近年、住宅やビル等の建築物の窓ガラス� ��は、夏季には日射エネルギーの室外から室� ��への流入を抑制し、冬季には室内から室外� ��の熱流出を抑制する省エネルギー窓材とし� ��、2枚の透明ガラスをスペーサーを介して合 わせ、2枚の透明ガラスの間に断熱空気層を� �成した複層ガラスが用いられるようになっ� �。

 また、住宅やビル等の建築物の窓ガラス� ��、居住性、室外の視認性の向上を目的とし� ��大面積化しており、それに伴い、夏季には� ��日射エネルギーの室内への流入が増大して� ��冷房負荷の増加となっている。

 そこで、夏季の日射エネルギーの室内へ� ��流入を抑制し、冷房負荷を軽減させるため� ��複層ガラスの室内側ガラスに、赤外線反射� ��を形成した低放射ガラスが多く用いられる� ��うになった。

 赤外線反射膜として、ZnO膜とAg膜とを交� �に積層した積層膜が知られている。

 特許文献1には、ZnO膜と厚みが110Å以下の Ag膜とを交互に積層する赤外線反射膜が開示� ��れ、Ag膜が1層の場合と2層の場合の実施例で 、可視光透過率が80%、太陽エネルギーの透過 率が44%以上の低放射ガラスが記載されている 。

 特許文献2には、ガラスにZnO膜、Ag膜、ZnO� ��と順次積層し、その上にアモルファス層(SiN X)を積層して、耐久性を向上させたものが開� ��されている。また、可視光透過率が78~83%の� ��施例が記載されている。また、特許文献3に は、可視光透過率が71.2~80.0%、日射透過率が30 .4~45.6%の、ZnO膜とAg膜を交互に5層積層する積� ��膜が記載されている。

 さらに、特許文献4には、Ag膜1層用いた遮 熱膜と反射防止膜を用いて、可視光透過率が 49~51%、日射透過率が30~32%の複層ガラスが記載 されている。

 ZnO膜とAg膜とを交互に積層する赤外線反� �膜は、Ag膜の抵抗値が小さいほど赤外線の反 射率が大きくなり、従って、赤外線反射率を 大きくして遮蔽性能を高めるためには、Ag膜� ��厚くしてその抵抗を低くすればよいが、Ag� �を厚くすると、可視光透過率が小さくなっ� �、窓の採光性能が悪くなってしまう。

 Ag膜の抵抗に関しては、特許文献5に、ZnO膜� ��Ag膜を交互に積層する積層膜で、厚み12nmのA g膜を4層積層させ、4.2ω/□の低抵抗膜が得ら� ��ることが記載されている。さらに、特許文� ��6には、Ag膜をマグネトロンスパッタリング� ��で成膜する時の、放電電圧とAgターゲット� �面の磁界の強さとを調整して、Ag膜が1層の� �合、Ag膜の厚みt1が5~30nmの範囲で、積層膜の� ��抵抗が(35.8/t1+2.3)×10 ^-6 ωcm以下の赤外線反射積層膜、および、Ag膜が 2層の場合、Ag膜の総厚みt2が15~35nmの範囲で、 積層膜の比抵抗が(168.6/t2+1.3)×10 ^-6 ωcm以下である赤外線反射積層膜が記載され� �いる。

 高い可視光透過性を得るためには、金属� ��であるAg膜の膜厚を薄くすることが有効で� �るが、Ag膜の膜厚を薄くすると、赤外線反射 率が低下し、赤外線反射率の低下に伴い、日 射反射率が低下し、日射エネルギーの室内へ の流入が増加することで、遮熱性が低下して しまう。

 従って、Ag膜の膜厚は、可視光透過率と� �射反射率との兼ね合いで決定される。

 さらに、ZnO膜とAg膜とを交互の積層する赤� �線反射膜に関して、耐久性が向上するもの� �して、特許文献7には、ZnO膜の結晶性に関す� ��X線回折の記載が、また、特許文献8には、Ag の結晶性に関するX線回折の記載がなされて� �る。

