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Patent Searching and Data


Title:
SECURITY ELEMENT HAVING AT LEAST ONE FIRST COLOUR-SHIFTING AREA
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2021/063691
Kind Code:
A1
Abstract:
The invention relates to a security element (1) for valuable documents or security papers, the security element (1) having at least one first colour-shifting region (2), the security element (1) additionally having at least one second region (3) which is different from the first region (2) and which has structures (4) which reflect an image motif into different spatial regions, such that a movement image is produced for the viewer in the event of corresponding movement of a light source (5) and/or in the event of a change in an observation angle, wherein movement of the light source and/or change in the observation angle simultaneously produces a movement of the image motif and a colour shifting effect.

Inventors:
WÜRTH, Sonja (2801 Katzelsdorf, AT)
MAYRHOFER, Marco (4342 Baumgartenberg, AT)
Application Number:
EP2020/075988
Publication Date:
April 08, 2021
Filing Date:
September 17, 2020
Export Citation:
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Assignee:
HUECK FOLIEN GESELLSCHAFT M.B.H. (4342 Baumgartenberg, AT)
International Classes:
B42D25/324; B42D25/328; B42D25/364; B42D25/369; B42D25/373; B42D25/29; B42D25/425; G07D7/12
Attorney, Agent or Firm:
BURGER, Hannes (Rosenauerweg 16, 4580 Windischgarsten, AT)
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Claims:
P a t e n t a n s p r ü c h e

1. Sicherheitselement (1) für Wertpapiere oder Sicherheitspapiere, wobei das Sicherheit selement (1) zumindest einen ersten farbkippenden Bereich (2) aufweist, dadurch ge kennzeichnet, dass das Sicherheitselement (1) zusätzlich zumindest einen zweiten, von dem ersten Bereich (2) verschiedenen Bereich (3) mit Strukturen (4) aufweist, die ein Bildmotiv (4a) in unterschiedliche Raumbereiche reflektieren, so dass für den Betrach ter bei entsprechender Bewegung einer Lichtquelle (5) und/oder bei Veränderung eines Beobachtungswinkels ein Bewegungsbild entsteht, wobei bei Bewegung der Lichtquelle und/oder Veränderung des Beobachtungswinkels gleichzeitig eine Bewegung des Bild motivs und ein Farbkippeffekt entsteht.

2. Sicherheitselement (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der zumindest eine erste farbkippende Bereich (2) eine Schicht (6) mit farbkippenden Pigmenten, ins besondere Interferenzpigmente, Pigmente mit einem farbkippenden Dünnschichtaufbau oder Flüssigkristallpigmente, oder eine Schicht mit einem farbkippenden Dünnschicht aufbau (7) aufweist.

3. Sicherheitselement (1) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der zu mindest eine erste farbkippende Bereich (2) zumindest eine Flüssigkristallschicht, ins besondere zumindest eine cholesterische Flüssigkristallschicht aufweist.

4. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass der zumindest eine farbkippende Bereich (2) zumindest eine den Farbkippeffekt verstär kenden Schicht aufweist, insbesondere eine Schicht aus dunkler Farbe und/oder eine Schicht aus Metalloxiden wie beispielsweise unterstöchiometrisches Aluminiumoxid.

5. Sicherheitselement (1) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der farbkip pende Dünnschichtaufbau (7) oder die farbkippenden Pigmente zumindest eine Absor berschicht (8) und zumindest eine Distanzschicht (9) aus einem dielektrischen Material aufweist.

6. Sicherheitselement (1) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Dünn schichtaufbau (7) zumindest eine Reflexionsschicht (10) aufweist, wobei die Distanz schicht (9) zwischen Reflexionsschicht (10) und Absorberschicht (8) angeordnet ist.

7. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass es eine Trägerschicht (11) aus Kunststoff, insbesondere aus einem lichtdurchlässigen und/oder thermoplastischen Kunststoff, aufweist, wobei die Trägerschicht bevorzugt zu mindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), mono axial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Po lyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Po- lyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylen- terephthalat (PBT), Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen ( PTFE), Polyvinylfluorid ( PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF ) und Ethylen-Tetrafluo- rethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

8. Sicherheitselement (1) nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Träger schicht (11) eine Dicke von 5 pm bis 1000 pm, besonders bevorzugt eine Dicke von 10 pm - 50 pm, aufweist.

9. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 4 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass auf der zumindest einen Flüssigkristallschicht oder der zumindest einen Schicht aus farbkippenden Pigmenten die den Farbkippeffekt verstärkende Schicht, insbesondere eine Schicht aus dunkler Farbe und/oder eine Schicht aus Metalloxiden wie beispiels weise unterstöchiometrisches Aluminiumoxid, aufgebracht ist, sodas s die zumindest eine Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder die zumindest eine Flüssigkristall schicht zwischen der zumindest einen den Farbkippeffekt verstärkenden Schicht und der Trägerschicht angeordnet ist, oder dass die zumindest eine den Farbkippeffekt verstär- kende Schicht zwischen der Trägerschicht und der zumindest einen Schicht aus farbkip- penden Pigmenten oder der zumindest einen Flüssigkristallschicht angeordnet ist, oder dass die Trägerschicht zwischen der zumindest einen den Farbkippeffekt verstärkenden Schicht und der zumindest einen Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder der zumin dest einen Flüssigkristallschicht angeordnet ist.

10. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Absorberschicht (8) zumindest ein metallisches Material, insbeson dere ausgewählt aus der Gruppe Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

11. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht (9) zumindest ein niederbrechendes dielektri sches Material mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausge wählt aus der Gruppe Aluminiumoxid (AI2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesi- umfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AIF3), Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (S1O2), Cerfluorid (CeF3), Natrium- Aluminium- Fluoride (z.B. NasAlFf, oder NasALFu), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Mo nomere und/oder niederbrechende organische Polymere oder zumindest ein hochbre chendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbeson dere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (I Os), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Bei spiel Eisen(II,III)oxid (FesOO und Eisen(III)oxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafni- umcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i ), Samariumoxid (Sr Os), Antimontri- oxid (Sb20 ), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Se- lentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

12. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 6 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Reflexions Schicht (10) zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Silber, Kupfer, Aluminium, Gold, Platin,

Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Le gierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Ti tandioxid (T1O2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (ImOi), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tan- talpentoxid (TaiOs), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Ei senoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe304) und Eisen(III)oxid (Fe203), Hafni umnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Rig,Oi i), Samariumoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb203), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Silizi- ummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

13. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturen (4) des zweiten Bereichs (3) als diffraktive Strukturen, als Mikro spiegel oder als strahlenoptisch wirksame Facetten ausgebildet sind.

14. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Strukturen (4) eine Gruppe bilden, deren Ausrichtungen derart aufeinan der abgestimmt sind, dass sie in einem Beobachtungsraum einen Punkt (12) des Bild motivs abbilden, wobei sich das Bildmotiv aus der Summe aller von Gruppe dargestell ten Punkte (12) zusammensetzt und wobei durch Veränderung einer Einfallsrichtung des von der Lichtquelle erzeugten Lichtes und/oder bei Veränderung des Beobachtungs winkels eine Bewegung des Punktes (12) in dem Beobachtungsraum erzeugt ist.

15. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 6 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturen (4) in die Trägerschicht (11) mittels einer Abformvorrichtung, ins besondere durch ein Prägeverfahren, eingebracht sind.

16. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 6 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturen (4) in einer auf die Trägerschicht (11) direkt oder unter Anordnung weiterer Zwischenschichtung aufgebrachten Schicht (13), insbesondere eine Prägelack schicht, ausgeformt sind, insbesondere mittels eines Abformelements eingeprägt sind.

17. Sicherheitselement (1) nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht (13) mit den darin ausgeformten Strukturen (4) eine Schichtdicke zwischen 0,5 - 300 pm, insbesondere zwischen 0,8 - 50 pm, bevorzugt zwischen 1 - 10 pm aufweist.

18. Sicherheitselement (1) nach einem der Ansprüche 7 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass es an einer den Strukturen (4) abgewandten Seite der Trägerschicht (11) zumindest eine reflektierende Schicht aufweist und/oder zwischen der Trägerschicht und den Strukturen (4) eine reflektierende Schicht (14) angeordnet ist und/oder die Strukturen (4) mit zumindest einer reflektierenden Schicht (14a) beschichtet sind, wobei die zumin dest eine reflektierende Schicht bevorzugt ein metallisches Material, insbesondere aus gewählt aus der Gruppe Silber, Kupfer, Aluminium, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Mate rialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen, oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (T1O2), Koh lenstoff (C), Indiumoxid (ImOi), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (TaiOs), Ce roxid (Ce02), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (EU2O3), Eisenoxide wie zum Bei spiel Eisen(II,III)oxid (FesOO und Eisen(III)oxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafni- umcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2Ü3), Praseodymoxid (Rig,Oi i ), Samariumoxid (Sr Os), Antimontri- oxid (Sb20 ), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (S13N4), Siliziummonoxid (SiO), Se- lentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

19. Sicherheitselement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn zeichnet, dass das Sicherheitselement (1) mit maschinenlesbaren Merkmalen, ausgestat- tet ist, wobei es sich bei den maschinenlesbaren Merkmalen insbesondere um Magnet codierungen, elektrisch leitfähige Schichten, elektromagnetische Wellen absorbierende und/oder reemittierende Stoffe handelt.

