以下、本発明の(1)インクジェット印刷用� ��ンク、および(2)該インクを用いたFPD用電極� ��製造方法について詳細に説明する。

 [(1)インクジェット印刷用インク]
 本発明のインクジェット印刷用インクは、( a)導電性粉末および(b)重合性不飽和結合を少� ��くとも一つ有する化合物を含有し、さらに� ��記(a)および(b)の他、(c)光重合開始剤を含有� ��ることができ、前記(a)、(b)および(c)の他、( d)前記式(1)で表される基を少なくとも2つ有す る化合物を含有することができる。

  (a)導電性粉末
 本発明の(a)導電性粉末については、特に限� ��されることはなく、該インクジェット印刷� ��インクにより形成される焼結体の用途(FPD部 材の種類)、仕様(抵抗)等に応じて適宜選択し て使用することができる。(a)導電性粉末とし ては、優れた導電性を示すことから、金、銀 、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、パラ ジウム、鉄、スズ、インジウムの金属微粒子 、ならびにそれらの酸化物微粒子および合金 微粒子が好ましい。本発明のインクジェット 印刷用インクは、これらの微粒子を少なくと も1種含有することが好ましい。

 また、(a)導電性粉末の平均粒径(D50)は、� �ンクの分散性、沈降性、インクジェットノ� �ルからの吐出性、パターニング精度、およ� �コストの観点から、0.05μm以上、5μm以下であ ることが望ましい。

 本発明のインクジェット印刷用インクに� ��いて、(a)導電性粉末の使用量は、インクの� ��体量に対して10~90質量%であり、好ましくは3 0~80質量%である。

  (b)重合性不飽和化合物
 本発明における(b)重合性不飽和化合物とし� ��は、重合性不飽和基としてメタクリロイル� ��(CH ₂  =C(CH ₃ )-CO-)を少なくとも1つ有する化合物(以下、「� ��タクリル系化合物」という。)、アクリルロ イル基(CH ₂  =CH-CO-)を少なくとも1つ有する化合物(以下、� �アクリル系化合物」という。)、ビニル基(CH ₂  =CH-)を少なくとも1つ有する化合物(以下、「� �ニル系化合物」という。)等を挙げることが� ��きる。前記(b)重合性不飽和化合物は、単独� ��または2種以上を組み合わせて使用すること ができる。

 (b)重合性不飽和化合物を用いる利点は、� ��ンクジェット吐出により形成したパターン� ��加熱して、その中に含まれる(b)化合物を架� ��させることにより硬化させたり、または該� ��ターンを紫外線等のエネルギー線照射によ� ��硬化させたりすることができるようになり� ��吐出直後のパターン形状を維持することが� ��能になることである。

 前記メタクリル系化合物としては、エチ� ��ングリコールジメタクリレート、エチレン� ��リコールモノメタクリレート、ジエチレン� ��リコールジメタクリレート、ジエチレング� ��コールモノメタクリレート、トリエチレン� ��リコールジメタクリレート、トリエチレン� ��リコールモノメタクリレート、テトラエチ� ��ングリコールジメタクリレート、テトラエ� ��レングリコールモノメタクリレート、1,3-プ ロパンジオールジメタクリレート、1,3-プロ� �ンジオールモノメタクリレート、1,4-ブタン� ��オールジメタクリレート、1,4-ブタンジオー ルモノメタクリレート、1,5-ペンタンジオー� �ジメタクリレート、1,5-ペンタンジオールモ� ��メタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメ タクリレート、1,6-ヘキサンジオールモノメ� �クリレート等を挙げることができるが、こ� �らに限定されるものではない。

 これらのメタクリル系化合物のうち、低� ��度である点で、エチレングリコールジメタ� ��リレート、エチレングリコールモノメタク� ��レート、ジエチレングリコールジメタクリ� ��ート、ジエチレングリコールモノメタクリ� ��ート、トリエチレングリコールジメタクリ� ��ート、トリエチレングリコールモノメタク� ��レート、1,3-プロパンジオールジメタクリレ ート、1,3-プロパンジオールモノメタクリレ� �ト、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、1 ,4-ブタンジオールモノメタクリレート等が好 ましく、特に、エチレングリコールジメタク リレート、ジエチレングリコールジメタクリ レートが好ましい。

