Die vorliegende Erfindung betrifft eine Ansteuervorrichtung zum Ansteuern zumindest eines Aktuators eines optischen Systems, ein optisches System mit einer solchen Ansteuervorrichtung und eine Lithograp hieanlage mit einem solchen optischen System.

Der Inhalt der Prioritätsanmeldung DE 10 2022 208 231.1 wird durch Bezugnahme vollumfänglich miteinbezogen (incorporation by reference).

Es sind Mikrolithographieanlagen bekannt, die aktuierbare optische Elemente, wie beispielsweise Mikrolinsenarrays oder Mikrospiegelarrays aufweisen. Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographiepro- zess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV'Lithographieanlagen entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Da die meisten Materialien Licht dieser Wellenlänge absorbieren, müssen bei solchen EUV'Lithographieanlagen reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden.

Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Mit aktuierbaren optischen Elementen lässt sich die Abbildung der Maske auf dem Substrat verbessern. Beispielsweise lassen sich Wellenfrontfehler bei der Belichtung, die zu vergrößerten und/oder unscharfen Abbildungen führen, ausgleichen.

Als Aktuator kann beispielsweise ein MEMS-Aktuator (MEMS; Microelectromechanical System) oder ein PMN-Aktuator (PMN; Blei-Magnesium-Niobate) eingesetzt werden. Ein PMN-Aktuator ermöglicht eine Streckenpositionierung im Sub- Mikrometer-Bereich oder Sub-Nanometer-Bereich. Dabei erfährt der Aktuator, dessen Aktuator-Elemente aufeinandergestapelt sind, durch Anlegen einer Gleichspannung eine Kraft, welche eine bestimmte Längenausdehnung verursacht. Die durch die Gleichspannung oder DC'Spannung (DC; Direct Cur-rent) eingestellte Position kann durch ein externes elektromechanisches Über-spre- chen an den sich prinzipbedingt ergebenden Resonanzstellen des mit der Gleichspannung angesteuerten Aktuators negativ beeinflusst werden. MEMS-Spiegel und zu deren Ansteuerung geeignete Aktuatoren sind beispielsweise in der DE 10 2016 213 025 Al beschrieben.

Für eine präzise Aktuatorsteuerung, zum Beispiel für eine Vielzahl von MEMS- Spiegeln, ist wegen der geringen Signalverzerrung ein Klasse-A-Verstärker als Endstufe von Vorteil. Ein Nachteil von Klasse- A- Verstärkern ist allerdings der hohe Ruhestrom, welcher zu einer hohen Abwärme führen kann. Gerade bei vielen MEMS'Spiegeln ist das in Ausführungsformen nicht tolerierbar. Eine Reduktion des Ruhestroms des Klasse-A-Verstärkers reduziert dagegen die Bandbreite und somit die Reaktionszeit des Aktuators. Das Problem hierbei ist, dass der Ruhestrom des Klasse-A-Verstärkers die Bandbreite des Klasse-A-Verstärkers definiert. Umso höher der Ruhestrom ist, umso schneller kann beispielweise ein kapazitiver Aktuator umgeladen werden. Jedoch bewirkt dies, wie ausgeführt, deutlich höhere Verlustleistung. Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, die Ansteuerung eines Aktuators eines optischen Systems zu verbessern.

Gemäß einem ersten Aspekt wird eine Ansteuervorrichtung zum Ansteuern zumindest eines Aktuators vor geschlagen. Die Ansteuervorrichtung umfasst: eine Endstufe, welche dazu eingerichtet ist, eine Eingangsspannung unter Verwendung eines Ruhestroms der Endstufe in eine Ansteuerspannung für den Aktuator zu verstärken, und eine Bereitstellungs-Vorrichtung, welche dazu eingerichtet ist, den Ruhestrom für die Endstufe in Abhängigkeit einer bestimmten Dynamik-Anforderung für die Endstufe einzustellen.

Bei der vorhegenden Ansteuervorrichtung wird der Ruhestrom der Endstufe in Abhängigkeit der Dynamik- Anforderung für die Endstufe eingestellt. Die Dynamik-Anforderung gibt die notwendige Dynamik der Endstufe zu einem bestimmten Zeitpunkt an. Wenn beispielsweise der anzusteuernde kapazitive Aktuator schnell umzuladen ist, so ist die Dynamik- Anforderung groß und der Ruhestrom wird schnell erhöht.