20. Sicherheitselement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn zeichnet, dass das Sicherheitselement (1) zusätzliche Schichten aufweist, welche zusätz lichen Schichten insbesondere Schutzlacke, Heißsiegellacke, Kleber, Primer und/oder Folien umfassen

Description:
Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement für Wertpapiere oder Sicherheitspapiere, wobei das Sicherheitselement zumindest einen ersten farbkippenden Bereich aufweist.

Sicherheitselemente der eingangsgenannten Art werden üblicherweise verwendet um die Fäl schungssicherheit von Wertpapieren oder Sicherheitspapieren, wie Banknoten, Ausweise, Kreditkarten, Bankomatkarten, Tickets etc. zu erhöhen.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Sicherheitselement mit erhöhter Fälschungssi cherheit zu schaffen.

Diese Aufgabe wird durch ein Sicherheitselement der eingangs genannten Art erfindungsge mäß dadurch gelöst, dass das Sicherheitselement zusätzlich zumindest einen zweiten, von dem ersten Bereich verschiedenen Bereich mit Strukturen aufweist, die ein Bildmotiv in un terschiedliche Raumbereiche reflektieren, so dass für den Betrachter bei entsprechender Be wegung einer Lichtquelle und/oder bei Veränderung eines Beobachtungswinkels ein Bewe gungsbild entsteht, wobei bei Bewegung der Lichtquelle und/oder Veränderung des Beobach tungswinkels gleichzeitig eine Bewegung des Bildmotivs und ein Farbkippeffekt entsteht.

Durch die erfindungsgemäße Lösung wird durch Verbindung des Bewegungsbildes mit einem Farbkippeffekt die Fälschungssicherheit wesentlich erhöht. So ermöglicht die Erfindung bei spielsweise, dass bei bestimmten Arten von Lichtquellen beide Effekte gleichzeitig mit dem unbewaffneten Auge wahrgenommen werden kann. So können beispielsweise bei Verwen dung von Punktlichtquellen sowohl der Farbkippeffekt als auch das Bewegungsbild deutlich wahrgenommen werden.

Gemäß einer vorteilhaften Variante kann der zumindest eine erste farbkippende Bereich eine Schicht mit farbkippenden Pigmenten, insbesondere Interferenzpigmente, Pigmente mit einem farbkippenden Dünnschichtaufbau oder Flüssigkristallpigmente, oder einen farbkippenden Dünnschichtaufbau aufweisen. Darüber hinaus kann der zumindest eine erste farbkippende Bereich zumindest eine Flüssig kristallschicht, insbesondere zumindest eine cholesterische Flüssigkristallschicht aufweisen.

Bevorzugt befindet sich auf der der Sichtseite abgewandten Seite der ersten farbkippenden Schicht des ersten Bereichs eine den Farbkippeffekt verstärkende Schicht, insbesondere eine Schicht aus dunkler Farbe und/oder eine Schicht aus Metalloxiden wie beispielsweise unters töchiometrisches Aluminiumoxid. So kann die den Farbkippeffekt verstärkende Schicht bei spielsweise auf der Flüssigkristallschicht oder der Schicht aus farbkippenden Pigmenten auf gebracht sein, sodass die Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder die Flüssigkristallschicht zwischen der den Farbkippeffekt verstärkenden Schicht und der Trägerschicht angeordnet ist. Die den Farbkippeffekt verstärkende Schicht kann aber auch zwischen der Trägerschicht und der Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder der zumindest einen Flüssigkristallschicht an geordnet sein. Zudem ist es auch möglich, dass die Trägerschicht zwischen der den Farbkip peffekt verstärkenden Schicht und der Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder der Flüssig kristallschicht und angeordnet ist.

An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, dass zwischen der zumindest einen den Farbkippef fekt verstärkenden Schicht und der Trägerschicht und/oder der zumindest einen Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder der zumindest einen Flüssigkristallschicht je eine oder meh rere Zwischenschichten angeordnet sein können. Weiters sei darauf hingewiesen, dass der Be griff Schicht in diesem Dokument so zu verstehen ist, dass eine Schicht auch aus mehreren Teilschichten aufgebaut sein kann.