特開昭63-134232号公報

特開2002-173343号公報

特開2004-58592号公報

特開2006-143525号公報

特開昭63-239044号公報

特開2006-206424号公報

特開平4-357025号公報

特開平5-24149号公報

 本発明は、高い可視光透過率を有し、か� ��日射エネルギーの室内への流入が小さい高� ��遮熱性を有する複層ガラスの提供を課題と� ��る。

 本発明の複層ガラスは、2枚の板ガラスが 所定の間隔で対向隔置され、該2枚の板ガラ� �の周縁部に該所定の間隔を保持するように� �ペーサーが配設され、該2枚の板ガラスの間� ��密封された中空層が形成され、1枚の板ガラ スに低抵抗膜が形成されている複層ガラスに おいて、低抵抗膜が中空層側に配せられ、該 低抵抗膜は第1金属酸化物膜、第1Ag膜、第2金� ��酸化物膜、第2Ag膜、第3金属酸化物膜が順次 積層されてなる積層膜であり、第1金属酸化� �膜、第2金属酸化物膜、第3金属酸化物膜はZnO 膜を主とする金属酸化物膜でなり、該ZnO膜は CuKα線を用いたX線回折法による、該ZnO膜の(00 2)結晶面による回折ピークの回折角度2θが33.9 °以下であり、複層ガラスの2枚の板ガラスは 共に3mm以上の厚みを有し、2枚の板ガラスの� �みの合計t1(mm)に対し、該複層ガラスのJISR3106 :1998に準拠した可視光透過率が(70.0-0.3×t1)%以� ��であり、該複層ガラスのJISR3106:1998に準拠し た日射熱取得率が0.38以下であることを特徴� �する複層ガラスである。

 また、本発明の複層ガラスは、前記複層� ��ラスにおいて、積層膜が、第1Ag膜の厚みと� ��2Ag膜の厚みとの合計をt2(nm)とし、低抵抗膜� ��表面抵抗が(3.4-0.04×t2)ω/□以下であること� �特徴とする複層ガラスであってもよい。

 また、本発明の複層ガラスは、前記複層� ��ラスにおいて、第1金属酸化物膜の光学厚み が57nm~77nmの範囲にあり、第1Ag膜の厚みが12nm~1 6nmの範囲にあり、第2金属酸化物膜の光学厚� �が160nm~200nmの範囲にあり、第2Ag膜の厚みが12n m~16nmの範囲にあり、第3金属酸化物膜の光学� �みが62nm~82nmの範囲にあることを特徴とする� �層ガラスであってもよい。

 また、本発明の複層ガラスは、前記複層� ��ラスにおいて、低抵抗膜が形成されている� ��ガラスの、ガラス面の反射色が、CIEL*a*b*色� ��座標図において、-20≦a*≦-5、-10≦b*≦5、で あることを特徴とする複層ガラス複層ガラス であってもよい。

 本発明の複層ガラスは、日射熱取得率が� ��さく、しかも可視光透過率の大きい複層ガ� ��スを提供することにより、明るく、しかも� ��熱性に優れた窓を実現する。

 本発明の複層ガラスは、透明性が高く、� ��宅やビル等の建築物等において日射を遮る� ��とを目的とする窓ガラスに用いる。

 本発明の複層ガラスは、図1に示すように 、低抵抗膜2が形成されている透明な板ガラ� �1ともう1枚の透明な板ガラス1´とを対向配置 し、板ガラス1、1´の周辺部をスペーサー4に� ��着剤3で接着し、さらに、シーリング材5で� �辺部をシールして、2枚の透明な板ガラス1、 1´の間に密閉された中空層を形成するもので ある。

