| JP2002040651 | POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION |
| JP2023114334 | COMPOSITION |
| JP2002507640 | [Title of Invention] Perfluoroelastomer composition |
MIYATA ATSUSHI (JP)
MAEDA MITSURU (JP)
MIYATA ATSUSHI (JP)
| JP2007126568A | 2007-05-24 | |||
| JP2003183402A | 2003-07-03 | |||
| JPH11303998A | 1999-11-02 | |||
| JPH0259177B2 | 1990-12-11 | |||
| JP3082626B2 | 2000-08-28 |
| (A)テトラフルオロエチレン72.8~74.0モル%、(B)パーフルオロ(低級アルキルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテル)26.8~24.0モル%および(C)パーフルオロ不飽和ニトリル化合物0.2~3.0モル%よりなる共重合組成を有する含フッ素エラストマー。 |
| ムーニー粘度ML 1+10 (121℃)が70~115である請求項1記載の含フッ素エラストマー。 |
| 請求項1記載の含フッ素エラストマー100重量部当り0.2~5重量部のビスアミドキシム化合物を配合してなる含フッ素エラストマー組成物。 |
| 請求項3記載の含フッ素エラストマー組成物を加硫成形して得られたシール材。 |
| プラズマ照射用途に用いられる請求項4記載のシール材。 |
| 半導体製造装置用として用いられる請求項5記載のシール材。 |
| シリコンウェハーの表面処理加工室の面シールとして用いられる請求項6記載のシール材。 |
| 無機充填剤を含有していない請求項5、6または7記載のシール材。 |
| ゲートバルブ用途に用いられる請求項5記載のシール材。 |
本発明は、含フッ素エラストマーに関す 。さらに詳しくは、プラズマ照射用途など 用いられる含フッ素エラストマーに関する
半導体製造装置用シールは、半導体の基板 あるシリコンウェハー等の表面にエッチン 加工あるいは薄膜を形成させるなどの処理 するための加工室等に用いられる面シール して適用されるものであり、耐熱性、低ガ 透過性、低発塵性(シールからの塵の発生が 少ないこと)などが要求される。シリコンウ ハーエッチング処理時などには、酸素ある はCF 4 雰囲気下などでプラズマ照射されるため、酸 素あるいはハロゲンなどのガスが励起された 状態となり、その結果半導体製造装置用シー ルは劣化し易く、またその表面が脆くなり、 劣化物や脆化物が飛散して、シリコンウェハ ー上に付着するなどの不具合がみられる。
ところで、半導体製造装置においては、3 00℃といった高温での使用要求に対して耐熱 にすぐれたシアノ基含有パーフルオロエラ トマーなどが使用されている。一方、耐プ ズマ性向上のために、シリカ、硫酸バリウ 、アルミナ、珪酸アルミニウム等の無機充 剤を添加することが行われており、これら 機充填剤の添加はプラズマ照射環境下での 量減少の抑制に効果が認められるものの、 タン、バリウム、アルミニウムといった元 自体の存在が半導体業界では嫌われている ともあり、シリカのみあるいは全く無機充 剤を用いない材料であることが好ましい。
また、ゲートバルブ用途に使用される場 には、金属との粘着性が強いとそれによる 具合が発生することがあるので、低粘着性 あることも求められている。
半導体製造装置の高温使用環境において 用される、すぐれた耐熱性を示すシアノ基 有パーフルオロエラストマー(含フッ素エラ ストマー)およびその加硫剤としては、以下 記載されるようなものが従来提案されてい 。
含フッ素エラストマーとしては、(A)テトラ
ルオロエチレンを53~79.8モル%、好ましくは64
.4~72.6モル%、さらに好ましくは69.3モル%、(B)
ーフルオロ(メチルビニルエーテル)20~45モル%
、好ましくは27~35モル%、さらに好ましくは30
ル%および(C)一般式
CF 2
=CF〔OCF 2
CF(CF 3
)〕 x
O(CF 2
) n
CN
n:1~4
x:1~2
で表わされるパーフルオロ不飽和ニトリル化
合物0.2~2モル%、好ましくは0.4~1.0モル%、さら
好ましくは0.7モル%の共重合組成を有するも
のが知られており、この含フッ素エラストマ
ーはビスアミノフェノールまたは芳香族テト
ラミンによって硬化されるとされている。
この種の含フッ素エラストマーはまた、一
式
HON=C(NH 2
)-(CF 2
) n
-C(NH 2
)=NOH
n:1~10
で表わされるビスアミドキシム化合物を加硫
剤として加硫されることが、本出願人によっ
て提案されている。この場合に用いられる含
フッ素エラストマーとしては、(A)テトラフル
オロエチレン45~75モル%、(B)パーフルオロ(低
アルキルビニルエーテル)またはパーフルオ
(低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテ
ル)54.8~20モル%および(C)パーフルオロ不飽和ニ
トリル化合物0.2~5モル%よりなる共重合組成を
有するものが用いられており、各実施例では
(A):(B):(C)モル比がそれぞれ63.5:34.9:1.6または68.