Bei einer Weiterbildung der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass der farbkippende Dünn schichtaufbau oder die farbkippenden Pigmente mit einem farbkippenden Dünnfilmaufbau zu mindest eine Absorberschicht und zumindest eine Distanzschicht aus einem dielektrischen Material aufweist. Zusätzlich kann der Dünnschichtaufbau zumindest eine Reflexionsschicht aufweisen, wobei die Distanzschicht zwischen Reflexionsschicht und Absorber Schicht ange ordnet ist.

Besonders bevorzugt ist, dass das Sicherheitselement eine Trägerschicht aus Kunststoff, ins besondere aus einem lichtdurchlässigen und/oder thermoplastischen Kunststoff, aufweist, wo bei die Trägerschicht bevorzugt zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polypheny len sulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polyb- utylenterephthalat (PBT), Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen ( PTFE), Po- ly vinylfluorid ( PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF ) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexaflu- orpropylen-Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Ma terialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

Als besonders günstig hat sich herausgestellt, dass die Trägerschicht eine Dicke von 5 pm bis 1000 pm, besonders bevorzugt eine Dicke von 10 pm - 50 pm, aufweist.

Bei einer besonders bevorzugten Ausführungsform ist es vorgesehen, dass die zumindest eine Absorber Schicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

Gemäß einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist es vorgesehen, dass die zumindest eine Distanzschicht zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Material mit einem Bre chungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Alumini umoxid (A1203), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluo rid (A1F3), Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (Si02), Cerfluorid (CeF3), Natrium- Alumi nium- Fluoride (z.B. Na3AlF6 oder Na5A13F14), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumflu orid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organische Po lymere oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (Ti02), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In203), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantal- pentoxid (Ta205), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y203), Europiumoxid (Eu203), Eisen oxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe304) und Eisen(III)oxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Pr6011), Samariumoxid (Sm203), Anti- montrioxid (Sb203), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (W03), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.

Bevorzugt ist, dass die zumindest eine Reflexions Schicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Silber, Kupfer, Aluminium, Gold, Platin, Niob,

Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen die ser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder aus zumindest ein hochbre chendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (Ti02), Kohlen stoff (C), Indiumoxid (In203), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta205), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y203), Europiumoxid (Eu203), Eisenoxide wie zum Beispiel Ei- sen(II,III)oxid (Fe304) und Eisen(III)oxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd202), Praseodymoxid (Pr6011), Samariumoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb203), Sili ziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zin noxid (Sn02), Wolframtrioxid (W03), hochbrechende organische Monomere und/oder hoch brechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien herge stellt ist.

Bei einer günstigen Ausführungsform können die Strukturen des zweiten Bereichs als diffrak- tive Strukturen, als Mikrospiegel oder als strahlenoptisch wirksame Facetten ausgebildet sein.

Weiters können mehrere Strukturen eine Gruppe bilden, deren Ausrichtungen derart aufeinan der abgestimmt sind, dass sie in einem Beobachtungsraum einen Punkt des Bildmotivs abbil den, wobei sich das Bildmotiv aus der Summe aller von Gruppe dargestellten Punkte zusam mensetzt und wobei durch Veränderung einer Einfallsrichtung des von der Lichtquelle er zeugten Lichtes und/oder bei Veränderung des Beobachtungswinkels eine Bewegung des Punktes in dem Beobachtungsraum erzeugt ist. Besonders bevorzugt sind die Strukturen in die Trägerschicht mittels einer Abformvorrich tung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, eingebracht.

Weiters hat es sich als vorteilhaft erwiesen, dass die Strukturen in einer auf die Trägerschicht direkt oder unter Anordnung weiterer Zwischenschichtung aufgebrachten Schicht, insbeson dere eine Prägelackschicht, ausgeformt sind, insbesondere mittels eines Abformelements ein geprägt sind.

Bevorzugt weist die Schicht mit den darin ausgeformten Strukturen eine Schichtdicke zwi schen 0,5 - 300 pm, insbesondere zwischen 0,8 - 50 pm, bevorzugt zwischen 1 - 10 pm auf.