Das folgende Beispiel kann dies veranschaulichen. Zum Beispiel basiert die Dynamik-Anforderung auf einer Änderung der Eingangsspannung der Endstufe, vorzugsweise auf einer Ableitung der Eingangsspannung du/dt. Ein hohes du/dt entspricht in diesem Beispiel einer hohen Dynamik- Anforderung. Folglich wird bei einem hohen du/dt der Ruhestrom beispielsweise proportional erhöht. Mit anderen Worten ist du/dt direkt proportional zur Änderung des Ruhestroms. Bei einem negativen du/dt wird die Änderung und damit der Effekt in die andere Richtung wirksam. Hier wird der Ruhestrom verringert, was den Stromverbrauch vorteilhafterweise reduziert. Mit anderen Worten wird nur bei einer hohen Dynamik- Anforderung ein hoher Ruhestrom eingestellt, um entsprechend eine kurze Reaktionszeit des Aktuators bereitstellen zu können. Zu allen anderen Zeiten wird nur ein kleiner Ruhestrom verwendet, um die entsprechende Abwärme zu minimieren.

Folglich wird durch den temporär erhöhten Ruhestrom temporär eine hohe Umladegeschwindigkeit bereitgestellt. Ansonsten wird ein niedriger Ruhestrom verwendet, insbesondere bei konstanter Aktuatorstellung, um die Abwärme zu reduzieren.

Die vorhegende Ansteuervorrichtung bedingt weniger Verlustleistung, damit weniger Abwärme und damit die Möglichkeit, das Kühlkonzept des optischen Systems zu vereinfachen.

Die vorhegende Ansteuervorrichtung kann auch als Ansteuervorrichtung mit dynamischem Ruhestrom oder als Verstärkerstufe zur Ansteuerung eines Aktuators mit integrierter Anpassung der Dynamik bezeichnet werden.

Der Aktuator ist insbesondere ein MEMS -Aktuator, ein kapazitiver Aktuator, beispielsweise ein PMN-Aktuator (PMN; Blei-Magnesium-Niobate) oder ein PZT- Aktuator (PZT; Blei-Zirkonat-Titanate) oder ein LiNbO3-Aktuator (Lithium- niobat). Der Aktuator ist insbesondere dazu eingerichtet, ein optisches Element des optischen Systems zu aktuieren. Beispiele für ein solches optisches Element umfassen Linsen, Spiegel und adaptive Spiegel.

Das optische System ist bevorzugt eine Projektionsoptik der Lithographieanlage oder Projektionsbelichtungsanlage. Das optische System kann jedoch auch ein Beleuchtungssystem sein. Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV- Lithographieanlage sein. EUV steht für "Extreme Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Die Projektionsbelichtungsanlage kann auch eine DUV-Lithographieanlage sein.

DUV steht für "Deep Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm.

Gemäß einer Ausführungsform umfasst die Endstufe einen Klasse-A-Verstärker. Der Klasse-A-Verstärker hat nur eine geringe Signalverzerrung und bewirkt damit eine präzise Aktuator-Steuerung.

Gemäß einer Ausführungsform umfasst die Endstufe einen Klasse-AB- Verstärker. Der Klasse-AB-Verstärker ist eine geeignete Alternative zu dem vorgeschlagenen Klasse-A-Verstärker.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Endstufe einen Eingangsknoten zum Empfangen der Eingangsspannung der Endstufe, einen Ausgangsknoten zum Bereitstellen der Ansteuerspannung an den Aktuator und einen zwischen dem Eingangsknoten und dem Ausgangsknoten gekoppelten Transistor zum Verstärken der Eingangsspannung in die Ansteuerspannung.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Bereitstellungs-Vorrichtung eine Bereitstellungs-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, den Ruhestrom für die Endstufe in Abhängigkeit der bestimmten Dynamik-Anforderung für die Endstufe einzustellen und in den Ausgangsknoten der Endstufe einzuspeisen. Die Bereitstellungs-Einheit ist insbesondere in Software, als diskrete Schaltung oder als ASIC implementiert und setzt die bestimmte oder vorgegebene Dynamik-Anforderung für die Endstufe unmittelbar in einen entsprechenden Ruhestrom für die Endstufe um. Eine diskrete Schaltung ist insbesondere eine auf einer Leiter- karte aufgebaute Schaltung aus Standardkomponenten, zum Beispiel umfassend Widerstände, Transistoren, Kondensatoren, Operationsverstärker und dergleichen. Der Ruhestrom ist insbesondere der Strom, welcher durch die Endstufe fließt, selbst wenn diese nicht dynamisch aktiv ist. Der Ruhestrom wird dazu genutzt, um den Arbeitspunkt an dem Ausgangsknoten einzustellen. Im vorhegenden Fall wird dieser Arbeitspunkt je nach Dynamik-Anforderung durch die Bereitstellungs-Vorrichtung kurzzeitig verschoben. Der Ruhestrom kann auch als Bias- Strom bezeichnet werden.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Bereitstellungs-Vorrichtung: eine Steuer-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, einen für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikativen Strom bereitzustellen, und einen Stromspiegel, welcher dazu eingerichtet ist, den für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikativen Strom zur Bereitstellung des Ruhestroms zu spiegeln und den bereitgestellten Ruhestrom in den Ausgangsknoten der Endstufe einzuspeisen.