 本発明の複層ガラスを、建物の窓に設置� ��るときには、低抵抗膜2が形成されている透 明な板ガラス1を室外側にすることが好まし� �。

 また、中空層の結露を防ぐために、スペ� ��サー4には、乾燥材(図示しない)を充填した� ��ペーサーを用いることが好ましい。

 透明な2枚の板ガラス1には、図2に示すよ� ��な、金属酸化物膜とAg膜とを交互に積層し� �なる低抵抗膜2が形成されている。

 各Ag膜の板ガラスとは反対側の面には、� �属酸化物膜形成時にAg膜が酸化されることを 防ぐため、保護金属膜(図示しない)を形成す� ��ことが好ましい。

 透明な板ガラスには、ソーダライムガラ� ��や、ソーダライムガラスに比べて酸化鉄含� ��量が少ない高透過ガラスなど、廉価なフロ� ��ト板ガラスが好適であるが、透明ガラスの� ��にも、ポリカーボネートやポリエチレンテ� ��フタレート等の透明な樹脂基材あるいはフ� ��ルム基材等を好適に用いることができる。

 金属酸化物膜は、板ガラスとAg膜との密� �性や、低抵抗膜の膜相互の密着性を高めて� �低放射ガラスの積層膜の強度と耐久性を高� �るために、さらには、低放射ガラスの可視� �の透過率を高めるために用いられる。

 金属酸化物膜は、低放射ガラスの好適な� ��強度や耐久性および高い透過率を得るため� ��、Ag膜の透明ガラス側に隣接して、ZnO膜を� �いることが好適である。

 さらに金属酸化物膜には、ZnO膜の他に、S i、Sn、Al、Ti等の酸化物膜、Si、Sn、Zn、Al、Ti� ��の窒化物膜や窒酸化物膜の中から少なくと� ��1種類以上を選んでなる金属酸化物膜を用い てもよい。

 金属酸化物膜は、図3に示されるような、 マグネトロンスパッタリング装置によって、 ターゲット20に金属ターゲットを用い、ガス� ��入管26から酸素ガスを導入して成膜するか� �あるいは、ターゲット20に、金属酸化物ター ゲットを用いて誘電体成膜することができる 。

 透明なガラス板21を基板ホルダー22で保持 し、真空チャンバー23内をメインバルブ24を� �放することで真空ポンプ25を用いて排気し、 さらに、真空チャンバー内にガス導入管26よ� ��、金属酸化物膜を作製する場合には酸素ガ� ��またはArと酸素の混合ガスを、マスフロー� �ントローラー27によりガス流量を制御して導 入し、真空チャンバー23内の圧力を調整する� ��とが好ましい。

 また、透明な板ガラス21を保持した基板� �ルダー22は移動可能な構造となっていて(図� �せず)、板ガラス21がターゲット20を通過する 時間を、基板ホルダー22の移動速度を変えて� ��整し、成膜する膜の厚みを制御することが� ��ましい。

 例えば、ZnOを成膜する場合、Znターゲッ� �をターゲット20に用いて、ガス導入管26から� ��当な混合比のArガスと酸素ガスを導入して� �膜することができる。あるいは、ZnOターゲ� �トをターゲット20に用いて、ガス導入管26か� ��Arガスのみを導入し、ZnO膜の成膜をしても� �い。

 さらに、ZnO膜は、X線回折測定によるZnO(00 2)面による回折ピーク最大強度位置が33.9°以� ��になることが好ましい。

 成膜時の真空チャンバー23内の圧力は、� �空ポンプとマスフローコントローラーによ� �制御して導入する酸素ガス流量とにより調� �されるが、安定な放電が維持できる範囲で� �できるだけ低い圧力にして成膜することが� �ましい。真空チャンバー23内の圧力は、真空 計26によって測定される。

 CuKα線を用いたX線回折法により測定され� ��、ZnO(002)面による回折ピーク最大強度の回� �角度2θが34°以上になると、Ag膜の単位厚み� �たりの抵抗値が大きい。したがって、CuKα線 を用いたX線回折法により測定される、ZnO(002) 面による回折ピーク最大強度の回折角度2θが 34°以上の場合は、Ag膜の抵抗値を小さくする ために、Ag膜を厚くしなければならず、好ま� ��い可視光透過率が得にくくなる。