Bei einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen Sicherheitselements ist es vorge sehen, dass es an einer den Strukturen abgewandten Seite der Trägerschicht zumindest eine reflektierende Schicht aufweist und/oder zwischen der Trägerschicht und den Strukturen eine reflektierende Schicht angeordnet ist und/oder die Strukturen mit zumindest einer reflektie renden Schicht beschichtet sind, wobei die zumindest eine reflektierende Schicht bevorzugt ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe, Silber, Kupfer, Alumi nium Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palla dium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen, oder zu mindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (Ti02), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In203), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta205), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y203), Europiumoxid (Eu203), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe304) und Eisen(III)oxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Pr6011), Samariumoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb203), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (W03), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser Ma terialien hergestellt ist.

Weiters kann das Sicherheitselement mit maschinenlesbaren Merkmalen, ausgestattet sein, wobei es sich bei den maschinenlesbaren Merkmalen insbesondere um Magnetcodierungen, elektrisch leitfähige Schichten, elektromagnetische Wellen absorbierende und/oder reemittie- rende Stoffe handelt.

Darüber hinaus kann das Sicherheitselement zusätzliche Schichten aufweisen, welche zusätz lichen Schichten insbesondere Schutzlacke, Heißsiegellacke, Kleber, Primer und/oder Folien umfassen

Zum besseren Verständnis der Erfindung wird diese anhand der nachfolgenden Figuren näher erläutert.

Es zeigen jeweils in stark vereinfachter, schematischer Darstellung:

Fig. 1 ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement;

Fig. 2 einen Schnitt durch eine erste Ausführungsform eines Sicherheitselements;

Fig. 3 einen Schnitt durch eine zweite Ausführungsform eines Sicherheitselements.

Einführend sei festgehalten, dass in den unterschiedlich beschriebenen Ausführungsformen gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen versehen wer den, wobei die in der gesamten Beschreibung enthaltenen Offenbarungen sinngemäß auf glei che Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen übertragen wer den können. Auch sind die in der Beschreibung gewählten Lageangaben, wie z.B. oben, un ten, seitlich usw. auf die unmittelbar beschriebene sowie dargestellte Figur bezogen und sind diese Lageangaben bei einer Lageänderung sinngemäß auf die neue Lage zu übertragen.

Die Figuren sind übergreifend beschrieben.

Gemäß Fig. 1 weist ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement 1 für Wertpapiere oder Sicher heitspapiere, einen oder mehrere erste farbkippende Bereich 2 auf. Zusätzlich weist das Si cherheitselement einen oder mehrere zweite, von dem ersten Bereich 2 verschiedene Bereiche 3 mit Strukturen auf, die ein Bildmotiv 4a in unterschiedliche Raumbereiche reflektieren, so dass für den Betrachter bei entsprechender Bewegung einer Fichtquelle und/oder bei Verän derung eines Beobachtungswinkels ein Bewegungsbild entsteht.

In der Fig. 2 sind die Strukturen mit dem Bezugszeichen 4 und die Fichtquelle mit dem Be zugszeichen 5 versehen. Bei Bewegung der Fichtquelle 5 und/oder Veränderung des Be obachtungswinkels entsteht gleichzeitig eine Bewegung des Bildmotivs und ein Farbkippef fekt.

Abhängig von der Beleuchtung können beide Effekte gleichzeitig oder nur einer der beiden Effekte wahrgenommen werden. Es hat sich herausgestellt, dass beispielsweise bei Verwen dung von Punktlichtquellen sowohl der Farbkippeffekt als auch das Bewegungsbild deutlich wahrgenommen werden, während hingegen bei diffuser Beleuchtung das Bewegungsbild nicht oder deutlich schwächer wahrgenommen werden kann.

Wie aus den Fig. 2 und 3 erkennbar ist, kann der farbkippende Bereich 2 eine farbkippende Schicht 6, beispielsweise mit farbkippenden Pigmenten, einer farbkippenden Flüssigkristall schicht oder einem farbkippenden Dünnschichtaufbau 7, aufweisen. Der zuvor beschriebene und vom ersten Bereich 2 verschiedene Bereich 3 weist die Strukturen 4 auf. Die beiden Be reiche 2 und 3 sind bei den beiden Ausführungsbeispielen benachbart nebeneinanderliegend dargestellt.