Die Steuereinheit ist insbesondere in Software, als diskrete Schaltung oder als ASIC implementiert und setzt die bestimmte Dynamik- Anforderung in ein für die Dynamik- Anforderung indikativen Strom um. Dieser für die Dynamik- Anforderung indikative Strom wird dann von dem Stromspiegel in den Ruhestrom gespiegelt, um den bereitgestellten Ruhestrom dann in den Ausgangsknoten der Endstufe einzuspeisen.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Steuer-Einheit dazu eingerichtet, den für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikativen Strom basierend auf einer Änderung der Eingangsspannung der Endstufe, insbesondere basierend auf einer Ableitung der Eingangsstufe der Endstufe, bereitzustellen.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Bereitstellungs-Vorrichtung: eine Steuerungs-Einheit, welche dazu eingerichtet ist, eine für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikative Spannung bereitzustellen, eine spannungsabhängige Stromquelle, welche dazu eingerichtet ist, die für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikative Spannung in einen dazu proportionalen Strom zu wandeln, und einen Stromspiegel, welcher dazu eingerichtet ist, den gewandelten proportionalen Strom zur Bereitstellung des Ruhestroms zu spiegeln und den bereitgestellten Ruhestrom in den Ausgangsknoten der Endstufe einzuspeisen.

Die Steuerungs-Einheit ist insbesondere in Software, als diskrete Schaltung oder als ASIC umgesetzt und stellt eine für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikative Spannung bereit. Diese für die Dynamik-Anforderung indikative Spannung wird dann von der spannungsabhängigen Stromquelle in einen entsprechend dazu proportionalen Strom gewandelt. Dieser gewandelte Strom ist wiederum für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikativ und wird dem Stromspiegel bereitgestellt, welcher den gewandelten proportionalen Strom spiegelt und als Ruhestrom in die Endstufe einspeist. Der Stromspiegel kann auch als Stromspiegelschaltung bezeichnet werden.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Steuerungs-Einheit dazu eingerichtet, die für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikative Spannung basierend auf einer Änderung der Eingangsspannung der Endstufe, insbesondere basierend auf einer Ableitung der Eingangsspannung der Endstufe, bereitzustellen.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Bereitstellungs-Vorrichtung: eine Differenzverstärkerschaltung, welche dazu eingerichtet ist, eingangs- seitig die Eingangsspannung der Endstufe zu empfangen und abhängig davon ausgangsseitig eine für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikative Spannung bereitzustellen, eine spannungsabhängige Stromquelle, welche dazu eingerichtet ist, die für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikative Spannung in einen dazu proportionalen Strom zu wandeln, und einen Stromspiegel, welcher dazu eingerichtet ist, den gewandelten proportionalen Strom zur Bereitstellung des Ruhestroms zu spiegeln und den bereitgestellten Ruhestrom in den Ausgangsknoten der Endstufe einzuspeisen.