8:30.0:1.2の共重合組成を有するものが含フッ
エラストマーとして用いられている。
さらに、この種の含フッ素エラストマーを
い、ビスアミドラゾン化合物を加硫剤とし
用いて加硫することも、本出願人によって
案されている。ここで用いられる含フッ素
ラストマーとしては、(A)テトラフルオロエ
レン45~75モル%、(B)パーフルオロ(低級アルキ
ルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級
ルコキシ低級アルキルビニルエーテル)50~25
ル%および(C)パーフルオロ不飽和ニトリル化
合物0.1~5モル%よりなる共重合組成を有するも
のが用いられており、実施例では(A):(B):(C)モ
比が57.3:39.6:2.8の共重合組成を有するものが
用いられている。
前記特許文献2に記載されている含フッ素 エラストマーは、加硫剤としてのビスアミド キシム化合物と架橋反応するシアノ基を有し ており、加硫剤をそこに配合した含フッ素エ ラストマー組成物は、ロール混練性などの加 工性においても問題がなく、また耐熱性およ び耐溶剤性の点においても満足される加硫成 形品を与え得るとされ、275℃または300℃、70 間という条件下での圧縮永久歪値が測定さ ているが、300℃での圧縮永久歪値からみて 半導体製造装置で用いられる300℃といった 温での使用に十分耐え得る耐熱性を有して るとはいえない。
本発明の目的は、シアノ基を架橋性基と る含フッ素エラストマーにおいて、この加 物がプラズマ照射条件下で使用され、また3 00℃といった高温条件下で使用された場合に っても、プラズマ照射による重量減少を抑 し、また300℃以上といった高温条件下にお てもすぐれた耐熱性を示すといった含フッ エラストマーを提供することにある。
かかる本発明の目的は、(A)テトラフルオ エチレン72.8~74.0モル%、(B)パーフルオロ(低 アルキルビニルエーテル)またはパーフルオ (低級アルコキシ低級アルキルビニルエーテ ル)26.8~24.0モル%および(C)パーフルオロ不飽和 トリル化合物0.2~3.0モル%よりなる共重合組 を有する含フッ素エラストマーによって達 される。かかる含フッ素エラストマーは、 れの100重量部当り0.2~5重量部のビスアミドキ シム化合物を加硫剤として配合し、含フッ素 エラストマー組成物を形成させる。
本発明に係る含フッ素エラストマーは、 スアミドキシム化合物を加硫剤として加硫 形することにより、有効な半導体製造装置 シール材を形成させることができる。得ら たシール材は、カーボンブラック、シリカ の無機充填剤を含有していなくともすぐれ 耐熱性を示し、300℃以上、具体的には300℃ よび315℃での圧縮永久歪値によって示され ような良好な高温耐熱性を示している。こ ため、Oリング等のシール材は、300℃以上で の高温条件下においても、良好なシール性を 保持し得る。
また、無機充填剤を含有していないため プラズマ照射条件下で使用されても、金属 素を含む微粒子の発生がなく、またそれに る重量減少も抑制されるので、半導体製造 置用途に好適に用いられる。さらに、ステ レス鋼板、アルミニウム板等の金属板、シ カガラス板、シリコン板等に対する非粘着 にすぐれているので、半導体形成用基板を 空系内で予備室から加工室に出し入れする ート部分のバルブであって、プラズマ照射 れる領域へ付設されるゲートバルブ用途に 用された場合などには、このシール材が接 る金属に対して低粘着性であるという効果 奏せられる。
本発明に係る含フッ素エラストマーは、(A) トラフルオロエチレン72.8~74.0モル%、(B)パー フルオロ(低級アルキルビニルエーテル)また パーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキル ビニルエーテル)26.8~24.0モル%および(C)パーフ オロ不飽和ニトリル化合物0.2~3.0モル%より る共重合組成を有し、そのムーニー粘度ML 1+10 (121℃)は70~115である。その共重合割合は、前 特許文献1~3の共重合割合に関する一般的な 載には含まれるものの、好ましい共重合割 範囲、さらに好ましい共重合割合にも記載 れていない範囲に設定されている。
