以下、本発明の実施形態について図面を� ��照しながら説明する。

 図1には、本実施形態に係る加熱調理装置 の概略構成図が示されている。この図におい て、前記加熱調理装置10は、加熱調理される� ��材Fが収容される調理空間Sが設けられた調� �庫12と、調理庫12内に供給される蒸気を発生� ��せる蒸気発生手段としてのボイラ14と、ボ� �ラ14からの蒸気を調理庫12内に導く蒸気流路1 6と、ボイラ14から調理庫12への蒸気の導入を� ��御する制御手段17とを備えて構成されてい� �。

 前記調理庫12は、図1~図3に示されるよう� �、底側が開放する中空箱型の本体19と、この 本体19を下方から支持する脚体20と、本体19の 底側に配置されるとともに、加熱調理対象の 食材Sが設置される食材設置体22と、この食材 設置体22を昇降させる昇降手段23とを備えて� �る。

 前記本体19は、上端側に位置する頂壁25と 、頂壁25の左右両端側に連なる側壁26,26と、� �壁25及び側壁26の前後両端側に連なる前壁27� �び後壁28とからなり、底側が開放空間30とな� ��ている。

 前記食材設置体22は、食材Fが載る平面視� ��ぼ方形板状のテーブル33と、テーブル33の外 周に沿って固定された板状の端部材34と、端� ��材34の外周に沿って固定された板状の邪魔� �材36とにより構成されている。この邪魔部材 36は、端部材34におけるテーブル33と反対側の 面の上下複数箇所に固定されており、それぞ れ、水平方向に延びるように配置されている 。

 このように構成された食材設置体22は、� �降手段23の動作により、開放空間30を通じ、� ��体19の内部に位置する食材Fの加熱調理位置( 図1参照)と、本体19の下方となる外部に位置� �る食材Fの出し入れ位置(図2参照)との間で昇� ��するようになっている。また、食材設置体2 2は、開放空間30の平面サイズよりも小さい平 面サイズとなっており、図1の加熱調理位置� �あるときに、本体19の内外間で開放する開口 部38が本体19の底部側の内周に沿って形成さ� �るようになっている。従って、前記加熱調� �位置では、本体19の各壁25~28と食材設置体22� �の間に囲まれた空間が前記調理空間Sとなり� ��調理空間Sは、開口部38を通じて外部に開放� ��、開口部38により、調理空間Sへの外気導入� ��、調理空間S内の空気の排出が可能になる。 なお、本体19の内周部分と食材設置体22の外� �縁部分との間には、開口部38から調理空間S� �繋がる開放流路40が形成されることになり、 前記邪魔部材36は、開放流路40の途中に配置� �れ、当該開放流路40を完全に閉塞しないよう なサイズとなっている。

 前記昇降手段23は、図示省略したモータ� �シリンダ等のアクチュエータを使って食材� �置体22を上下動可能にする公知の装置が用い られており、当該装置構成は、本発明の要旨 ではないため、詳細な説明を省略する。なお 、昇降手段23として、アクチュエータを用い� ��電動タイプの他に、ハンドル、ベルト、歯� ��等の機構を使った手動タイプのものを採用� ��ることも可能である。

 前記ボイラ14は、公知の構造のものが用� �られ、飽和水蒸気を発生させるようになっ� �いる。なお、蒸気発生手段としては、飽和� �蒸気を発生させることができる限りにおい� �、ボイラ14以外の他の機器や装置に代替する ことも可能である。

 前記蒸気流路16は、図1に示されるように� ��本体19の内部における上下両側に配置され� �第1及び第2の蒸気導入管41,42と、ボイラ14と� �1及び第2の蒸気導入管41,42の間に接続された� ��1及び第2の管路44,45とを備えている。

 前記第1及び第2の蒸気導入管41,42は、それ ぞれ、本体19の内周に沿って延びる枠状に設� ��られており、ボイラ14からの飽和蒸気を本� �19の内部に噴出する第1及び第2の噴出口47,48� �一定間隔で形成されている。つまり、本体19 の上側に位置する第1の蒸気導入管41に形成さ れた第1の噴出口47は、調理空間Sの上方から� �接飽和蒸気を噴出するように設けられてお� �、本体19の下側に位置する第2の蒸気導入管42 に形成された第2の噴出口48は、図4に示され� �ように、邪魔部材36に向かって開放流路40内� ��飽和蒸気を噴出するように設けられている� ��

 前記制御手段17は、図1に示されるように� ��本体19内に配置されて調理空間S内の温度及� ��湿度を検出する温湿度検出部としての温湿� ��センサ50と、第1及び第2の管路44,45の途中に� ��けられた第1及び第2の弁52,53と、温湿度セン サ50の検出値に基づいて第1及び第2の弁52,53の 動作制御を行う制御機器55とを備えて構成さ� ��ている。ここで、第1及び第2の弁52,53と制御 機器55は、温湿度センサ50で検出された温度� �び湿度に応じて、第1及び第2の噴出口47,48か� ��の飽和蒸気の噴出流量を調整する流量調整� ��として機能する。

 前記制御機器55は、ソフトウェア及び/又� ��ハードウェアによって構成され、プロセッ� ��等、複数のプログラムモジュール及び/又は 処理回路より成り立っている。この制御機器 55では、調理空間S内の温度を20℃以上100℃未� ��の予め設定された温度(以下、「設定温度」 と称する。)に維持しながら、調理空間S内を� ��和湿り空気で満たされた状態を維持するよ� ��に、第1及び第2の弁52,53を適宜切り換え、第 1及び第2の噴出口47,48からの飽和蒸気の噴出� �量を調整する。

 次に、前記加熱調理装置10の作用につい� �説明する。

 先ず、テーブル33を図2の食材Fの出し入れ 位置まで下降した状態とし、加熱調理する食 材Fをテーブル33の上に載せる。そして、昇降 手段23を動作させると、テーブル33が上昇し� �本体19内に入り込み、図1の食材Fの加熱調理� ��置に達したところで上昇を停止させる。こ� ��状態では、図1及び図3に示されるように、� �体19の底側部分のうち、テーブル33を含む食� ��設置体22の周囲に、外側に開放する開口部38 が形成されることになる。従って、後述する ように、食材Fを加熱調理している最中も、� �体19内の調理空間Sと外部との間で開口部38を 介した通気が可能になる。

 以上のように食材Fのセットを終了した後 、加熱調理中の調理空間内の温度が20℃以上1 00℃未満となる温度設定を行い、図示しない� ��イッチを投入すると、ボイラ14からの飽和� �気が第1及び第2の管路44,45を通って、第1及び 第2の蒸気導入管41,42に導かれ、第1及び第2の� ��出口47,48から噴出されることになる。この� �き、上側に位置する第1の噴出口47からの飽� �蒸気は、調理空間Sに直接噴出されるが、下� ��に位置する第2の噴出口48からの飽和蒸気は� ��図4中二点鎖線で示されるように、開放流路 40内の邪魔部材36に向かって噴出され、邪魔� �材36に当たった上で、本体19の内周部分と邪� ��部材36との隙間Aから、調理空間Sに噴出され る。この過程で、開放流路40は、開口部38か� �外気が導入されることになり、第2の噴出口4 8から噴出された飽和蒸気は、開放流路40内で 冷却されて凝縮し、微小水滴を含んだ飽和湿 り空気として調理空間Sに供給される。この� �、第2の噴出口48から噴出された飽和蒸気は� �調理空間Sに直接噴出されずに、邪魔部材36� �当たって、低温雰囲気の開放流路40内である 程度の時間滞留する。このため、前述の凝縮 が効果的に行われることになり、しかも、飽 和湿り空気として穏やかに調理空間S内に供� �され、調理空間Sの雰囲気の均質化に寄与す� ��ことになる。このように調理空間Sに導かれ た飽和湿り空気は、第1の噴出口47から噴出さ れた飽和蒸気と適度に混合し、100℃未満の設 定温度の飽和湿り空気が調理空間S内に生成� �れることになる。この際、前記制御機器55で は、調理空間Sの湿度調整を行う湿度制御と� �調理空間Sの温度調整を行う温度制御とが行� ��れる。具体的に、前記湿度制御は、温湿度� ��ンサ50で検出された調理空間Sの相対湿度に� ��じ、第1の弁52を操作して第1の噴出口47から� ��飽和蒸気の噴出流量を調整することにより� ��調理空間S内の相対湿度を90%~100%の間の規定� ��に維持する。つまり、調理空間Sの飽和湿り 空気の微小水滴が過剰になった場合に、第1� �噴出口47から飽和蒸気を噴出させ、調理空間 S内の空気の湿り度合いを低下させて前記規� �値に維持する。一方、前記温度制御は、温� �度センサ50で検出された調理空間S内の温度� �応じ、第2の弁53を操作して第2の噴出口48か� �の飽和蒸気の噴出流量を調整することによ� �、調理空間Sを前記設定温度に維持する。つ� ��り、温湿度センサ50で検出された温度が前� �設定温度よりも上昇した場合には、第2の噴� ��口48からの飽和蒸気の噴出流量を減少させ� �逆に、温湿度センサ50で検出された温度が前 記設定温度よりも下降した場合には、第2の� �出口48からの飽和蒸気の噴出流量を増加させ るように機能する。なお、これら湿度制御と 温度制御は、相互に干渉しないように時間差 で行われる他、第2の噴出口48からの噴出流量 が、第1の噴出口47からの噴出流量よりも相対 的に多くなるように行われる。