 ZnO膜の回折角度2θが33.9°以下となるため� ��は、酸素ガスの流量は200sccm以下で、真空チ ャンバー23内の圧力は0.9Pa以下とすることが� �ましく、真空チャンバー23内の圧力はできる 限り低くすることが望ましい。

 Ag膜も金属酸化物膜と同様に、図3に示す� ��グネトロンスパッタリング装置によって成� ��することができ、金属酸化物膜のZnO膜に接� ��て成膜をすることが、Ag膜と金属酸化物膜� �の密着性を保つので、好ましい。

 ターゲット20にAgの金属ターゲットを用い 、透明な板ガラス21を基板ホルダー22で保持� �、真空チャンバー23内をメインバルブ24を開� ��することで真空ポンプ25を用いて排気し、� �らに、真空チャンバー内にガス導入管26より Arガスを、マスフローコントローラー27によ� �ガス流量を制御して導入し、透明板ガラス21 を保持した基板ホルダー22を、所望の速度で� ��ーゲットを通過させ、透明な板ガラス上にA g膜を形成する。

 Ag膜には、Pt、Bi、Cu、Au等の金属を、0.0~10 .0重量%程度含むAgターゲットを用いて、金属� ��を成膜し、Agを主成分とするPt、Bi、Cu、Au等 の金属を0.0~10.0重量%含む金属膜を用いても良 い。

 前述する金属酸化物膜の選択は、可視域� ��光学特性、金属酸化物膜自体の機械強度、� ��接する金属酸化物膜およびAg膜との密着性� �考慮して、行うことが望ましい。

 金属酸化物膜の波長550nmにおける屈折率� �n、金属酸化物膜の幾何学的膜厚をd(nm)とし� �時の、光学的膜厚をndとすると、第1金属酸� �物膜のndが57nm~77nmの範囲にあり、第2金属酸� �物膜のndが160nm~200nmの範囲にあり、第3金属酸 化物膜のndが62nm~82nmの範囲とすることが好ま� ��い。

 金属酸化物膜の光学的膜厚の下限値(透明 ガラスに直接成膜される第1金属酸化物膜の� �合は、57nm、第2金属酸化物膜の場合は160nm、� ��3金属酸化物膜の場合は62nm)を下回る場合、� ��たは、金属酸化物膜の光学的膜厚がその上� ��値(透明ガラスに直接成膜される第1金属酸� �物膜の場合は、77nm、第2金属酸化物膜の場合 は、200nm、第3金属酸化物膜の場合は、82nm)を� ��えると、可視光透過率が低下し、さらに建� ��物用途として好ましい反射色調が得られな� ��なる。

 さらに、第1Ag膜の幾何学的膜厚と第2Ag膜� ��幾何学的膜厚の和、すなわちAg膜の総幾何� �的膜厚は、24~32nmの範囲にあることが好まし� ��。総幾何学的膜厚が24nm未満の場合、日射反 射率が低下し、有効な遮熱性が得られず、ま た、総幾何学的膜厚が32nmを越えると、可視� �透過率が低下し、さらに建築物用途として� �ましくない、赤味を帯びた反射色調となる� �

 さらに、第2金属酸化物膜を形成中に第1Ag 膜がプラズマによるダメージを受けることを 防ぐ目的で、第1Ag膜と第2金属酸化物膜の間� �幾何学的膜厚が2nm程度の保護金属膜を成膜� �ることが望ましい。第2Ag膜と第3金属酸化物� ��の間にも同様に、保護金属膜を成膜するこ� ��が望ましい。

 保護金属膜には、Zn、Sn、Ti、Al、NiCr、Cr� �Zn合金、Sn合金、および各金属にAl,Sb金属を0. 0~10.0重量%含んだもの等を用いることができ� �。

 また、保護金属膜の代わりに、Alを2~12重� ��%含む酸化亜鉛(ZnAlOx)(以後AZO膜と呼ぶ)を用� �ることができる。

 Ag膜および金属酸化物膜は、スパッタリ� �グ法で成膜することが好ましく、特に図3に� ��すような、マグネトロンスパッタリング装� ��を用いて成膜することが好ましい。

