Title:
液体分配及びカバレージ制御のためのシステム及び方法
Document Type and Number:
Japanese Patent JP2023524487
Kind Code:
A
Abstract:
基板上に液体をコーティングすることを監視するために光を用いることができる。光を基板上のスポットに向けることにより、液体がそのスポットを通過するとき、一部の光は反射されるが、一部の光は散乱される。この挙動を監視することにより、基板が液体で良好にコーティングされたかどうか、並びに欠陥の識別を示すことができる。更に、プロセス調整を実施するためにコーティング時間を監視することができる。
Inventors:
Vukovic, Mirko
Fulford, Daniel
Devilliers, Anton
Fulford, Daniel
Devilliers, Anton
Application Number:
JP2022566324A
Publication Date:
June 12, 2023
Filing Date:
March 26, 2021
Export Citation:
Assignee:
東京エレクトロン株式会社
International Classes:
H01L21/027; B05C11/00; B05C11/08; B05C11/10; B05D1/40; B05D3/00; B05D3/06
Attorney, Agent or Firm:
Tadashige Ito
Tadahiko Ito
Tadahiko Ito
Previous Patent: メモリデバイス内の記憶のためのデータ平衡化
Next Patent: Combining Contact Fingers for Crack Prevention in Thin Substrate Handling
Next Patent: Combining Contact Fingers for Crack Prevention in Thin Substrate Handling