Der farbkippende Dünnschichtaufbau 7 kann eine Absorberschicht 8 und eine Distanzschicht 9 aus einem dielektrischen Material aufweisen. Zusätzlich kann der Dünnschichtaufbau 7 eine Reflexions Schicht 10 aufweisen. Wie in Fig. 2 und 3 dargestellt, ist die Distanzschicht 9 zwi schen Reflexions Schicht 10 und Absorberschicht 8 angeordnet. Wenn beispielsweise ein Fack mit farbkippenden Pigmenten verwendet wird, um die Schicht 6 zu realisieren, können diese jeweils einen Dünnschichtaufbau 7, wie soeben beschrieben aufweisen. Die Absorberschicht 8 kann ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Nickel, Titan, Va nadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Fegierungen dieser Materialien umfassen oder aus mindestens einem dieser Materialien hergestellt sein. Weiters kann die eine Distanzschicht 9 beispielsweise mindestens ein niederbrechendes die lektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausge wählt aus der Gruppe Aluminiumoxid (A1203), Metallfluoride, beispielsweise Magnesium fluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (A1F3), Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (Si02), Cer fluorid (CeF3), Natrium- Aluminium-Fluoride (z.B. Na3AlF6 oder Na5A13F14), Neodymfluo rid (NdF3), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calcium fluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder nie derbrechende organische Polymere oder mindestens ein hochbrechendes dielektrisches Mate rial mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (Ti02), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In203), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta205), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y203), Europiumoxid (Eu203), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe304) und Ei- sen(III)oxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Pr6011), Samariumoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb203), Siliziumcarbid (SiC), Silizium nitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtri- oxid (W03), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Poly mere umfassen oder aus mindestens einem dieser Materialien hergestellt sein.

Zudem kann die Reflexionsschicht 10 mindestens ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Silber, Kupfer, Aluminium, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Ni ckel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder aus zumindest einem hochbrechenden die lektrischen Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (Ti02), Kohlenstoff (C), Indi umoxid (In203), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta205), Ceroxid (Ce02), Yttri umoxid (Y203), Europiumoxid (Eu203), Eisenoxide wie zum Beispiel Eisen(II,III)oxid (Fe304) und Eisen(III)oxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafni umoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Pra seodymoxid (Pr6011), Samariumoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb203), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (Sn02), Wolframtrioxid (W03), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbre chende organische Polymere umfassen oder aus mindestens einem dieser Materialien herge stellt sein.

Anstelle des Dünnschichtelements 7 können auch farbkippende Pigmente zum Einsatz kom men. Die farbkippenden Pigmente können beispielsweise einen Dünnschichtaufbau aufwei sen, der insbesondere beidseitig von einem Reflektor symmetrisch aufgebaut sein kann, also eine Schichtfolge Absorber/Distanzschicht/Reflektor/Distanzschicht/ Absorber aufweisen kann. Derartige Pigmente benötigen nicht unbedingt eine den Farbkippeffekt verstärkende Schicht. Die farbkippenden Pigmente können aber auch durch einfachere Interferenzpigmente gebildet sein, z. B. Silica Flakes oder Glimmer, welche eine den Farbkippeffekt verstärkende Schicht , insbesondere eine Schicht aus dunkler Farbe und/oder eine Schicht aus Metalloxiden wie beispielsweise unterstöchiometrisches Aluminiumoxid , benötigen können. Weiters kön nen die farbkippenden Pigmente als FC-Pigmente (Flüssigkristall-Pigmente) realisiert sein.

Weiters kann der farbkippende Bereich 2 eine oder mehrere Flüssigkristallschichten, insbe sondere eine oder mehrere cholesterische Flüssigkristallschichten aufweisen.

Bevorzugt befindet sich auf der, der Sichtseite abgewandten Seite der farbkippenden Schicht des ersten Bereichs eine den Farbkippeffekt verstärkenden Schicht, insbesondere eine Schicht aus dunkler Farbe und/oder eine Schicht aus Metalloxiden wie beispielsweise unterstöchio metrisches Aluminiumoxid.

So kann die den Farbkippeffekt verstärkende Schicht beispielsweise auf der Flüssigkristall schicht oder der Schicht aus farbkippenden Pigmenten aufgebracht sein, sodass die Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder die Flüssigkristallschicht zwischen der den Farbkippeffekt verstärkenden Schicht und der Trägerschicht angeordnet ist. Die den Farbkippeffekt verstär kende Schicht kann aber auch zwischen der Trägerschicht und der Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder der zumindest einen Flüssigkristallschicht angeordnet sein. Zudem ist es auch möglich, dass die Trägerschicht zwischen der den Farbkippeffekt verstärkenden Schicht und der Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder der Flüssigkristallschicht und angeordnet ist. Zwischen der den Farbkippeffekt verstärkenden Schicht und der Trägerschicht und/oder der Schicht aus farbkippenden Pigmenten oder der Flüssigkristallschicht können auch je eine oder mehrere Zwischenschichten angeordnet sein.