 本発明において、メタクリル系化合物は� ��単独でまたは2種以上を混合して使用するこ とができる。

 前記アクリル系化合物としては、テトラ� ��ドロフルフリルアクリレート、2-フェノキ� �エチルアクリレート、フェノキシジエチレ� �グリコールアクリレート、イソボルニルア� �リレート、エチレングリコールジアタリレ� �ト、エチレングリコールモノアクリレート� �ジエチレングリコールジアクリレート、ジ� �チレングリコールモノアクリレート、トリ� �チレングリコールジアクリレート、トリエ� �レングリコールモノアクリレート、テトラ� �チレングリコールジアクリレート、テトラ� �チレングリコールモノアクリレート、ポリ� �チレングリコールモノアクリレート(エチレ� ��グリコール単位数が5~9)、トリプロピレング リコールジアクリレート、ポリプロピレング リコールジアクリレート(プロプレングリコ� �ル単位数が5~14)、1,3-プロパンジオールジア� �リレート、1,3-プロパンジオールモノアクリ� ��ート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、 1,4-ブタンジオールモノアクリレート、1,5-ペ� ��タンジオールジアクリレート、1,5-ペンタン ジオールモノアクリレート、1,6-ヘキサンジ� �ールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオール� ��ノアクリレート、ジメチロールトリシクロ� ��カンジアクリレート、モノメチロールトリ� ��クロデカンモノアクリレート、トリメチロ� ��ルプロパンモノアクリレート、トリメチロ� ��ルプロパンジアクリレート、トリメチロー� ��プロパントリアクリレート、ペンタエリス� ��トールジアクリレート、ペンタエリスリト� ��ルトリアクリレート、ペンタエリスリトー� ��テトラアクリレート、ジペンタエリスリト� ��ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリ� ��ールヘキサアクエチート、エトキシ化ペン� ��エリスリトールテトアクリレート(ペンタエ リスリトールとエチレンオキサイドとの付加 反応生成物のテトアクリレート)等を挙げる� �とができるが、これらに限定されるもので� �ない。

 これらのアクリル系化合物のうち、低皮� ��刺激性である点で、イソボルニルアクリレ� ��ト、テトラエチレングリコールジアクリレ� ��ト、テトラエチレングリコールモノアクリ� ��ート、ポリエチレングリコールジアクリレ� ��ト、ポリエチレングリコールモノアクリレ� ��ト、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、 1,6-ヘキサンジオールモノアクリレート、ペ� �タエリスリトールテトラアクリレート、ジ� �ンタエリスリトールペンタアクリレート、� �ペンタエリスリトールヘキサアクリレート� �エトキシ化ペンタエリスリトールテトラア� �リレート等が好ましく、特に、イソボルニ� �アクリレート、テトラエチレングリコール� �アクリレート、テトラエチレングリコール� �ノアクリレート、ポリエチレングリコール� �ノアクリレート、ペンタエリスリトールテ� �ラアクリレート、ジペンタエリスリトール� �ンタアクリレート、ジペンタエリスリトー� �ヘキサアクリレート、エトキシ化ペンタエ� �スリトールテトラアクリレートが好ましい� �

 本発明において、前記アクリル系化合物� ��、単独でまたは2種以上を混合して使用する ことができる。

 前記ビニル系化合物としては、N-ビニル� �ロリドン、N-ビニル-ε-カプロラクタム、エ� �レングリコールジビニルエーテル、エチレ� �グリコールモノビニルエーテル、ジエチレ� �グリコールジビニルエーテル、ジエチレン� �リコールモノビニルエーテル、トリエチレ� �グリコールジビニルエーテル、トリエチレ� �グリコールモノビニルエーテル、テトラエ� �レングリコールジビニルエーテル、テトラ� �チレングリコールモノビニルエーテル、2-(2- ビニルオキシエトキシ)エチルアクリレート� �2-(2-ビニルオキシエトキシ)エチルメタクリ� �ート等を挙げることができるが、これらに� �定されるものではない。

 これらのビニル系化合物のうち、低粘度� ��あるという点で、N-ビニルピロリドン、N-ビ ニル-ε-カプロラクタム、エチレングリコー� �ジビニルエーテル、エチレングリコールモ� �ビニルエーテル、ジエチレングリコールジ� �ニルエーテル、ジエチレングリコールモノ� �ニルエーテル、トリエチレングリコールジ� �ニルエーテル、トリエチレングリコールモ� �ビニルエーテル、2-(2'-ビニルオキシエトキ� �)エチルアクリレート、2-(2'-ビニルオキシエ� ��キシ)エチルメタクリレート等が好ましく、 特に、N-ビニルピロリドン、N-ビニル-ε-カプ� ��ラクタム、ジエチレングリコールジビニル� ��ーテル、ジエチレングリコールモノビニル� ��ーテル、トリエチレングリコールジビニル� ��ーテル、トリエチレングリコールモノビニ� ��エーテル、2-(2-ビニルオキシエトキシ)エチ� ��アクリレート、2-(2-ビニルオキシエトキシ)� ��チルメタクリレートが好ましい。