Diese Ausführungsform der Bereitstellungs-Vorrichtung ist insbesondere gänzlich in Hardware implementiert. Bei dieser Ausführungsform wird die Dynamik- Anforderung aus der Eingangsspannung der Endstufe abgeleitet. Insbesondere wird die erste Ableitung der Eingangsspannung der Dynamik- Anforderung gleichgestellt. Die Dynamik- Anforderung ist dann damit implementiert als du/dt, wobei u die Eingangsspannung und t die Zeit bezeichnen.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Differenzverstärkerschaltung dazu eingerichtet, die für die bestimmte Dynamik- Anforderung indikative Spannung basierend auf einer Änderung der Eingangsspannung der Endstufe, insbesondere basierend auf einer Ableitung der Eingangsspannung der Endstufe, bereitzustellen.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Differenzverstärkerschaltung: einen Eingangsknoten zum Empfangen der Eingangsspannung der Endstufe, einen Ausgangsknoten zum Bereitstellen der für die bestimmte Dynamik- Anforderung indikativen Spannung, einen zwischen dem Eingangsknoten und dem Ausgangsknoten gekoppelten Operationsverstärker, eine zwischen dem Eingangsknoten und dem invertierenden Eingang des Operationsverstärkers gekoppelte Serienschaltung aus einem Kondensator und einem Widerstand zum Bereitstellen eines dynamisch veränderlichen Anteils für die indikative Spannung in Abhängigkeit der an dem Eingangsknoten empfangenen Eingangsspannung, einen an dem nicht-invertierenden Eingang des Operationsverstärkers gekoppelten Spannungsteiler zum Bereitstellen eines Gleichanteils für die indikative Spannung, und eine zwischen dem invertierenden Eingang des Operationsverstärkers und dem Ausgangsknoten gekoppelte Widerstands-Schaltung mit zumindest einem Widerstand.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Ansteuervorrichtung eine Mehrzahl N von Endstufen zum jeweiligen Ansteuern eines Aktuators mittels einer jeweiligen Ansteuerspannung. Dabei ist der Stromspiegel dazu eingerichtet, den für die bestimmte Dynamik-Anforderung indikativen Strom N-fach zum Bereitstellen eines jeweiligen Ruhestroms zu spiegeln und den jeweils bereitgestellten Ruhestrom in den jeweiligen Ausgangsknoten der jeweiligen Endstufe einzuspeisen.

Diese Ausführungsform ist von besonderem Vorteil, wenn eine Vielzahl N von optischen Elementen durch eine entsprechende Vielzahl N von Aktuatoren anzusteuern ist. Bei dieser Ausführungsform ist dann für die Ansteuerung der N Aktoren nur ein einziger Stromspiegel nötig, welcher den für die bestimmte Dynamik-Anforderung, gültig für alle N Aktuatoren, indikativen Strom N-fach spiegelt, um einen jeweiligen Ruhestrom für die jeweilige Endstufe bereitzustellen. Ein weiterer Vorteil neben dem Einsatz einer geringeren Anzahl von Bauteilen, nämlich nur einem Stromspiegel, liegt darin, dass die N Endstufen identisch angesteuert werden können.

Die jeweilige Einheit, zum Beispiel die Steuer-Einheit, kann hardwaretechnisch und/oder auch softwaretechnisch implementiert sein. Bei einer hardware- technischen Implementierung kann die Einheit als Vorrichtung oder als Teil einer Vorrichtung, zum Beispiel als Computer oder als Mikroprozessor oder als Teil der Steuervorrichtung ausgebildet sein. Bei einer software-technischen Implementierung kann die Einheit als Computerprogrammprodukt, als eine Funktion, als eine Routine, als Teil eines Programmcodes oder als ausführbares Objekt aus gebildet sein.

Gemäß einem zweiten Aspekt wird ein optisches System mit einer Anzahl an ak- tuierbaren optischen Elementen vorgeschlagen, wobei jedem der aktuierbaren optischen Elemente der Anzahl ein Aktuator zugeordnet ist, wobei jedem Aktuator eine Ansteuervorrichtung zum Ansteuern des Aktuators gemäß dem ersten Aspekt oder gemäß einer der Ausführungsformen des ersten Aspekts zugeordnet ist.

Das optische System umfasst insbesondere ein Mikrospiegelarray und/oder ein Mikrolinsenarray mit einer Vielzahl an unabhängig voneinander aktuierbaren optischen Elementen.

In Ausführungsformen lassen sich Gruppen von Aktuatoren definieren, wobei allen Aktuatoren einer Gruppe die gleiche Ansteuervorrichtung zugeordnet sind.

Gemäß einer Ausführungsform ist das optische System als eine Beleuchtungsoptik oder als eine Projektionsoptik einer Lithographieanlage ausgebildet.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das optische System ein Vakuumgehäuse auf, in welchem die aktuierbaren optischen Elemente, die zugeordneten Aktuatoren und die Ansteuervorrichtung angeordnet sind. Gemäß einem dritten Aspekt wird eine Lithographieanlage vorgeschlagen, welche ein optisches System gemäß dem zweiten Aspekt oder gemäß einer der Ausführungsformen des zweiten Aspekts aufweist.