Darüber hinaus kann das Sicherheitselement 1 gemäß Fig. 2 und 3 eine Trägerschicht 11 aus Kunststoff, insbesondere aus einem lichtdurchlässigen und/oder thermoplastischen Kunst stoff, aufweisen. Die Trägerschicht 11 umfasst bevorzugt mindestens eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (PI), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysul- fon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Poly mere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT), Polyethylenterephthalat (PET), Poly amid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Ac- rylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Po lytetrafluorethylen ( PTFE), Polyvinylfluorid ( PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF ) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Flu orterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien oder ist aus mindest einem dieser Materialien her gestellt.

Bevorzugt weist die Trägerschicht 11 eine Dicke von 5 pm bis 1000 pm, besonders bevorzugt eine Dicke von 10 pm - 50 pm, auf. Die Strukturen 4 können in an sich bekannter Weise als diffraktive Strukturen, als Mikrospiegel oder als strahlenoptisch wirksame Facetten ausgebil det sein. Die Ausbildung der Strukturen 4 als diffraktive Strukturen ist beispielsweise aus der EP2782765B1 und der EP2885135B1 sowie der WO2015107347A1 bekannt geworden. Wäh rend eine Ausgestaltung der Strukturen 4 als Mikrospiegel beispielsweise aus der US10189294A1 sowie der EP3362827A1 dem Fachmann geläufig ist. Eine facettenartige Ausformung der Strukturen 4 geht beispielsweise aus der EP2632739A1 hervor. Da die Aus bildung der Strukturen 4 zur Erzeugung von Bewegungsbildern dem Fachmann geläufig ist, soll an dieser Stelle, um unnötige Weitläufigkeiten zu vermeiden, nicht näher darauf einge gangen werden. Mehrere Strukturen 4 können eine Gruppe bilden, deren Ausrichtungen derart aufeinander ab gestimmt sind, dass sie in einem Beobachtungsraum einen Punkt 12 des Bildmotivs 4a abbil den. Das Bildmotiv 4a setzt sich aus der Summe aller von Gruppe dargestellten Punkte 12 zu sammen. Durch Veränderung einer Einfallsrichtung des von der Lichtquelle 5 erzeugten Lich tes oder bei Veränderung des Beobachtungswinkels ist eine Bewegung des Punktes 12 in dem Beobachtungsraum erzeugt bzw. wird eine solche Bewegung des Bildmotivs 4a wahrgenom men. So wandert bei Bewegung der Lichtquelle 5 oder bei Veränderung des Beobachtungs winkels das Bildmotiv 4a, hier in Lorm eines Kreises, in Lig. 1 aus der mit I bezeichneten Po sition an die mit II bezeichnete Stelle und umgekehrt.

Die Strukturen 4 können in einer auf die Trägerschicht 11 aufgebrachten Schicht 13, insbe sondere eine Prägelackschicht, ausgeformt sein. Bevorzugt sind sie mittels eines Abformele ments eingeprägt. Bevorzugt weist die Schicht 13 mit den darin ausgeformten Strukturen 4 eine Schichtdicke zwischen 0,5 - 300 pm, insbesondere zwischen 0,8 - 50 pm, bevorzugt zwischen 1 - 10 pm auf.

Zur Herstellung des erfindungsgemäßen Sicherheitselements 1 kann die Trägerschicht 11 ganz oder teilweise mit der Schicht 10 und der Schicht 14 beschichtet werden. Hierauf kann der daraus resultierende Schichtverbund ganz oder teilweise mit dem Schicht 13 versehen und die Strukturen 4 in diese, beispielsweise durch Prägung eingebracht werden. Hierauf können zur Erzeugung des farbkippenden Bereichs die einzelnen Schichten des Dünnschichtelements 7 aufgebracht werden. Hierbei ist es möglich das Dünnschichtelement 7 oder die farbkippende Schicht nur in Bereichen des farbkippenden Bereichs 2 aufzubringen oder aber auch im Be reich der Strukturen 4 die einzelnen Schichten des Dünnschichtelements 7 bzw. der farbkip penden Schicht aufzubringen und beispielsweise unter Verwendung von Waschfarbe in an sich bekannter Weise zu entfernen. Es versteht sich von selbst, dass die soeben beschriebenen Ausführungsformen nur beispielhaft zu verstehen sind und dem Lachmann grundsätzlich viele Methoden bekannt sind, um einen Aufbau, wie er dem erfindungsgemäßen Sicherheitselement 1 entspricht zu realisieren.

