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Patent Searching and Data


Title:
IMAGING DEVICE, AND IMAGING ELEMENT
Document Type and Number:
WIPO Patent Application WO/2009/107705
Kind Code:
A1
Abstract:
Provided is a technique for an imaging element having a phase difference detecting function to perform a focus detection precisely even if an exit pupil position changes with respect to an imaging element. The imaging element disposed in an imaging device comprises an AF pixel pair (11g) for receiving the luminous flux of an object, which has passed through a pair of partial regions (Qc and Qd) having equivalent areas in an exit pupil at a position of a distance (Hm) from the imaging element. The AF pixel pair (11g) includes shading portions (131 and 132) having optically transparent portions individually for defining the paired partial regions (Qc and Qd). Moreover, the imaging element further comprises, in addition to the AF pixel pair (11g), another AF pixel pair, in which the arrangement of optically transparent regions in the shading portions (131 and 132) is made different so that the areas of the paired partial regions may be equivalent in the exit pupil at a position different from the distance (Hm) from the imaging element. Even if the exit pupil position is changed by a lens exchange or the like, therefore, the focal detection of the phase difference detecting system can be precisely performed by selecting the pixel pair matching the exit pupil position.

Inventors:
FUJII SHINICHI (JP)
KATSUDA YASUTOSHI (JP)
YAGYU GENTA (JP)
Application Number:
PCT/JP2009/053517
Publication Date:
September 03, 2009
Filing Date:
February 26, 2009
Export Citation:
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Assignee:
SONY CORP (JP)
FUJII SHINICHI (JP)
KATSUDA YASUTOSHI (JP)
YAGYU GENTA (JP)
International Classes:
G03B13/36; G02B7/34; H04N5/232; H04N5/335; H04N101/00
Foreign References:
JP2007189312A2007-07-26
JP2007279312A2007-10-25
JP2007155929A2007-06-21
JP2004191629A2004-07-08
Other References:
See also references of EP 2249192A4
Attorney, Agent or Firm:
IWASAKI, Sachikuni et al. (JP)
Yukikuni Iwasaki (JP)
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Claims:
 撮像装置であって、
 (a)撮影光学系と、
 (b)前記撮像光学系を通った被写体光束を受光する撮像素子と、を備えるとともに、
 前記撮像素子は、
 前記撮影光学系の射出瞳において互いに逆方向に偏った第1の部分領域および第2の部分領域を通過した被写体光束を受光する画素対の群、を有し、
 前記画素対は、前記射出瞳において前記第1の部分領域を規定する光透過部分が設けられた遮光部を有する第1画素と、前記射出瞳において前記第2の部分領域を規定する光透過部分が設けられた遮光部を有する第2画素とを備えて構成されるとともに、
 前記画素対の群は、前記遮光部における光透過部分の配置を異ならせた複数種類の画素対を有しており、前記複数種類の画素対それぞれでは、前記第1の部分領域と前記第2の部分領域との面積が同等となる射出瞳の前記撮像素子に対する位置が異なっていることを特徴とする撮像装置。
 請求項1に記載の撮像装置において、
 (c)前記撮像素子に対する射出瞳の位置に応じて前記複数種類の画素対から1種類の画素対を選択し、当該1種類の画素対で生成される画素信号に基づき位相差検出方式の焦点検出を行う手段、をさらに備えることを特徴とする撮像装置。
 撮影光学系を通った被写体光束を受光可能な撮像素子であって、
 前記撮影光学系の射出瞳において互いに逆方向に偏った第1の部分領域および第2の部分領域を通過した被写体光束を受光する画素対の群、を備え、
 前記画素対は、前記射出瞳において前記第1の部分領域を規定する光透過部分が設けられた遮光部を有する第1画素と、前記射出瞳において前記第2の部分領域を規定する光透過部分が設けられた遮光部を有する第2画素とを備えて構成されるとともに、
 前記画素対の群は、前記遮光部における光透過部分の配置を異ならせた複数種類の画素対を有しており、前記複数種類の画素対それぞれでは、前記第1の部分領域と前記第2の部分領域との面積が同等となる射出瞳の前記撮像素子に対する位置が異なっていることを特徴とする撮像素子。
Description:
撮像装置および撮像素子

 本発明は、撮影光学系を通った被写体光 を受光可能な撮像素子の技術に関する。

 レンズ交換式の一眼レフデジタルカメラ どの撮像装置においては、交換レンズ(撮影 光学系)の射出瞳における一対の部分領域(例 ば左側・右側の瞳部分)を通過した被写体光 束を受光して各画素信号を生成する一対の画 素(以下では「AF画素対」ともいう)を複数備 位相差検出方式の焦点検出が可能な撮像素 (以下では「位相差検出機能付き撮像素子」 もいう)の利用が提案されている。