(A)成分のテトラフルオロエチレンの共重 割合は、72.8~74.0モル%と前記特許文献1~3の上 限値に近く、特に特許文献1の好ましい範囲 上限値よりもさらに高く設定されており、 の共重合割合がこれよりも低いと、耐熱性 面で劣り、またシリコン、金属、シリカガ ス等への粘着性が強くなり、一方これより 高い共重合割合では、エラストマーという りは樹脂的挙動を示すため、シール性能が 化し、また加工性に劣るようになる。
また、(B)成分のパーフルオロ(低級アルキ ルビニルエーテル)またはパーフルオロ(低級 ルコキシ低級アルキルビニルエーテル)の共 重合割合は、26.8~24.0モル%と、前記特許文献1 好ましい範囲である27~35モル%より低く、同 献のさらに好ましい共重合割合である30モ %よりも低く、さらには特許文献2、3の実施 で用いられた共重合割合である30モル%以上 りも低く設定されている。この共重合割合 これよりも低いと、相対的にテトラフルオ エチレンの共重合割合が増加することもあ て、300℃、315℃の圧縮永久歪値によって示 れるように、共重合体が樹脂に近い状態と り、シール性能の低下が著しくなる。一方 これよりも共重合割合が高いと、特に粘着 が著しく悪化するようになる。
(B)成分共単量体のパーフルオロ(低級アルキ
ルビニルエーテル)としては、一般にはパー
ルオロ(メチルビニルエーテル)、パーフルオ
ロ(エチルビニルエーテル)、パーフルオロ(プ
ロピルビニルエーテル)等が用いられる。ま
、パーフルオロ(低級アルコキシ低級アルキ
ビニルエーテル)としては、例えば次のよう
なものが用いられ、
また、架橋サイト単量体としての(C)成分共
量体のパーフルオロ不飽和ニトリル化合物
しては、次のようなものが用いられる。
なお、(C)成分のパーフルオロ不飽和ニト ル化合物の共重合量は、架橋性基として必 な0.2~3.0モル%、好ましくは0.5~2.0モル%とされ る。
これら各単量体を用いての共重合反応は 一般にステンレス鋼製オートクレーブ中に 、パーフルオロオクタン酸アンモニウム等 含フッ素系乳化剤およびリン酸二水素カリ ム等の緩衝剤を仕込んだ後、テトラフルオ エチレン、パーフルオロ(低級アルキルビニ ルエーテル)またはパーフルオロ(低級アルコ シ低級アルキルビニルエーテル)およびパー フルオロ不飽和ニトリル化合物を順次仕込み 、約50~80℃に昇温させた後、過硫酸アンモニ ム等のラジカル発生剤および亜硫酸ナトリ ム等の還元剤を添加することにより行われ 。反応圧力は、約0.75~0.85MPa程度に保たれる とが好ましく、このため反応の進行と共に 下する反応容器内圧力を上げるため、これ 3種の単量体混合物を追加分添しながら反応 を行うことが好ましい。
以上の成分を必須成分とする3元共重合体 中には、共重合反応を阻害せずかつ加硫物性 を損なわない程度(約20モル%以下)の他のフッ 化オレフィンや各種ビニル化合物などを共 合させることもできる。フッ素化オレフィ としては、例えばフッ化ビニリデン、モノ ルオロエチレン、トリフルオロエチレン、 リフルオロプロピレン、ペンタフルオロプ ピレン、ヘキサフルオロプロピレン、ヘキ フルオロイソブチレン、クロロトリフルオ エチレン、ジクロロジフルオロエチレン等 用いられ、またビニル化合物としては、例 ばエチレン、プロピレン、1-ブテン、イソ チレン、メチルビニルエーテル、エチルビ ルエーテル、ブチルビニルエーテル、シク ヘキシルビニルエーテル、酢酸ビニル、プ ピオン酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリ ン、トリフルオロスチレン等が用いられる
かかる3元共重合体よりなる含フッ素エラス
トマーには、前記特許文献2に記載される如
、一般式
HON=C(NH 2
)-(CF 2
) n
-C(NH 2
)=NOH
n:1~10
で表わされるビスアミドキシム化合物が加硫
剤として、含フッ素エラストマー100重量部当
り0.2~5重量部、好ましくは0.5~2重量部の割合
添加して用いられる。
ビスアミドキシム化合物を加硫剤として 合した含フッ素エラストマー組成物の調製 、2本ロール等を用いて約30~60℃で混練する とにより行われ、それの架橋は、約100~250℃ で約1~120分間加熱することによって行われる 二次加硫を行う場合には、窒素ガス雰囲気 どの不活性ガス雰囲気中約150~280℃で行われ 、下記実施例に記載される如く、段階的な昇 温でオーブン加硫が行われることが好ましい 。
