen die Exzenterwellen in Transportrichtung der Endlosbahn um. Auf diese Weise wird die Relativgeschwindigkeit und somit die Reibung zwischen Exzenterwelle und Endlosbahn auf ein Minimum reduziert.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel weisen die Exzenterwellen einen kreisrunden Querschnitt auf und sind exzentrisch gelagert. Ein kreisrunder Querschnitt der Exzenterwelle bietet den Vorteil, dass, entgegen einer nockenförmigen Exzenterwelle, die endlose Bahn schonend behandelt wird, da an ihr die von der Exzenterwelle ausgehenden Kräfte sinusförmig ansteigen bzw. abfallen und somit abrupte Kraftspitzen vermieden werden.

Eine Verringerung von Reibungskräften wird dadurch erreicht, dass auf der Exzenterwelle eine gegenüber der Exzenterwelle verdrehbare Hülse lagert, die ihrerseits keine Relativgeschwindigkeit zur Transportbahn besitzt.

Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel ist die Exzentrizität der Exzenterwellen verstellbar. Auf diese Weise kann die Amplitude der sinusförmigen Beschleunigung bzw.

Verzögerung auf einen gewünschten Wert eingestellt werden.

Bei einer Weiterbildung ist vorgesehen, dass die Exzenterwellen synchron zum Applikationstakt umlaufen. Immer dann, wenn eine Siegelung erfolgen soll, weist die Transportgeschwindigkeit der Endlosbahn ihren Minimalwert auf, wodurch einerseits erreicht wird, dass die Siegelung hochpräzise erfolgen kann, andererseits die erste Endlosbahn während der Applikation die gleiche Geschwindigkeit aufweist, wie die zweite Endlosbahn, von welcher das Hologramm abgenommen wird.

Weitere Vorteile, Merkmale und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen sowie der nachfolgenden Beschreibung, in der unter Bezugnahme auf die Zeichnung ein besonders bevorzugtes Ausführungsbeispiel im Einzelnen beschrieben ist. Dabei können die in der Zeichnung dargestellten sowie die in der Beschreibung und in den Ansprüchen erwähnten Merkmale jeweils einzeln für sich oder in beliebiger Kombination erfindungswesentlich sein.

Die Zeichnung zeigt eine Prinzipansicht der erfindungsgemäßen Vorrichtung 10. Von einer nicht dargestellten Vorratsrolle wird über eine Abzugstation 12 eine Endlosbahn 14 in Richtung des Pfeils 16 abgezogen. Diese Endlosbahn 14 durchläuft zunächst eine erste Exzenterstation 18 und wird dann in eine Siegelstation 20 geführt, wobei sie im Anschluß an die Sieglstation 20 über eine zweite Exzenterstation 22 geführt wird und von einer weiteren Abzugstation 12 transportiert wird. Mit dem Bezugszeichen 24 sind Umlenk-oder Tänzerrollen bezeichnet.

In der Siegelstation 22 wird von einer Hologrammfolie 26 ein Hologramm auf die Endlosbahn 14 appliziert. Dies erfolgt über ein Prägefeld, welches auf einer Siegelwalze 28 vorgesehen ist. Die Hologrammfolie 26 wird, ggf. über eine nicht dargestellte Transportvorrichtung, von einer Vorratsrolle 30 abgezogen und auf eine Aufwickelrolle 32 aufgewickelt.

Die beiden Exzenterstationen 18 und 22 weisen jeweils eine Exzenterwelle 34 bzw. 36 auf, die um eine Achse 38 bzw. 40 umlaufen. Die beiden Exzenterwellen 34 und 36 sind derart angeordnet, dass sie um 180° versetzt sind.

Die beiden Exzenterwellen 34 und 36 laufen synchron um, wobei ihr Versatz um 180° erhalten bleibt. Die Umlaufgeschwindigkeit korrespondiert zur Transportgeschwindigkeit der Endlosbahn 14 und ist so eingestellt, dass die beiden Exzenterwellen 34 und 36 je auf der Endlosbahn 14 sich befindenden Produkt einmal umlaufen.

Dies bedeutet, dass zwischen den beiden Exzenterstationen 18 und 22 der Abschnitt der Endlosbahn 14 bei jedem durch die Siegelstation 20 hindurchlaufenden Produkt einmal abgebremst und einmal beschleunigt wird.

Die Transportgeschwindigkeit der Hologrammfolie 26 ist dabei so eingestellt, dass diese der minimalen Transportge- schwindigkeit dieses zwischen den Exzenterstationen 18 und 22 sich befindenden Abschnitt der Endlosbahn 14 korrespondiert, wobei die Applikation des Hologramms zum Zeitpunkt der minimalen Transportgeschwindigkeit erfolgt. Genau zu diesem Zeitpunkt befindet sich das auf der Hologrammfolie 26 angeordnete Hologramm exakt in der gewünschten Position auf der Endlosbahn 14. Dies wird mit einer Registerregelung erreicht, wofür die Hologrammfolie 26 eine Registerlochung aufweist, in die entsprechende Transport-oder Registerzapfen oder der Siegelwalze 28 eingreifen. Nach der Applikation des Hologramms auf die Endlosbahn 14 wird die Endlosbahn 14 beschleunigt, wo hingegen die Geschwindigkeit der Hologrammfolie 26 beibehalten bleibt. Auf diese Weise wird der Abstand zwischen den einzelnen Hologrammen verringert, sodass die Hologrammfolie 26 besser aufgenutzt und dadurch der Abfall minimiert wird.