 上記の位相差検出機能付き撮像素子にお ては、その中心から離れた位置のAF画素対 は撮影光学系の口径食により焦点検出に用 る被写体光束が制限される場合があり、そ ような場合にはAF画素対で生成される画素信 号にアンバランスが生じることとなる。この 問題に対しては、例えば特開2004-191629号公報 開示される技術のように、口径食によって 限された瞳の光軸に対するシフト量と瞳の との比に基づきAF画素対で生成される画素 号に対しての補正演算を行うことで、アン ランスの改善が図れるようになっている。

 しかしながら、上記特開2004-191629号公報 技術では、AF画素対で生成される画素信号の アンバランスが過大になると、補正演算でも 補正しきれないためアンバランスの改善が適 切に図れない。特に、撮像素子に対する射出 瞳の位置が想定位置と大きく異なる交換レン ズ等が取り付けられた場合にもAF画素対で生 される画素信号のアンバランスが過大とな が、このような場合にも上記特開2004-191629 公報の補正演算ではアンバランスを解消し 焦点検出を精度良く行うことは困難である

 本発明は、上記課題に鑑みてなされたも であり、撮像素子に対する射出瞳位置が変 しても焦点検出を精度良く行える位相差検 機能付き撮像素子の技術を提供することを 的とする。

 本発明の第1の側面は、撮像装置であって 、(a)撮影光学系と、(b)前記撮像光学系を通っ た被写体光束を受光する撮像素子とを備える とともに、前記撮像素子は、前記撮影光学系 の射出瞳において互いに逆方向に偏った第1 部分領域および第2の部分領域を通過した被 体光束を受光する画素対の群を有し、前記 素対は、前記射出瞳において前記第1の部分 領域を規定する光透過部分が設けられた遮光 部を有する第1画素と、前記射出瞳において 記第2の部分領域を規定する光透過部分が設 られた遮光部を有する第2画素とを備えて構 成されるとともに、前記画素対の群は、前記 遮光部における光透過部分の配置を異ならせ た複数種類の画素対を有しており、前記複数 種類の画素対それぞれでは、前記第1の部分 域と前記第2の部分領域との面積が同等とな 射出瞳の前記撮像素子に対する位置が異な ていることを特徴とする。

 本発明の第2の側面は、撮影光学系を通っ た被写体光束を受光可能な撮像素子であって 、前記撮影光学系の射出瞳において互いに逆 方向に偏った第1の部分領域および第2の部分 域を通過した被写体光束を受光する画素対 群を備え、前記画素対は、前記射出瞳にお て前記第1の部分領域を規定する光透過部分 が設けられた遮光部を有する第1画素と、前 射出瞳において前記第2の部分領域を規定す 光透過部分が設けられた遮光部を有する第2 画素とを備えて構成されるとともに、前記画 素対の群は、前記遮光部における光透過部分 の配置を異ならせた複数種類の画素対を有し ており、前記複数種類の画素対それぞれでは 、前記第1の部分領域と前記第2の部分領域と 面積が同等となる射出瞳の前記撮像素子に する位置が異なっていることを特徴とする

 本発明によれば、撮像素子は、撮影光学 の射出瞳において互いに逆方向に偏った第1 の部分領域および第2の部分領域を通過した 写体光束を受光する画素対の群を有し、画 対は、射出瞳において第1の部分領域を規定 る光透過部分が設けられた遮光部を有する 1画素と射出瞳において第2の部分領域を規 する光透過部分が設けられた遮光部を有す 第2画素とを備えて構成されるとともに、画 対の群は、遮光部における光透過部分の配 を異ならせた複数種類の画素対を有してお 、複数種類の画素対それぞれでは、第1の部 分領域と第2の部分領域との面積が同等とな 射出瞳の撮像素子に対する位置が異なって る。その結果、レンズ交換等によって撮像 子に対する射出瞳位置が変化しても、その 出瞳位置に応じた画素対を複数種類の画素 から選択することにより、位相差検出方式 焦点検出を精度良く行える。