 金属酸化物膜は、ターゲットに金属ター� ��ットを用い、ガス導入管から酸素ガスを導� ��して成膜するか、あるいは、ターゲットに� ��成膜される酸化物と同じ酸化物ターゲット� ��用いて成膜することができる。

 以下、図面を参照しながら、本発明を実� ��例によって詳細に説明する。ただし、本発� ��は実施例に限定されるものではない。

 実施例1
 図2に示すような、板ガラス1に、第1金属酸� ��物膜10、第1Ag膜13、第2金属酸化物膜11、第2Ag 膜14、第3金属酸化物膜12を、図3に示すマグネ トロンスパッタリング装置を用いて、積層し 、低抵抗膜2を形成した。板ガラス1には、厚� ��3mmのソーダライムガラスを用いた。

 第1金属酸化物膜10として、厚み3mmのソー� ��ライムガラス上にZnO膜を成膜した。ターゲ� ��ト20にZnターゲットを用い、ソーダライムガ ラスを基板ホルダー22に保持させた後、真空� ��ャンバー23内を真空ポンプ25によって排気し た。成膜中、真空ポンプ25は連続して稼働さ� ��た。

 真空チャンバー23内の雰囲気ガスは、ガ� �導入管26より、酸素ガスを導入し、酸素ガス の流量をマスフローコントローラー27により� ��御して調整した。

 真空ポンプ25にはクライオポンプを用い� �。成膜中の真空チャンバ-内の圧力は、マス� ��ローコントローラー27により酸素ガス流量� �60sccm以下に制御して圧力チャンバー23内に導 入して、圧力チャンバー23内の圧力を、所望� ��0.3Paに調節した。

 第1金属酸化物膜にはZnO膜を用い、32nmの� �何学的膜厚で成膜した。ZnO膜の幾何学的な� �厚は、板ガラスの搬送速度により調整した� �

 成膜したZnO膜の波長550nmにおける屈折率(� ��素屈折率の実数部)は2.1であり、第1金属酸� �物10のZnO膜の光学的膜厚ndは67nmであった。

 次に、真空チャンバー23内の酸素ガスを� �気した後、Arガスをガス導入管26からマスフ� ��ーコントローラー27で制御して真空チャン� �ー23内に導入して、真空チャンバー23内をAr� �ス雰囲気にし、第1Ag膜13を成膜した。

 第1Ag膜は、Agターゲットをターゲット20に 用いて、第1金属酸化物膜(ZnO膜)の上に成膜し た。第1Ag膜の幾何学的膜厚は、14nmとした。

 第1Ag膜の成膜中、真空チャンバー内の圧� ��は、真空ポンプと開閉バルブによって0.5Pa� �した。

 次に、第1Ag膜の上に、ZnAl(Al4wt%含有ZnO)タ� ��ゲットを用い、図2には図示しない、2nmの幾 何学的膜厚のZnAl膜を成膜した。

 ZnAl膜の成膜中、圧力チャンバー内のガス 雰囲気および圧力は、Ag膜の成膜と同様にし� ��。

 さらに、ZnAl膜の上に第2金属酸化物膜11と して、ZnO膜を182nmの光学的膜厚で成膜した。� ��膜条件は、板ガラス21の表面に成膜した第1� ��属酸化物膜10のZnO膜と同様にした。

 さらに、第2金属酸化物膜11の上に第2Ag膜1 4を14nmの幾何学的膜厚で成膜した。第2Ag膜14� �成膜は、第1Ag膜と同様にして行った。

 次に、第2Ag膜の上に、ZnAl(Al4wt%含有ZnO)タ� ��ゲットを用い、図2には図示しない、2nmの幾 何学的膜厚のZnAl膜を成膜した。成膜は、第1A g膜上に成膜したZnAl膜と同様にして行った。

