酸化物材料、酸化物薄膜の製造方法及び該材料を用いた素子

Title:

酸化物材料、酸化物薄膜の製造方法及び該材料を用いた素子

Document Type and Number:

Japanese Patent JPWO2002032809

Kind Code:

A1

Abstract:

ペロブスカイト又は層状ペロブスカイト構造酸化物に、Ｓｉ、Ｇｅ及びＳｎからなる群から選択される１種以上のＩＶ族元素を含有する触媒物質が固溶してなる酸化物材料。ペロブスカイト又は層状ペロブスカイト構造酸化物材料を低温で結晶化することが可能となり、これら酸化物材料の特性を維持または改善することができる。

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Inventors:

木島健
石原宏

Application Number:

JP2002536000A

Publication Date:

September 30, 2004

Filing Date:

September 03, 2001

Export Citation:

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Assignee:

シャープ株式会社
国立大学法人東京工業大学

International Classes:

C01B13/32; C01B13/14; C01B33/00; C01B33/20; C01G23/00; C01G25/00; C01G29/00; C01G35/00; H01L21/316; H01L27/105; H01L21/314

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