 従って、このような実施形態によれば、� ��1の噴出口47よりも相対的に多い第2の噴出口 48から噴出される飽和蒸気は、邪魔部材36で� �れ方向を変えながら、飽和湿り空気として� �理空間Sに穏和に供給されるため、調理空間S の雰囲気が安定化し、比較的簡単な構成で、 20℃以上100℃未満の飽和湿り空気を調理空間S 内に生成できるという効果を得る。

 また、本発明者らが行った実験研究によ� ��ば、前記加熱調理装置10を使った加熱調理� �法、すなわち、20℃以上100℃未満の飽和湿り 空気中に食材Fを置いて加熱調理を行う加熱� �理方法は、食材Fのデンプン、繊維、タンパ� ��質の可食化が十分なされるとともに、他の� ��理方法に比べ、組織や細胞の損壊、栄養機� ��成分の分解損失を防ぐことができ、長期保� ��性が良好で、高栄養、高品質の食品を作り� ��せることが実証された。これを以下に詳述� ��る。

 (実施例1)
 本実施形態と同等の原理の加熱調理装置10� �使い、ほうれん草188グラムについて、可食� �に必要な時間と温度で加熱調理した後、冷� �保存し、調理から1日後、5日後、10日後の質� ��をそれぞれ測定し、調理前の質量(188グラム )に対する質量比(%)を求めた。

 (比較例1)
 実施例1と同量のほうれん草について、可食 化に必要な時間、茹でた後、実施例1と同様� �、調理から1日後、5日後、10日後の質量をそ� ��ぞれ測定し、調理前の質量に対する質量比( %)を求めた。

 (比較例2)
 実施例1と同量のほうれん草について、可食 化に必要な時間、蒸した後、実施例1と同様� �、調理から1日後、5日後、10日後の質量をそ� ��ぞれ測定し、調理前の質量に対する質量比( %)を求めた。

 以上の結果を次表に示す。
 

 以上の結果により、本実施形態の加熱調� ��装置10による加熱調理方法で加熱調理され� �実施例1における食材の質量変化の割合が、� ��の調理方法で加熱調理された比較例1、2に� �ける食材の質量変化の割合よりも少ないこ� �は明らかである。つまり、本発明の加熱調� �方法は、他の調理方法よりも、加熱調理に� �って、組織や細胞の損壊や水分及び栄養機� �成分の流出による質量変化が少なくなって� �り、このことから、食材の水分や栄養機能� �分の経時的な損失を抑制することができ、� �養素を損ねない高品質の食品を提供できる� �とが分かる。なお、人参や大根についても� �同様の実験を行ったところ同等の結果が得� �れた。

 つまり、本発明に係る加熱調理方法では� ��100℃未満で食材が加熱調理され、食材の表� ��が100℃以上の高温にさらされることがない� ��め、当該表面側の細胞、組織、栄養機能成� ��等を壊さずに、食材を調理することができ� ��。また、本発明では、飽和湿り空気を生成� ��る際に発生した凝縮熱が、飽和湿り空気中� ��微小水滴を介して食材に伝達されることで� ��食材が加熱調理される。このため、従来の� ��熱加熱による調理方法では、食材の内部を� ��食化するために、表面側をどうしても100℃� ��上の高温にしなければならなかったが、従� ��よりも効率的な熱伝達が可能になり、100℃� ��満の温度の飽和湿り空気でも、食材の内部� ��可食化させるのに十分となる。

 なお、前記加熱調理装置10において、第2� ��噴出口48は、前記実施形態の位置や態様に� �定されるものではなく、外気に触れ易いよ� �に開口部38の近傍で蒸気を噴出できる限り、 本体19の内外を問わず、種々の位置や態様と� ��ることができる。