Die Lithographieanlage ist beispielsweise eine EUV-Lithographieanlage, deren Arbeitslicht in einem Wellenlängenbereich von 0,1 nm bis 30 nm liegt, oder eine DUV-Lithographieanlage, deren Arbeitslicht in einem Wellenlängenbereich von 30 nm bis 250 nm liegt.

Gemäß einem vierten Aspekt wird ein Verfahren zum Betreiben einer Ansteuervorrichtung zum Ansteuern zumindest eines Aktuators vorgeschlagen, welche eine Endstufe, welche eine Eingangsspannung unter Verwendung eines Ruhestroms der Endstufe in eine Ansteuerspannung für den Aktuator zu verstärkt. Hierbei wird der den Ruhestrom für die Endstufe in Abhängigkeit einer bestimmten Dynamik-Anforderung für die Endstufe eingestellt.

Das Verfahren weist die entsprechenden Vorteile auf, die zu der Ansteuervorrichtung gemäß dem ersten Aspekt erläutert sind. Die für die Ansteuervorrichtung beschriebenen Ausführungsformen gelten für das vorgeschlagene Verfahren entsprechend.

"Ein" ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

Fig. 1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungsanlage für eine EUV-Projektionslithographie;

Fig. 2 zeigt eine schematische Darstellung einer Ausführungsform eines optischen Systems;

Fig. 3 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer ersten Ausführungsform einer Ansteuervorrichtung zum Ansteuern eines Aktuators zum Aktuieren eines optischen Elementes eines optischen Systems;

Fig. 4 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer zweiten Ausführungsform einer Ansteuervorrichtung zum Ansteuern eines Aktuators zum Aktuieren eines optischen Elementes eines optischen Systems;

Fig. 5 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer dritten Ausführungsform einer Ansteuervorrichtung zum Ansteuern eines Aktuators zum Aktuieren eines optischen Elementes eines optischen Systems; und Fig. 6 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer vierten Ausführungsform einer Ansteuervorrichtung zum Ansteuern eines Aktuators zum Aktuieren eines optischen Elementes eines optischen Systems.

In den Figuren sind gleiche oder funktions gleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.

Fig. 1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Litho- graphieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssystem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuchtungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht.

Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverla- gerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar.

In der Fig. 1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x- Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x-Rich- tung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y verläuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der Fig. 1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Objektebene 6. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.

Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Rich- tung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikel- Verlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.

Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Lichtquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (EnglJ Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (EnglJ Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (EnglJ Free-Electron-Laser, FEL) handeln.

Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (EnglJ Grazing Incidence, Gl), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (EnglJ Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.

Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.

Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche auch als Feldfacetten bezeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der Fig. 1 nur beispielhaft einige dargestellt.

Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein. Wie beispielsweise aus der DE 10 2008 009 600 Al bekannt ist, können die ersten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbesondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Facettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS'System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 10 2008 009 600 Al verwiesen.

Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y.

Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 Al, der EP 1 614 008 Bl und der US 6,573,978.

Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.

Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 10 2008 009 600 Al verwiesen. Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.

Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (EnglJ Fly's Eye Integrator) bezeichnet.

Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 10 2017 220 586 Al beschrieben ist.

Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.

Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (Ni-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GFSpiegel, Grazing Incidence Spiegel) umfassen. Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der Fig. 1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.

Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.

Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.

Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.

Bei dem in der Fig. 1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel Ml bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann.

Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilay er -Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.

Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koor- dinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Rich- tung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy in x- und y-Rich- tung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe ßx, ßy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (ßx, ßy) = (+/- 0,25, /+- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab ß bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.

Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 44.

Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 84.

Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.

Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 Al.

Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23.

Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.

Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten F acetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet.

Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden. Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.

Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.

Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Apertur strahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.

Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten F acettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.

Bei der in der Fig. 1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuchtungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 definiert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.

Fig. 2 zeigt eine schematische Darstellung einer Ausführungsform eines optischen Systems 300 für eine Lithographieanlage oder Projektionsbelichtungsanlage 1, wie sie beispielsweise in Fig. 1 gezeigt ist. Außerdem kann das optische System 300 der Fig. 2 beispielweise auch in einer DUV-Lithographieanlage eingesetzt werden.

Das optische System 300 der Fig. 2 hat eine Mehrzahl an aktuierbaren optischen Elementen 310. Das optische System 300 ist hier als ein Mikrospiegelarray ausgebildet, wobei die optischen Elemente 310 Mikrospiegel sind. Jeder Mikrospiegel 310 ist mittels eines zugeordneten Aktuators 200 aktuierbar. Beispielsweise kann ein jeweiliger Mikrospiegel 310 mittels des zugeordneten Aktuators 200 um zwei Achsen verkippt werden und/oder in einer, zwei oder drei Raumachsen verschoben werden. Aus Gründen der Übersicht sind die Bezugszeichen nur der obersten Reihe dieser Elemente eingezeichnet.