次に、実施例について本発明を説明する
実施例1
内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ
中に水に、蒸留水55kg、パーフルオロオクタ
酸アンモニウム1800gおよびリン酸二水素カリ
ウム782gを仕込んだ後、オートクレーブ内を
素で置換し、次いで減圧した。そこに、
重合反応中、TFEを1.4kg/hr、FMVEを1.0kg/hr、CE PVEを52g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その 間のオートクレーブの圧力を0.78~0.83MPaに保っ た。重合反応開始時から7時間後に分添を停 し、そのままの状態をさらに1時間保った。 ートクレーブを冷却し、残ガスをパージし 、固形分濃度26重量%の水性ラテックスを76kg 得た。得られた水性ラテックスを5重量%塩化 グネシウム水溶液80Lとエタノール80Lと混合 中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時 間の乾燥を行って、白色のゴム状3元共重合 Aを17.6kg(収率89%)得た。
このゴム状3元共重合体は、ムーニー粘度ML 1+10
(121℃)が88で、赤外吸収スペクトルおよびNMR
析から、次のような組成であることが確認
れた。
TFE 73.5モル%
FMVE 24.9モル%
CEPVE 1.6モル%
実施例2
内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ
中に水に、蒸留水51kg、パーフルオロオクタ
酸アンモニウム900gおよびリン酸二水素カリ
ム782gを仕込んだ後、オートクレーブ内を窒
素で置換し、次いで減圧した。そこに、
重合反応中、TFEを1.4kg/hr、FMVEを0.9kg/hr、CP eVEを40g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その 間のオートクレーブの圧力を0.78~0.83MPaに保っ た。重合反応開始時から7時間後に分添を停 し、そのままの状態をさらに1時間保った。 ートクレーブを冷却し、残ガスをパージし 、固形分濃度27重量%の水性ラテックスを74kg 得た。得られた水性ラテックスを5重量%塩化 グネシウム水溶液80Lとエタノール80Lと混合 中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時 間の乾燥を行って、白色のゴム状3元共重合 Bを17.0kg(収率89%)得た。
このゴム状3元共重合体は、ムーニー粘度ML 1+10
(121℃)が89で、赤外吸収スペクトルおよびNMR
析から、次のような組成であることが確認
れた。
TFE 73.9モル%
FMVE 24.8モル%
CPeVE 1.3モル%
実施例3
内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ
中に水に、蒸留水55kg、パーフルオロオクタ
酸アンモニウム1800gおよびリン酸二水素カリ
ウム782gを仕込んだ後、オートクレーブ内を
素で置換し、次いで減圧した。そこに、
重合反応中、TFEを1.3kg/hr、FMVEを1.1kg/hr、CE PVEを30g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その 間のオートクレーブの圧力を0.78~0.83MPaに保っ た。重合反応開始時から7時間後に分添を停 し、そのままの状態をさらに1時間保った。 ートクレーブを冷却し、残ガスをパージし 、固形分濃度26重量%の水性ラテックスを76kg 得た。得られた水性ラテックスを5重量%塩化 グネシウム水溶液80Lとエタノール80Lと混合 中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時 間の乾燥を行って、白色のゴム状3元共重合 Cを17.5g(収率89%)得た。
このゴム状3元共重合体は、ムーニー粘度ML 1+10
(121℃)が84で、赤外吸収スペクトルおよびNMR
析から、次のような組成であることが確認