Zwischen der Schicht 13 und der Trägerschicht 11 können noch weitere Schichte angeordnet sein, beispielsweise eine Haftvermittlerschicht oder auch eine reflektierende Schicht 14. An der reflektierenden Schicht 14 können durch die Strukturen 4 durchtretende Lichtstrahlen re flektiert werden, um den Punkt 12 in den Beobachtungsraum abzubilden. Die hier dargestellte Ausführungsform ist besonders für diffraktive Strukturen von Vorteil. Wie aus Fig. 2 erkenn bar ist kann die reflektierende Schicht 14 eine Schicht mit der Reflexions Schicht 10 des Dünn- schichtaufbaus 7 bilden und auch aus denselben Materialien wie diese hergestellt sein. An dieser Stelle sei darauf hingewiesen, dass eine reflektierende Schicht 14a auch auf den Struk turen 4 angeordnet sein kann, sodass die Strukturen 4 zwischen der reflektierenden Schicht 14a und der Trägerschicht 11 zu liegen kommen. Die reflektierende Schicht 14a folgt in die sem Fall, wenn sie auf den Strukturen 4 angeordnet ist, der Form der Strukturen. Hierbei kön nen die Strukturen 4 partiell oder vollständig mit der reflektierenden Schicht 14a beschichtet sein. Die Schicht 14a kann anstelle der Schicht 14 oder zusätzlich zu dieser vorgesehen sein.

Alternativ zur Verwendung einer eigenen Schicht 13, in welcher die Strukturen 4 ausgebildet sind, können die Strukturen 4 auch direkt in die Trägerschicht 11 mittels einer Abformvor richtung, insbesondere durch ein Prägeverfahren, eingebracht sein, wie die in Fig. 3 darge stellt ist. In diesem Fall kann die reflektierende Schicht 14 an einer den Strukturen 4 abge wandten Seite der Trägerschicht aufgebracht sein und/oder die Strukturen 4 mit der Schicht 14a vollflächig oder partiell beschichtet sein.

Auch im Falle der Ausbildung der Strukturen 4 als Mikrospiegel oder Facetten kann reflek tierende Schicht 14a, auf den Strukturen 4 angeordnet bzw. können die Strukturen 4 zumin dest teilweise mit der Schicht 14a beschichtet sein.

Die reflektierende Schicht 14 und die Schicht 14a umfassen bevorzugt ein metallisches Mate rial, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Silber, Kupfer, Aluminium, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen die ser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen, oder zumindest ein hochbrechen des dielektrisches Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere aus gewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (Ti02), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In203), Indium-Zinn- Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta205), Ceroxid (Ce02), Yttriumoxid (Y203), Europiumoxid (Eu203), Eisenoxide wie zum Beispiel Ei- sen(II,III)oxid (Fe304) und Eisen(III)oxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (Hf02), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (Pr6011), Samariumoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb203), Sili- ziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3N4), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zin noxid (Sn02), Wolframtrioxid (W03), hochbrechende organische Monomere und/oder hoch brechende organische Polymere oder ist aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt.

Abschließend sei auch daraufhingewiesen, dass die in Fig. 3 dargestellte Ausführungsform auch dahingehend abgeändert werden könnte, dass die Trägerschicht 11 als Distanzschicht 8 und die Reflexions Schicht 14 als Reflexionsschicht 10 fungieren könnte, sodass in dem farb- kippenden Bereich 2 nur die Schichten 14, 11 und 9 vorhanden sind.

Sämtliche Angaben zu Wertebereichen in gegenständlicher Beschreibung sind so zu verste hen, dass diese beliebige und alle Teilbereiche daraus mitumfassen, z.B. ist die Angabe 1 bis 10 so zu verstehen, dass sämtliche Teilbereiche, ausgehend von der unteren Grenze 1 und der oberen Grenze 10 mit umfasst sind, d.h. sämtliche Teilbereiche beginnen mit einer unteren Grenze von 1 oder größer und enden bei einer oberen Grenze von 10 oder weniger, z.B. 1 bis 1,7, oder 3,2 bis 8,1, oder 5,5 bis 10.

Der Ordnung halber sei abschließend daraufhingewiesen, dass zum besseren Verständnis des Aufbaus Elemente teilweise unmaßstäblich und/oder vergrößert und/oder verkleinert darge stellt wurden.

Bezugszeichenaufstellung

Sicherheitselement

Bereich

Bereich

Strukturen a Bildmotiv

Lichtquelle

Schicht

Dünnschichtaufbau

Absorberschicht

Distanzschicht 0 Reflexionsschicht 1 Trägerschicht 2 Punkt 3 Schicht 4 Schicht 4a Schicht