 さらに、ZnAl膜の上に第3金属酸化物膜12と して、ZnO膜を72nmの光学的膜厚で成膜した。� �膜は、板ガラスの表面に第1金属酸化物膜10� �して成膜した、ZnO膜と同様にして行った。

 このようにして低抵抗膜2を形成した板ガ ラス1を用いて、図1に示すような複層ガラス� ��作製した。板ガラス1´には、厚み3mmのソー� ��ライムガラスを用いた。

 複層ガラスの構成は、室外側から、低抵� ��膜2を形成した厚み3mmのソーダライムガラス 、空気層6mm、厚み3mmのソーダライムガラスと した。

 可視光透過率および日射熱取得率をJISR310 6:1998に準拠して算出した結果、可視光透過率 は69.3%であり、日射熱取得率は0.36であった。 また、垂直入射光の非膜面の反射色がCIEL*a*b* 色度座標図において、a*が-9.2、b*が-5.3であっ た。

 実施例2
 板ガラス1、1´に厚み6mmのソーダライムガラ スを用いた他は、全て実施例1と同様にして� �層ガラスを作製した。

 板ガラス1を室外側にした時の、JISR3106:199 8に準拠して算出した可視光透過率は67.0%であ り、日射熱取得率は0.36であった。また、垂� �入射光の非膜面の反射色は、a*が-9.3、b*が-6. 1であった。

 後述する、同じ厚み12mmのソーダライムガ ラスを用いた比較例6に比べ、実施例2の複層� ��ラスは、可視光透過率が高い。従って、本� ��発明の複層ガラスは、従来のAg膜が2層の遮� ��性能を有しながら、Ag膜が1層の可視光透過� ��よりも良いものが得られる。

 実施例3
 板ガラス1、1´に厚み12mmのソーダライムガ� �スを用いた他は、全て実施例1と同様にした� ��

 板ガラス1を室外側にした時の、JISR3106:199 8に準拠して算出したところ、可視光透過率� �63.7%であり、日射熱取得率は0.35であった。� �た、垂直入射光の非膜面の反射色は、a*が-10 .5、b*が-5.6であった。

 実施例4
 板ガラス1、1´に厚み6mmの可視光透過率が91% の高透過ガラスを用いた他は、全て実施例1� �同様にした。

 板ガラス1を室外側にした時の、JISR3106:199 8に準拠して算出したところ、可視光透過率� �69.9%であり、日射熱取得率は0.35であった。� �た、垂直入射光の非膜面の反射色はa*が-11.2� ��b*が-6.6であった。

 実施例5
 板ガラス1に厚み6mmの可視光透過率が91%の高 透過ガラスを用い、板ガラス1´に厚み12mmの� �視光透過率が90%の高透過ガラスを用いた他� �、全て実施例1と同様にした。

 板ガラス1を室外側にした時の、JISR3106:199 8に準拠して算出したところ、可視光透過率� �69.2%であり、日射熱取得率は0.34であった。� �た、垂直入射光の非膜面の反射色は、a*が-11 .2、b*が-6.6であった。

 実施例6
 板ガラス1に、実施例5と同様の、厚み6mmの� �透過ガラスを用い、第1金属酸化物膜10とし� �、板ガラス1にSnO ₂ 膜を成膜し、次いでSnO ₂ 膜の上にZnO膜を成膜した。

 SnO ₂ 膜の成膜は、ターゲット20にSnターゲットを� �い、高透過ガラスを基板ホルダー22に保持さ せた後、真空チャンバー23内を真空ポンプ25� �よって排気した。成膜中、真空ポンプ25は連 続して稼働させた。

 真空チャンバー23内の雰囲気ガスは、ガ� �導入管26より、酸素ガスを導入し、酸素ガス の流量をマスフローコントローラー27により� ��御して調整した。

 真空ポンプ25にはクライオポンプを用い� �。成膜中の真空チャンバ-内の圧力は、マス� ��ローコントローラー27により酸素ガス流量� �60sccm以下に制御して圧力チャンバー23内に導 入して、圧力チャンバー23内の圧力を、所望� ��0.3Paに調節した。