Die Ansteuervorrichtung 100 steuert den jeweiligen Aktuator 200 beispielsweise mit einer Ansteuerspannung V2 (siehe Fig. 3 bis 6) an. Damit wird eine Position des jeweiligen Mikrospiegels 310 eingestellt. Die Ansteuervorrichtung 100 ist insbesondere unter Bezugnahme auf die Fig. 3 bis 6 beschrieben.

In der Fig. 3 ist ein schematisches Blockdiagramm einer ersten Ausführungsform einer Ansteuervorrichtung 100 zum Ansteuern eines Aktuators 200 zum Aktuie- ren eines optischen Elementes 310 eines optischen Systems 4, 10 dargestellt. Der Aktuator 200 ist in den Ausführungsformen der Fig. 3 bis 6 ein kapazitiver Aktuator und in diesen Fig. 3 bis 6 als Kapazität gezeichnet. Die Ansteuervorrichtung 100 nach Fig. 3 umfasst eine Endstufe 110 sowie eine

Bereitstellungs-Vorrichtung 120.

Die Endstufe 110 ist dazu eingerichtet, eine Eingangsspannung VI unter Verwendung eines Ruhestroms II der Endstufe 110 in eine Ansteuerspannung V2 für den Aktuator 200 zu verstärken. Die Endstufe 110 ist vorzugsweise als ein Klasse- A- Verstärker ausgebildet und umfasst einen Transistor TI. Der Transistor TI ist beispielsweise ein Feldeffekttransistor (FET). Alternativ kann der Transistor TI auch als ein Bipolartransistor ausgebildet sein. Alternativ zum Klasse-A-Verstärker kann die Endstufe 110 auch als Klasse-AB-Verstärker ausgebildet sein.

Die Endstufe 110 umfasst einen Eingangsknoten Kl zum Empfangen der Eingangsspannung VI, einen Ausgangsknoten K2 zum Bereitstellen der Ansteuerspannung V2 an den Aktuator 200 und den zwischen dem Eingangsknoten Kl und dem Ausgangsknoten K2 gekoppelten Transistor TI zum Verstärken der Eingangsspannung VI in die Ansteuerspannung V2.

Die Bereitstellungs-Vorrichtung 120 der Fig. 3 ist dazu eingerichtet, den Ruhestrom II für die Endstufe 110 in Abhängigkeit einer bestimmten Dynamik- Anforderung DA für die Endstufe 110 einzustellen. Die Dynamik-Anforderung DA kann beispielsweise von einer Steuervorrichtung (nicht gezeigt) des optischen Systems 4, 10 vorgegeben sein oder vorgegeben werden. Die Dynamik- Anforderung DA kann in Ausführungsformen auch aus der Eingangsspannung VI abgeleitet werden (siehe hierzu beispielsweise Fig. 6).

Die Bereitstellungs-Vorrichtung 120 der Fig. 3 umfasst allerdings eine Bereitstellungs-Einheit 121. Die Bereitstellungs-Einheit 121 ist dazu eingerichtet, die Dynamik-Anforderung DA zu empfangen, beispielsweise von der übergeordneten Steuerungsvorrichtung des optischen Systems 4, 10, und den Ruhestrom II für die Endstufe 110 in Abhängigkeit der bestimmten Dynamik-Anforderung DA einzustellen und in den Ausgangsknoten K2 der Endstufe 110 einzuspeisen.

Fig. 4 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer zweiten Ausführungsform einer Ansteuervorrichtung 100 zum Ansteuern eines Aktuators 200 zum Aktuie- ren eines optischen Elements 310 eines optischen Systems 4, 10.

Die zweite Ausführungsform nach Fig. 4 unterscheidet sich von der ersten Ausführungsform nach Fig. 3 in der Ausbildung der Bereitstellungs-Vorrichtung 120.

Die Bereitstellungs-Vorrichtung 120 nach Fig. 4 umfasst eine Steuer-Einheit 122 sowie einen Stromspiegel 123. Der Stromspiegel 123 kann auch als Stromspiegelschaltung bezeichnet werden.