れた。
TFE 73.2モル%
FMVE 25.8モル%
CEPVE 1.0モル%
実施例4
内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ
中に水に、蒸留水55kg、パーフルオロオクタ
酸アンモニウム1800gおよびリン酸二水素カリ
ウム782gを仕込んだ後、オートクレーブ内を
素で置換し、次いで減圧した。そこに、
重合反応中、TFEを1.3kg/hr、FMVEを1.1kg/hr、CE PVEを52g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その 間のオートクレーブの圧力を0.78~0.83MPaに保っ た。重合反応開始時から7時間後に分添を停 し、そのままの状態をさらに1時間保った。 ートクレーブを冷却し、残ガスをパージし 、固形分濃度26重量%の水性ラテックスを76kg 得た。得られた水性ラテックスを5重量%塩化 グネシウム水溶液80Lとエタノール80Lと混合 中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時 間の乾燥を行って、白色のゴム状3元共重合 Dを17.4kg(収率89%)得た。
このゴム状3元共重合体は、ムーニー粘度ML 1+10
(121℃)が88で、赤外吸収スペクトルおよびNMR
析から、次のような組成であることが確認
れた。
TFE 73.3モル%
FMVE 25.1モル%
CEPVE 1.6モル%
実施例5
テトラフルオロエチレン-パーフルオロ(メ
ルビニルエーテル)-パーフルオロ(3,7-ジオキ
-8-シアノ-1-ノネン)〔モル比73.5:24.9:1.6〕3元
重合体〔共重合体A〕100重量部に、ビスアミ
ドキシム化合物(n=4)0.7重量部を加え、2本ロー
ルミル上で40~45℃の温度で混練した。混練物
180℃で30分間プレス加硫(一次加硫)した後、
次の条件下でのオーブン加硫(二次加硫)を窒
ガス雰囲気下で行った。
90℃で4時間
90℃から204℃迄6時間かけて昇温
204℃で18時間
204℃から288℃迄6時間かけて昇温
288℃で18時間
実施例6
実施例5において、共重合体Aの代わりに、
トラフルオロエチレン-パーフルオロ(メチル
ビニルエーテル)-パーフルオロ(3-オキサ-8-シ
ノ-1-オクテン) [モル比 73.9:24.8:1.3]3元共重
体〔共重合体B〕が用いられた。
実施例7
実施例5において、共重合体Aの代わりに、
トラフルオロエチレン-パーフルオロ(エチル
ビニルエーテル)-パーフルオロ(3,7-ジオキサ-8
-シアノ-1-ノネン) [モル比 73.2:25.8:1.0]3元共
合体〔共重合体C;ムーニー粘度ML 1+10
(121℃)84〕が用いられた。
実施例8
実施例5において、共重合体Aの代わりに、
トラフルオロエチレン-パーフルオロ(メトキ
シエチルビニルエーテル)-パーフルオロ(3,7-
オキサ-8-シアノ-1-ノネン) [モル比 73.3:25.1:1
.6]3元共重合体〔共重合体D;ムーニー粘度ML 1+10
(121℃)88〕が用いられた。
得られた3元共重合体について、次の各項目
の測定を行った。
常態物性:DIN53505(硬度)
DIN53503(引張試験)
圧縮永久歪:ASTM Method B;P-24 Oリングにつ
いて、300℃または315℃、70
時間の条件下で測定
プラズマ照射試験(重量減少率):アルバッ
ク社製RBH3030使用
O 2
プラズマ
RF出力 1500W
照射時間 6
間
真空度0.1 To
rr
粘着性試験:P24 Oリングを2枚の5cm角ステ
レス板(SUS板)、アルミニウム板、
シリカガラス板またはシリコン
板で挟み込み、15%圧縮した状態で
80℃で15時間加熱した後、30分間
室温条件下に冷却したものについ
て、これら2枚の板を速さ100mm/
の速度で引っ張ったときの最大荷
重を測定
比較例1
実施例1において、共重合体Aの代りに、共
合単量体モル比TFE:FMVE:CEPVE=68.5:29.9:1.6の3元共
重合体〔共重合体E;ムーニー粘度ML 1+10
(121℃)82〕が用いられ、同様の加硫および測
が行われた。なお、共重合体Eは、次のとお
に合成された。
