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Title:
凹凸構造を有する基板の製造方法及びそれを用いた有機ＥＬ素子の製造方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JPWO2012133414
Kind Code:
A1
Abstract:
光を散乱するための不規則な凹凸表面を有する基板を製造する方法は、不規則な凹凸表面を有する基板１００を作製することと、作製した基板の凹凸表面１００ａに法線方向に対して傾斜した方向から検査光１２２ａを照射し、検査光の凹凸表面からの戻り光を凹凸表面の法線方向に設置した受光素子１２４により検出することと、受光した光強度に基づいて前記凹凸表面の輝度ムラを処理装置１２６で判定することを含む。不規則な凹凸表面を有する回折格子基板を有する有機ＥＬ素子を高いスループットで生産する。

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Inventors:
Yusuke Sato
Ryo Nishimura
Application Number:
JP2013507617A
Publication Date:
July 28, 2014
Filing Date:
March 27, 2012
Export Citation:
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Assignee:
jx Nikko Nisseki Energy Co., Ltd.
International Classes:
H05B33/10; G02B5/18; H01L51/50; H05B33/02
Domestic Patent References:
JP2006030621A2006-02-02
JP2008286920A2008-11-27
JP2004342522A2004-12-02
JP2000321406A2000-11-24
JPH10241856A1998-09-11
Foreign References:
WO2011007878A12011-01-20
Attorney, Agent or Firm:
Kijuro Kawakita



 
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