 また、図5及び図6に示されるように、邪� �部材36がテーブル33と別体となるように、邪� ��部材36の配置態様を変更することもできる� �この変形例での邪魔部材36は、端部材34に取� ��付けられずに、当該端部材34に沿ってその� �方に配置された枠体からなる支持部材61に取 り付けられている。この支持部材61は、開口� ��38内に配置され、上下数カ所が固定部材62で 側壁26に固定されている。邪魔部材36は、支� �部材61から側壁26方向にほぼ水平に延びてお� ��、前記開放流路40を完全に閉塞しないよう� �なっている。なお、図5中実線で示されたテ� ��ブル33の位置、すなわち、食材Fの加熱調理� ��置では、端部材34と支持部材61との間には、 僅かな隙間63が形成され、端部材34と支持部� �61との干渉によってテーブル33の昇降が阻害� ��れないようになっている。隙間63の幅は、� �理空間S内の温度及び湿度の制御に支障をき� ��さないように最小限にされる。なお、テー� ��ル33の昇降を阻害しない限りにおいて、図� �しないシール材で隙間63をシールし、隙間63� ��通じた調理空間Sの空気の流れを阻止しても よい。

 この構成によれば、邪魔部材36は、側壁26 に固定されており、テーブル33と別体となっ� ��いるため、テーブル33の昇降に伴って移動� �ない。従って、図5中二点鎖線で示されるよ� ��に、テーブル33が食材Fの出し入れ位置にあ� ��ときに、テーブル33の近傍で邪魔部材36が表 出せず、当該表出による食材Fの不意な損傷� �邪魔部材36を含む装置の破損を防止すること ができ、食材Fの出し入れ時における操作上� �支障を低減できる。また、テーブル33の高さ 位置を調整可能とした場合、テーブル33の高� ��位置に拘らず、邪魔部材36と第2の噴出口48� �の相対位置関係を常に一定にすることがで� �、テーブル33が図5実線の位置よりも上下何� �かに多少移動しても、当該移動に関係なく� �2の噴出口48から飽和蒸気を同じ状態で開放� �路40に導くことができる。

 その他、前記邪魔部材36としては、第2の� ��出口48からの飽和蒸気を調理空間S内に直接� ��出させないように、当該飽和蒸気の流れ方� ��を変えることができる限りにおいて、前記� ��施形態と異なる形状及び配置とすることが� ��きる。又は、第2の噴出口48からの飽和蒸気� ��本体19の内壁に当てる等により、前述と同� �の作用効果が得られる場合には、邪魔部材36 を省略することもできる。

 また、図5及び図6に示されるように、加� �された不活性ガスを調理空間Sに導入可能な� ��活性ガス導入管64(不活性ガス導入部)を調理 空間Sの上側に配置することもできる。不活� �ガス導入管64は、図示しないガス供給装置か ら供給された窒素ガス、アルゴンガス等の不 活性ガスをガス噴出口66から調理空間Sに向か って噴出するようになっている。また、不活 性ガス導入管64は、調理空間Sの上側に配置さ れた第1の蒸気導入管41の近傍に配置され、第 1の蒸気導入管41との間を熱交換板67で仕切る� ��うになっている。熱交換板67は、第1の蒸気� ��入管41に接触若しくは近接するように頂壁25 に固定され、第1の蒸気導入管41で加熱される ようになっており、ガス噴出口66から噴出し� ��不活性ガスは、熱交換板67からの放熱によ� �、食材Fを加熱する温度まで加温される。こ� ��ように調理空間Sの上部から、加温された不 活性ガスが噴出されると、当該不活性ガスよ りも高比重となる酸素を含んだ低温の空気が 調理空間Sの下方の開口部38から排出され、調 理空間Sに不活性ガスが充満し、調理空間Sが� ��酸素状態となる。この低酸素状態で食材Fの 加熱調理を行うと、当該食材Fについて、化� �的酸化、酵素による着色、臭い物質の生成� �を抑制することができる。調理空間Sへの不� ��性ガスの導入は、食材Fの加熱調理前に行う ことはもとより、加熱調理中も一定量行うこ ともでき、この場合、加熱調理中における調 理空間Sの低酸素状態が維持可能になる。な� �、図示しない熱交換器等の他の熱交換手段� �採用し、食材Fの加熱温度まで不活性ガスを� ��温する構成としても良い。

 なお、図5及び図6の加熱調理装置10では、 図1等の前記実施形態に対し、邪魔部材36の配 置を変えた態様と、不活性ガス導入管64を新� ��した態様とが適用されているが、これら二� ��様を併存させる必然性はなく、何れか一方� ��態様を適用することもできる。

 その他、本発明における装置各部の構成� ��図示構成例に限定されるものではなく、実� ��的に同様の作用を奏する限りにおいて、種� ��の変更が可能である。