 本発明において、前記ビニル系化合物は� ��単独でまたは2種以上を混合して使用するこ とができる。

 本発明のインクジェット印刷用インクに� ��いて、(b)重合性不飽和化合物の使用量は、( a)導電性粉末100質量部に対して、通常30~300質� ��部であり、好ましくは50~200質量部である。

  (c)光重合開始剤
 本発明のインクジェット印刷用インクが前� ��(a)および(b)の他、(c)光重合開始剤を含有す� ��と、該インクを加熱以外に、エネルギー線� ��射によっても硬化させて、吐出直後のパタ� ��ン形状をそのまま維持させることができる� ��

 本発明の(c)光重合開始剤としては、例えば� ��
 ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、� ��ンファーキノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェ� ��ルエタン-1-オン、4,4'-ビス(ジメチルアミノ) ベンゾフェノン、4,4'-ビス(ジエチルアミノ)� �ンゾフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェ ニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシシクロヘ� ��シルフェニルケトン、2,2-ジメトキシ-2-フェ ニルアセトフェノン、2-メチル-1-〔4'-(メチル チオ)フェニル〕-2-モルフォリノプロパン-1-� �ン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフ ォリノフェニル)-ブタン-1-オン、などのカル� ��ニル化合物;
 アゾイソブチロニトリル、4-アジドベンズ� �ルデヒドおよびエタノン-1-[9-エチル-6-[2-メ� �ル-4-(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラニル)メトキ シベンゾイル]-9.H.-カルバゾール-3-イル]-1-(O-� ��セチルオキシム)などのアゾ化合物またはア ジド化合物;
 2-メルカプトベンゾチアゾールおよびメル� �プタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物;
 ベンゾイルパーオキシド、ジ-tert-ブチルパ� ��オキシド、tert-ブチルハイドロパーオキシ� �、クメンハイドロパーオキシドおよびパラ� �タンハイドロパーオキシドなどの有機パー� �キシド;
 1,3-ビス(トリクロロメチル)-5-(2'-クロロフェ ニル)-1,3,5-トリアジンおよび2-〔2-(2-フラニル )エチレニル〕-4,6-ビス(トリクロロメチル)-1,3 ,5-トリアジンなどのトリハロメタン類;
 2,2'-ビス(2-クロロフェニル)4,5,4',5'-テトラフ ェニル1,2'-ビイミダゾールなどのイミダゾー� ��二量体;
 2-イソプロピルチオキサントン、2,4-ジメチ� ��チオキサントン、2,4-ジエチルチオキサント ン、2,4-ジクロロチオキサントンなどのチオ� �サントン系化合物;
 2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニルホス フィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベ� �ゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイドな どのフォスフィンオキサイド化合物;
 1,2オクタンジオン、1-[4-(フェニルチオ)-、2- (O-ベンゾイルオキシム)]などのO-アシルオキ� �ム化合物などが挙げられる。

 本発明において、(c)光重合開始剤は、単� ��でまたは2種以上を混合して使用することが できる。

 本発明のインクジェット印刷用インクに� ��いて、(c)光重合開始剤の使用量は、(b)重合� ��不飽和化合物100質量部に対して、通常0.1~30� ��量部であり、好ましくは0.5~20質量部である� ��

  (d)式(1)で表される基を少なくとも 2つ有する化合物 
 本発明においては、(d)前記式(1)で表される� ��を少なくとも2つ有する化合物(以下、単に� �(d)化合物」ともいう。)を用いることにより� ��分散性に優れ、インク調製時の濾過性がよ� ��、調製後の沈降安定性にも優れるインクジ� ��ット印刷用インクを調製することが可能と� ��り、また、継続的に安定したインク吐出性� ��得ることができる。このため、(d)化合物を� ��有する本発明のインクジェット印刷用イン� ��を用いれば、精度の高いパターンを有する� ��極を効率よく製造することができる。

 前記(d)化合物の前記式(1)で表される基の� ��有数は、2つ以上、好ましくは2~6、より好ま しくは2~4である。前記式(1)で表される基の含 有数が前記範囲にあると、インクジェット印 刷用インクの分散性と保存安定性とのバラン スに優れる。

 前記(d)化合物としては、例えば、トリメ� ��ロールプロパントリス(3-メルカプトプロピ� ��ネート)、ペンタエリスリトールテトラキス (3-メルカプトプロピオネート)、テトラエチ� �ングリコールビス(3-メルカプトプロピオネ� �ト)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3-� ��ルカプトプロピオネート)等が挙げられる。