 ZnO膜の成膜は、ターゲット20にZnターゲット を用い、SnO ₂ 膜を成膜した高透過ガラスを基板ホルダー22� ��保持し、SnO ₂ 膜の成膜と同様に、マスフローコントローラ ー27により酸素ガス流量を60sccm以下に制御し� ��圧力チャンバー23内の圧力を、所望の0.3Paに 調節して行った。

 第1金属酸化物膜10として成膜したSnO ₂ 膜の光学的膜厚は46.2nm、ZnO膜の光学的膜厚は 21nmとした。

 第1金属酸化物膜10の上に、幾何学的厚み� ��14nmの第1Ag膜13を、実施例1と同様にして成膜 した。

 第2金属酸化物膜11として、光学的膜厚が119. 1nmのSnO ₂ 膜と光学的膜厚が63nmのZnO膜を用いた。第2金� ��酸化物膜11の成膜は、第1金属酸化物膜10と� �様にして行った。

 第2金属酸化物膜11の上に、第1Ag膜13と同� �に幾何学的厚みが14nmの第2Ag膜14を成膜し、� �1Ag膜13と第2Ag膜14との幾何学的厚みの合計を2 8nmとした。

 第2Ag膜14の上に第3金属酸化物膜12として� �光学的膜厚が71.8nmのZnO膜を成膜した。成膜� �法は、第1金属酸化物膜10のZnO膜と同様にし� �。

 板ガラス1´に厚み6mmの高透過ガラスを用� ��、図1に示すような複層ガラスを作製した。

 この複層ガラスの可視光透過率および日� ��熱取得率をJISR3106:1998に準拠して算出した結 果、可視光透過率は71.6%であり、日射熱取得� ��は0.36であった。また、垂直入射光の非膜面 の反射色がCIEL*a*b*色度座標図において、a*が- 7.8、b*が-3.4であった。

 比較例1
 厚み3mmの板ガラス1に形成した低抵抗膜の構 成は、第1金属酸化物膜10に、光学的膜厚が50n mのZnO膜を用い、第2金属酸化物膜11に、光学� �膜厚が191nmのZnO膜を用い、第3金属酸化物膜12 に、光学的膜厚が80nmのZnO膜を用い、さらに� �第1Ag膜13と第2Ag膜14との幾何学的厚みの合計� ��31nmとした。

 第1金属酸化物膜10、第2金属酸化物膜11お� ��び第3金属酸化物膜12のZnO膜の成膜は、ター� ��ット20にZnターゲットを用い、真空チャンバ ー23内の排気を、真空ポンプ25を連続して稼� �させて、真空チャンバー23内の雰囲気ガスは 、ガス導入管26より、酸素ガスを導入し、酸� ��ガスの流量をマスフローコントローラー27� �より100sccm以下に制御して調整し、圧力チャ� ��バー23内の圧力を、1.0~1.2Paに調節して、行� �た。また、第1Ag膜13と第2Ag膜は、実施例1と� �様の成膜方法で成膜した。

 厚み3mmの板ガラス1´にソーダライムガラ� ��を用い、実施例1と同様にして、図1に示す� �層ガラスを作製した。

 この複層ガラスの可視光透過率および日� ��熱取得率をJISR3106:1998に準拠して算出した結 果、可視光透過率は60.4%であり、日射熱取得� ��は0.35であった。また、垂直入射光の非膜面 の反射色がCIEL*a*b*色度座標図において、a*が- 3.0、b*が-9.3であった。

 比較例2
 板ガラス1、1´に厚み6mmの可視光透過率が91% の高透過ガラスを用いた他は、全て比較例1� �同様にして複層ガラスを作製した。

 板ガラス1を室外側にした時の、JISR3106:199 8に準拠して算出した可視光透過率は62.2%であ り、日射熱取得率は0.35であった。また、垂� �入射光の非膜面の反射色は、a*が-2.4、b*が-10 .0であった。