内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ
中に水に、蒸留水55kg、パーフルオロオクタ
酸アンモニウム1800gおよびリン酸二水素カリ
ウム782gを仕込んだ後、オートクレーブ内を
素で置換し、次いで減圧した。そこに、
重合反応中、TFEを1.0kg/hr、FMVEを1.4kg/hr、CE PVEを52g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その 間のオートクレーブの圧力を0.78~0.83MPaに保っ た。重合反応開始時から7時間後に分添を停 し、そのままの状態をさらに1時間保った。 ートクレーブを冷却し、残ガスをパージし 、固形分濃度26重量%の水性ラテックスを76kg 得た。得られた水性ラテックスを5重量%塩化 グネシウム水溶液80Lとエタノール80Lと混合 中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時 間の乾燥を行って、白色のゴム状3元共重合 Eを17.2kg(収率87%)得た。
比較例2
実施例1において、共重合体Aの代りに、共
合単量体モル比TFE:FMVE:CEPVE=77.5:21.1:1.4の3元共
重合体〔共重合体F;ムーニー粘度ML 1+10
(121℃)91〕が用いられ、同様の加硫および測
が行われた。なお、共重合体Fは、次のとお
合成された。
内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ
中に水に、蒸留水55kg、パーフルオロオクタ
酸アンモニウム1800gおよびリン酸二水素カリ
ウム782gを仕込んだ後、オートクレーブ内を
素で置換し、次いで減圧した。そこに、
重合反応中、TFEを1.6kg/hr、FMVEを0.7kg/hr、CE PVEを40g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その 間のオートクレーブの圧力を0.78~0.83MPaに保っ た。重合反応開始時から7時間後に分添を停 し、そのままの状態をさらに1時間保った。 ートクレーブを冷却し、残ガスをパージし 、固形分濃度26重量%の水性ラテックスを76kg 得た。得られた水性ラテックスを5重量%塩化 グネシウム水溶液80Lとエタノール80Lと混合 中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時 間の乾燥を行って、白色のゴム状3元共重合 Fを17.5kg(収率93%)得た。
比較例3
実施例2において、共重合体Aの代りに、共
合単量体モル比TFE:FMVE:CEPVE=69.9:28.8:1.3の3元共
重合体〔共重合体G;ムーニー粘度ML 1+10
(121℃)85〕が用いられ、同様の加硫および測
が行われた。なお、共重合体Gは、次のとお
合成された。
内容積100Lのステンレス鋼製オートクレーブ
中に水に、蒸留水55kg、パーフルオロオクタ
酸アンモニウム1800gおよびリン酸二水素カリ
ウム782gを仕込んだ後、オートクレーブ内を
素で置換し、次いで減圧した。そこに、
重合反応中、TFEを1.1kg/hr、FMVEを1.3kg/hr、CE PVEを40g/hrの分添速度でそれぞれ添加し、その 間のオートクレーブの圧力を0.78~0.83MPaに保っ た。重合反応開始時から7時間後に分添を停 し、そのままの状態をさらに1時間保った。 ートクレーブを冷却し、残ガスをパージし 、固形分濃度26重量%の水性ラテックスを76kg 得た。得られた水性ラテックスを5重量%塩化 グネシウム水溶液80Lとエタノール80Lと混合 中に加えて凝析させた後水洗し、80℃で70時 間の乾燥を行って、白色のゴム状3元共重合 Gを17.4kg(収率88%)得た。
以上の各実施例および比較例で得られた結
は、次の表に示される。
本発明に係る含フッ素エラストマーにビ アミドキシム化合物を配合してなる組成物 加硫成形して得られたシール材は、プラズ 照射用途、例えば半導体製造装置用として いられる。また、シリコンウェハーの表面 理加工室の面シール、例えばチャンバーと ャンバーとの連結面あるいはチャンバーと ート(扉)との接合面に適用される、真空を 持するためのOリングやパッキン等としても 有効に用いられる。