 本発明において、(d)化合物は、単独でま� ��は2種以上を混合して使用することができる 。

 本発明のインクジェット印刷用インクに� ��いて、(d)化合物の使用量は、(a)導電性粉末1 00質量部に対して、通常0.1~30質量部であり、� ��ましくは0.5~20質量部である。

  (e)任意成分 
 本発明のインクジェット印刷用インクには� ��焼成後の基板との密着性、構造物の機械的� ��度を上げるという目的で、結着ガラスを含� ��させてもよい。

 前記結着ガラスとしては、軟化点が350~700 ℃、好ましくは400~620℃の範囲内にあるガラ� �粉末を挙げることができる。ガラス粉末の� �化点が前記範囲の下限値を下回る場合には� �該ガラス粉末を含有するインクにより作成� �た硬化パターンの焼成工程において、可塑� �等の有機物質が完全には分解除去されてい� �い段階でガラス粉末が溶融し始め、この溶� �したガラスにより、残存する有機物質の分� �および揮発が阻止されることがある。その� �めこの場合、形成される部材の中に有機物� �の一部が不純物として残留し、その結果、� �部材の抵抗値が上昇するおそれがある。一� �、ガラス粉末の軟化点が前記範囲の上限値� �上回る場合には、620℃以上の高温で焼成す� �必要があるので、被印刷材であるガラス基� �等に歪み等が発生しやすい。

 好適なガラス粉末の具体例としては、
1.酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素(PbO-B ₂ O ₃ -SiO ₂ 系)の混合物、
2.酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素(ZnO-B ₂ O ₃ -SiO ₂ 系)の混合物、
3.酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ア� ��ミニウム(PbO-B ₂ O ₃ -SiO ₂ -Al ₂ O ₃ 系)の混合物、
4.酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ� ��(PbO-ZnO-B ₂ O ₃ -SiO ₂ 系)の混合物、
5.酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素(Bi ₂ O ₃ -B ₂ O ₃ -SiO ₂ 系)の混合物、
6.酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素(ZnO-P ₂ O ₅ -SiO ₂ 系)の混合物、
7.酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化カリウム(ZnO-B ₂ O ₃ -K ₂ O系)の混合物、
8.酸化リン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム( P ₂ O ₅ -B ₂ O ₃ -Al ₂ O ₃ 系)の混合物、
9.酸化亜鉛、酸化リン、酸化ケイ素、酸化ア� ��ミニウム(ZnO-P ₂ O ₅ -SiO ₂ -Al ₂ O ₃ 系)の混合物、
10.酸化亜鉛、酸化リン、酸化チタン(ZnO-P ₂ O ₅ -TiO ₂ 系)の混合物、
11.酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化 カリウム(ZnO-B ₂ O ₃ -SiO ₂ -K ₂ O系)の混合物、
12.酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化 カリウム、酸化カルシウム(ZnO-B ₂ O ₃ -SiO ₂ -K ₂ O-CaO系)の混合物、
13.酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化 カリウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウ ム(ZnO-B ₂ O ₃ -SiO ₂ -K ₂ O-CaO-Al ₂ O ₃ 系)の混合物
 等が挙げられる。

 前記ガラス粉末の平均粒子径(D50)は、0.1~5 μmであることが好ましい。

 前記ガラス粉末の添加量は、(a)導電性粉� ��100質量部に対し、0~20質量部であることが好 ましい。

 本発明のインクジェット印刷用インクに� ��、粘度調整のための溶剤、可塑剤、アクリ� ��樹脂およびセルロース樹脂等が含有されて� ��てもよい。

 また、本発明のインクジェット印刷用イ� ��クには、基板との密着性を上げるためのシ� ��ンカップリング剤、分散性向上や沈降抑制� ��ための前記(d)化合物以外の分散剤、接着助� ��、ハレーション防止剤、レベリング剤、保� ��安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収� ��、増感剤、粘着性付与剤、表面張力調整剤� ��よび乾燥防止剤等の各種添加剤が含有され� ��もよい。

 本発明のインクジェット印刷用インクは� ��前記(a)導電性粉末および(b)重合性不飽和、� ��記(a)導電性粉末、(b)重合性不飽和および(c)� ��重合開始剤、または前記(a)導電性粉末、(b)� ��合性不飽和、(c)光重合開始剤および(d)化合� ��と、必要に応じて前記(e)任意成分とを、ロ� ��ル混練機、ミキサー、ホモミキサー、ボー� ��ミル、ビーズミル等の混練機を用いて混練� ��ることにより調製することができる。