Die Steuer-Einheit 122 ist dazu eingerichtet, einen für die bestimmte Dynamik- Anforderung DA indikativen Strom 12 bereitzustellen. Der Strom 12 ist für die Dynamik-Anforderung DA indikativ, was bedeutet, dass die geforderte Dynamik an den Aktuator 200 als Anforderung beziehungsweise Information in dem Strom 12 abgebildet ist.

Der Stromspiegel 123 wird mit einer positiven Versorgungsspannung V4 versorgt und ist dazu eingerichtet, den für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikativen Strom 12 zur Bereitstellung des Ruhestroms II zu spiegeln und den bereitgestellten Ruhestrom II in den Ausgangsknoten K2 der Endstufe 110 einzuspeisen.

Dabei ist die Steuer-Einheit 122 insbesondere dazu eingerichtet, den für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikativen Strom 12 basierend auf einer Änderung der Eingangsspannung VI der Endstufe 110 bereitzustellen. In diesem Fall kann die Steuer-Einheit 122 die bereitgestellte Eingangsspannung VI der Endstufe 110 als Dynamik- Anforderung DA nutzen (nicht gezeigt in Fig. 4).

Vorzugsweise ist die Steuer-Einheit 122 dabei dazu eingerichtet, den für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikativen Strom 12 basierend auf einer Ableitung, insbesondere der ersten Ableitung, der Eingangsspannung VI der Endstufe 110 bereitzustellen.

In der Fig. 5 ist ein schematisches Blockdiagramm einer dritten Ausführungsform einer Ansteuervorrichtung 100 zum Ansteuern eines Aktuators 200 zum Aktuieren eines optischen Elements 310 eines optischen Systems 4, 10 gezeigt. Die dritte Ausführungsform nach Fig. 5 unterscheidet sich von den Ausführungsformen nach Fig. 3 und 4 in der Ausbildung der Bereitstellungs-Vorrichtung 120.

Die Bereitstellungs-Vorrichtung 120 nach Fig. 5 umfasst eine Steuerungs-Einheit 124, eine spannungsabhängige Stromquelle 125 sowie einen Stromspiegel 123. Die Steuerungs-Einheit 124 ist dazu eingerichtet, eine für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikative Spannung V3 bereitzustellen.

Die spannungsabhängige Stromquelle 125 ist dazu eingerichtet, die für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikative Spannung V3 in einen dazu proportionalen Strom 12 zu wandeln. Damit ist der gewandelte proportionale Strom 12 ebenso für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikativ. Die spannungsabhängige Stromquelle 125 umfasst einen Operationsverstärker O2, welcher mittels einer Versorgungsspannung V5 versorgt wird, einen Transistor T4, beispielsweise einen Feldeffekttransistor, sowie einen Widerstand R5. Der Widerstand R5 ist mit dem invertierenden Eingang des Operationsverstärkers O2 und mit dem Transistor T4, wie in der Fig. 5 gezeigt, gekoppelt. Der Transistor T4 stellt ausgangsseitig den gewandelten proportionalen Strom 12 dem Stromspiegel 123 bereit. Der Stromspiegel 123 ist wie zur Fig. 4 erläutert ausgebildet. Folglich ist der Stromspiegel 123 dazu eingerichtet, den gewandelten proportionalen Strom 12 zur Bereitstellung des Ruhestroms II zu spiegeln und den bereitgestellten Ruhestrom II in den Ausgangsknoten K2 der Endstufe 110 einzuspeisen.

Hierbei ist die Steuerungs-Einheit 124 insbesondere dazu eingerichtet, die für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikative Spannung V3 basierend auf einer Änderung der Eingangsspannung VI der Endstufe 110, insbesondere basierend auf einer Ableitung der Eingangsspannung VI der Endstufe, bereitzustellen.

Fig. 6 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer vierten Ausführungsform einer Ansteuervorrichtung 100 zum Ansteuern eines Aktuators 200 zum Aktivieren eines optischen Elements 310 eines optischen Systems 4, 10.

Die vierte Ausführungsform der Ansteuervorrichtung 100 nach Fig. 6 unterscheidet sich von den Ausführungsformen nach den Fig. 3, 4 und 5 in der Ausbildung der Bereitstellungs-Vorrichtung 120, ansonsten entspricht die vierte Ausführungsform nach Fig. 6 der nach Fig. 5.

Die Bereitstellungs-Vorrichtung 120 nach Fig. 6 umfasst eine Differenzverstärkerschaltung 126, eine spannungsabhängige Stromquelle 125 (wie Fig. 5) sowie einen Stromspiegel 123 (wie Fig. 5).

