Title:
マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2015515140
Kind Code:
A
Abstract:
本発明は、互いに対して０??１０?の角度又は９０??１０?の角度で配置された第１の反射面（１１０、２１０、．．．）と第２の反射面（１２０、２２０、．．．）とを有する少なくとも１つの偏光影響装置（１００、２００、．．．）を含む特にＥＵＶ内の作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系に関し、光学系の作動中に第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する光は、第１の反射面と４５??５?の角度を形成し、偏光影響装置（１００、２００、．．．）は、光学系の作動中に第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する光の光伝播方向と平行に延びる回転軸（Ａ）の周りに回転可能である。【選択図】図１
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Inventors:
Zenger Ingo
Schlezener Frank
Schlezener Frank
Application Number:
JP2015506163A
Publication Date:
May 21, 2015
Filing Date:
March 26, 2013
Export Citation:
Assignee:
Carl Zeiss SGM Gaehha
International Classes:
H01L21/027; G02B17/00; G02B19/00; G03F7/20
Domestic Patent References:
| JP2003133212A | 2003-05-09 | |||
| JP2008538452A | 2008-10-23 | |||
| JP2000098231A | 2000-04-07 | |||
| JP2005303084A | 2005-10-27 | |||
| JP2001203136A | 2001-07-27 | |||
| JPH04225357A | 1992-08-14 |
Foreign References:
| US20080192225A1 | 2008-08-14 | |||
| US20030081210A1 | 2003-05-01 | |||
| WO2006082738A1 | 2006-08-10 | |||
| US20070132977A1 | 2007-06-14 | |||
| EP0486316A2 | 1992-05-20 | |||
| US6137618A | 2000-10-24 |
Attorney, Agent or Firm:
Koichi Tsujii
Sadao Kumakura
Fumiaki Otsuka
Takaki Nishijima
Hiroyuki Suda
Hiroshi Uesugi
Naoki Kondo
Sadao Kumakura
Fumiaki Otsuka
Takaki Nishijima
Hiroyuki Suda
Hiroshi Uesugi
Naoki Kondo