 前記のようにして調製されるインクジェ� ��ト印刷用インクは、インクジェットによる� ��出に適した流動性を有するインク状の組成� ��であり、その粘度は、25℃において通常1~100 0cP、好ましくは3~100cPとされる。

 本発明のインクジェット印刷用インクは� ��ピエゾ型、バブルジェット(登録商標)型、� �ームジェット型等、特に制限されることな� �いかなる方式のインクジェットにも使用す� �ことができる。

 本発明のインクジェット印刷用インクは� ��導電性を要する部材の製造、特にPDP用電極� ��、FPD用電極の製造に好適に用いることがで� ��る。

 [(2)FPD用電極の製造方法]
 以下、本発明のインクジェット印刷用イン� ��を用いたFPD用電極の製造方法について説明� ��る。

 本発明のFPD用電極の製造方法は、[1] 基� �上に前記インクジェット印刷用インクを用� �てインクジェット印刷してパターンを形成� �る工程、[2]前記パターンを加熱して、また� �前記パターンにエネルギー線を照射して硬� �パターンを得る工程、および[3]前記硬化パ� �ーンを焼成する工程を含む。本発明におい� �「エネルギー線」とは、紫外線、遠紫外線� �X線、電子線、分子線、γ線、シンクロトロ� �放射線およびプロトンビーム線等を意味す� �。

 以下、プラズマディスプレイパネルの前� ��基板上のバス電極形成プロセスにおける、� ��記各工程について説明する。他の電極の形� ��も、基本的に同様の方法により行うことが� ��きる。

 -[1]工程-
 本発明におけるパターンの形成は、公知の� ��ンクジェット方式によるパターン形成法に� ��って行うことができる。例えば、被印刷材� ��あるガラス基板(例えば、旭硝子製PD200)上に 形成された透明電極の上に、このガラス基板 またはインクジェットのヘッドを移動させな がら、インクジェットのヘッドからインクを 吐出させることによって、目的のパターンを 透明電極上に形成する。この際、ノズルの数 を増やすことで描写時間が短くなり、効率よ く電極を形成することができる。

 次の[2]工程において加熱により硬化パタ� ��ンを得る場合には、少なくとも(a)導電性粉� ��および(b)重合性不飽和化合物を含有するイ� ��クジェット印刷用インクが使用され、エネ� ��ギー線の照射により硬化パターンを得る場� ��には、少なくとも(a)導電性粉末、(b)重合性� ��飽和化合物および(c)光重合開始剤を含有す� ��インクジェット印刷用インクが使用される� ��

 この工程においては、安定した連続吐出� ��可能となるように、インクジェット印刷イ� ��クおよびノズルヘッドを、例えば、通常、1 0~100℃、好ましくは、15~60℃の一定温度に保� �することが望ましい。

 また、印刷インクのノズルからの吐出量� ��、例えば、通常2~15ピコリットル/秒、好ま� �くは4~12ピコリットル/秒である。

  -[2]工程-
 前記パターンを加熱することにより該パタ� ��ン中の成分を架橋させ、または前記パター� ��にエネルギー線を照射することにより該パ� ��ーンを硬化させて、硬化パターンを形成す� ��。

 熱による硬化は、印刷インクの着弾後、� ��常80~200℃で、1~15分間行うことが望ましい。

 露光による硬化は印刷インクの着弾後、� ��常0.001~2.0秒、好ましくは、0.001~1.0秒の間に� ��うことが望ましい。高精細な印刷を行うた� ��には、インクジェット印刷用インクの着弾� ��、速やかに露光を行うことが望ましい。

 露光に使用されるエネルギー線としては、� ��常200~500nm、好ましくは240~420nmの波長の紫外� ��または可視光線が用いられる。露光量は、� ��常1~1000mJ/cm ² である。露光方法としては、たとえば特開昭 60-132767号公報や米国特許第6145979号明細書に� �載されている方法、より具体的にはシャト� �方式やファイバー方式等を採用することが� �きる。

 印刷に際しては、単層で印刷しても、多� ��重ねに印刷してもよい。なお、多層重ねに� ��刷する場合は、各層の印刷後に、その都度� ��熱またはエネルギー線による硬化をするこ� ��が望ましい。

  -[3]工程-
 この工程においては、硬化パターンを焼成� ��理する。この焼成処理により、硬化パター� ��中に残留する有機物質が焼失されて、電極� ��形成される。

 焼成処理の温度は、硬化パターン中に残� ��する有機物質が焼失される温度であること� ��必要であり、通常400~600℃である。また、焼 成時間は、通常10~90分間である。