 比較例3
 板ガラス1、1´に厚み12mmのソーダライムガ� �スを用いた他は、全て比較例1と同様にして� ��層ガラスを作製した。

 板ガラス1を室外側にした時の、JISR3106:199 8に準拠して算出した可視光透過率は56.5%であ り、日射熱取得率は0.35であった。また、垂� �入射光の非膜面の反射色は、a*が-1.97、b*が-9 .40であった。

 比較例4
 板ガラス1、1´に厚み10mmのソーダライムガ� �スを用い、第1金属酸化物膜10に、光学的膜� �が61nmのZnO膜を用い、第2金属酸化物膜11に、� ��学的膜厚が221nmのZnO膜を用い、第3金属酸化� ��膜12に、光学的膜厚が69nmのZnO膜を用い、さ� ��に、第1Ag膜13と第2Ag膜14との幾何学的厚みの 合計を22nmとして、比較例1と同様の成膜方法� ��成膜し、その他は実施例1と同様にして、図 1に示す複層ガラスを作製した。

 板ガラス1を室外側にした時の、JISR3106:199 8に準拠して算出した可視光透過率は61.5%であ り、日射熱取得率は0.37であった。また、垂� �入射光の非膜面の反射色は、a*が-6.50、b*が1. 70であった。

 比較例5
 板ガラス1、1´に厚み12mmのソーダライムガ� �スを用いた他は、全て比較例4と同様にして� ��図1に示す複層ガラスを作製した。

 板ガラス1を室外側にした時の、JISR3106:199 8に準拠して算出した可視光透過率は60.3%であ り、日射熱取得率は0.37であった。また、垂� �入射光の非膜面の反射色は、a*が-6.50、b*が1. 70であった。

 比較例6
 板ガラス1、1´に厚み12mmのソーダライムガ� �スを用い、第1金属酸化物膜10に、光学的膜� �が48nmのZnO膜を用い、第2金属酸化物膜11に、� ��学的膜厚が139nmのZnO膜を用い、さらに、第1A g膜13の幾何学的厚みを12nmとし、第3金属酸化� ��膜および第2Ag膜は成膜せずに、図1に示す複 層ガラスを作製した。

 第1、第2金属酸化物膜および第1Ag膜の成� �方法は比較例1と同様にして行った。

 板ガラス1を室外側にした時の、JISR3106:199 8に準拠して算出した可視光透過率は65.5%であ るが、日射熱取得率は0.48で、遮熱性の劣る� �のあった。また、垂直入射光の非膜面の反� �色は、a*が-2.38、b*が-16.79であった。

 表1に、実施例1~5及び比較例1~5の低抵抗膜の 膜構成を、また、表2に実施例1~5及び比較例1~ 5の、JISR3106:1998に準拠した可視光透過率、日� ��熱取得率および反射色を示す。

 表3は、実施例と比較例で成膜したZnO膜の、 CuKα線を用いたX線回折法による、ZnO膜の(002)� ��晶面による回折ピークの回折角度と抵抗膜� ��表面抵抗の値を示す。

 実施例1~6の回折角は全て33.9°以下であり� ��比較例では33.9°より大きいものであった。

 実施例の低抵抗膜の表面抵抗は、第1Ag膜� ��厚みと第2Ag膜の厚みとの合計t2は28nmで、3.4- 0.04×t2の値2.28に対し、いずれも低い抵抗値で あった。

 比較例1~3の低抵抗膜の表面抵抗は、第1Ag� ��の厚みと第2Ag膜の厚みとの合計t2は31nmで、3 .4-0.04×t2の値2.16に対し、いずれも高い抵抗値 であった。

 また、比較例4、5の低抵抗膜の表面抵抗� �、第1Ag膜の厚みと第2Ag膜の厚みとの合計t2は 22nmで、3.4-0.04×t2の値2.52に対し、いずれも高� ��抵抗値であった。

 図4に示されるとおり、実施例1~6の可視光 透過率の値は、「70.0-0.3×t1」で表される直線 よりも高かったのに対して、比較例1~5の可視 光透過率の値は該直線よりも低かった。