Die Differenzverstärkerschaltung 126 ist dazu eingerichtet, eingangsseitig die Eingangsspannung VI der Endstufe 110 zu empfangen und abhängig davon ausgangsseitig eine für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikative Spannung V3 bereitzustellen. Hierbei ist die Differenzverstärkerschaltung 126 insbesondere dazu eingerichtet, die für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikative Spannung V3 basierend auf einer Änderung der Eingangsspannung VI der Endstufe 110, insbesondere basierend auf einer Ableitung der Eingangsspannung VI der Endstufe 110, bereitzustellen.

Hierzu umfasst die Differenzverstärkerschaltung 126 einen Eingangsknoten K3 zum Empfangen der Eingangsspannung VI der Endstufe 110, einen Ausgangsknoten K4 zum Bereitstellen der für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikativen Spannung V3, einen zwischen dem Eingangsknoten K3 und dem Ausgangsknoten K4 gekoppelten Operationsverstärker 01, eine zwischen dem Eingangsknoten K3 und dem invertierenden Eingang des Operationsverstärkers 01 gekoppelte Serienschaltung aus einem Kondensator Cl und einem Widerstand RI zum Bereitstellen eines dynamisch veränderlichen Anteils für die indikative Spannung V3 in Abhängigkeit der an dem Eingangsknoten K3 empfangenen Eingangsspannung VI, einen an dem nicht-invertierenden Eingang des Operationsverstärkers 01 gekoppelten Spannungsteiler R2, R3 zum Bereitstellen eines Gleichanteils für die indikative Spannung V3 und eine zwischen dem invertierenden Eingang des Operationsverstärkers 01 und dem Ausgangsknoten K4 gekoppelte Widerstands-Schaltung mit zumindest einem Widerstand R4.

Jede der Ausführungsformen der Ansteuervorrichtung 100 nach den Fig. 4 bis 6 kann dazu ausgelegt werden, nicht nur eine Endstufe 110 anzusteuern, sondern eine Mehrzahl N von Endstufen 110 zum jeweiligen Ansteuern eines Aktuators 200 mit seiner jeweiligen Ansteuerspannung V2, mit N > 2. Hierzu wird der Stromspiegel 123 dazu eingerichtet, den für die bestimmte Dynamik-Anforderung DA indikativen Strom 12 N-fach zum Bereitstellen eines jeweiligen Ruhestroms II zu spiegeln und den jeweils bereitgestellten Ruhestrom II in den jeweiligen Ausgangsknoten K2 der jeweiligen Endstufe 110 einzuspeisen.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar. BEZUGSZEICHENLISTE

1 Projektionsbelichtungsanlage

2 Beleuchtungs system

3 Lichtquelle

4 Beleuchtungsoptik

5 Objektfeld

6 Objektebene

7 Retikel

8 Retikelhalter

9 Retikelverlagerungsantrieb

10 Projektionsoptik

11 Bildfeld

12 Bildebene

13 Wafer

14 Waferhalter

15 Waferverlagerungsantrieb

16 Beleuchtungsstrahlung

17 Kollektor

18 Zwischenfokusebene

19 Umlenkspiegel

20 erster Facettenspiegel

21 erste F acette

22 zweiter Facettenspiegel

23 zweite Facette

100 Ansteuervorrichtung

110 Endstufe

120 Bereitstellungs-Vorrichtung

121 Bereitstellungs-Einheit

122 Steuer-Einheit 123 Stromspiegel

124 Steuerungs-Einheit

125 spannungsabhängige Stromquelle

126 Differenzverstärkerschaltung

200 Aktuator

300 optisches System

310 optisches Element

C 1 Kondensator

DA Dynamik-Anforderung

11 Ruhestrom

12 indikativer Strom

Kl Eingangsknoten der Endstufe

K2 Ausgangsknoten der Endstufe

K3 Eingangsknoten der Differenzverstärkerschaltung

K4 Ausgangsknoten der Differenzverstärkerschaltung

Ml Spiegel

M2 Spiegel

M3 Spiegel

M4 Spiegel

M5 Spiegel

M6 Spiegel

01 Operationsverstärker

02 Operationsverstärker

RI Widerstand

R2 Widerstand

R3 Widerstand

R4 Widerstand

R5 Widerstand

TI Transistor T2 Transistor

T3 Transistor

T4 Transistor

V 1 Eingangssp annung V2 Ansteuerspannung

V3 indikative Spannung

V4 Versorgungsspannung

V5 Versorgungsspannung