図1は、本発明の実施形態に係る撮像装 置1の外観構成を示す図である。 図2は、撮像装置1の外観構成を示す図 ある。 図3は、撮像装置1の縦断面図である。 図4は、撮像装置1の電気的な構成を示 ブロック図である。 図5は、撮像素子101の構成を説明するた めの図である。 図6は、撮像素子101の構成を説明するた めの図である。 図7は、AF画素対11fの構成を説明するた の縦断面図である。 図8は、焦点面が撮像素子101の撮像面か ら200μm近側にデフォーカスしている場合のシ ミュレーション結果を示す図である。 図9は、焦点面が撮像面から100μm近側に デフォーカスしている場合のシミュレーショ ン結果を示す図である。 図10は、焦点面が撮像面に一致してい 合焦状態のシミュレーション結果を示す図 ある。 図11は、焦点面が撮像面から100μm遠側 デフォーカスしている場合のシミュレーシ ン結果を示す図である。 図12は、焦点面が撮像面から200μm遠側 デフォーカスしている場合のシミュレーシ ン結果を示す図である。 図13は、一対の像列における重心位置 差とデフォーカス量との関係を示すグラフG cを説明するための図である。 図14は、交換レンズ2の射出瞳位置に応 じて生じる瞳分割のアンバランスを説明する ための図である。 図15は、AF画素対11gの構成を説明する めの概念図である。 図16は、交換レンズ2の射出瞳位置に応 じた測距制御を説明するための図である。 図17は、AF画素対11jの構成を説明する めの概念図である。 図18は、AF画素対11kの構成を説明する めの概念図である。 図19は、瞳遠用、瞳中用および瞳近用 各AFラインLj、Lg、Lkを説明するための図で る。 図20は、撮像装置1の基本的な動作を示 すフローチャートである。 図21は、本発明の変形例に係るAF画素 11faの構成を説明するための図である。

 <撮像装置の要部構成>
 図1および図2は、本発明の実施形態に係る 像装置1の外観構成を示す図である。ここで 図1および図2は、それぞれ正面図および背 図を示している。

 撮像装置1は、例えば一眼レフレックスタ イプのデジタルスチルカメラとして構成され ており、カメラボディ10と、カメラボディ10 着脱自在な撮影レンズとしての交換レンズ2 を備えている。

 図1において、カメラボディ10の正面側に 、正面略中央に交換レンズ2が装着されるマ ウント部301と、マウント部301の右横に配置さ れたレンズ交換ボタン302と、把持可能とする ためのグリップ部303と、正面左上部に配置さ れたモード設定ダイアル305と、正面右上部に 配置された制御値設定ダイアル306と、グリッ プ部303の上面に配置されたシャッターボタン 307とが設けられている。

 また、図2において、カメラボディ10の背 側には、LCD(Liquid Crystal Display)311と、LCD311 左方に配置された設定ボタン群312と、LCD311 右方に配置された十字キー314と、十字キー31 4の中央に配置されたプッシュボタン315とが えられている。また、カメラボディ10の背面 側には、LCD311の上方に配設されたEVF(Electronic View Finder)316と、EVF316の周囲を囲むアイカッ 321と、EVF316の左方に配設されたメインスイ チ317と、EVF316の右方に配設された露出補正 タン323およびAEロックボタン324と、EVF316の 方に配設されたフラッシュ部318および接続 子部319とが備えられている。

 マウント部301には、装着された交換レン 2との電気的接続を行うためコネクタEc(図4 照)や、機械的接続を行うためのカプラ75(図4 参照)が設けられている。

 レンズ交換ボタン302は、マウント部301に 着された交換レンズ2を取り外す際に押下さ れるボタンである。

 グリップ部303は、ユーザが撮影時に撮像 置1を把持する部分であり、フィッティング 性を高めるために指形状に合わせた表面凹凸 が設けられている。なお、グリップ部303の内 部には電池収納室およびカード収納室(不図 )が設けられている。電池収納室にはカメラ 電源として電池69B(図4参照)が収納されてお 、カード収納室には撮影画像の画像データ 記録するためのメモリカード67(図4参照)が 脱可能に収納されるようになっている。な 、グリップ部303には、当該グリップ部303を ーザが把持したか否かを検出するためのグ ップセンサを設けるようにしても良い。

 モード設定ダイアル305及び制御値設定ダ アル306は、カメラボディ10の上面と略平行 面内で回転可能な略円盤状の部材からなる モード設定ダイアル305は、自動露出(AE)制御 ードや自動焦点(AF;オートフォーカス)制御 ード、或いは1枚の静止画を撮影する静止画 影モードや連続撮影を行う連続撮影モード の各種撮影モード、記録済みの画像を再生 る再生モード等、撮像装置1に搭載されたモ ードや機能を択一的に選択するためのもので ある。一方、制御値設定ダイアル306は、撮像 装置1に搭載された各種の機能に対する制御 を設定するためのものである。

 シャッターボタン307は、途中まで押し込 だ「半押し状態」の操作と、さらに押し込 だ「全押し状態」の操作とが可能とされた 下スイッチである。静止画撮影モードにお てシャッターボタン307が半押しされると、 写体の静止画を撮影するための準備動作(露 出制御値の設定や焦点検出等の準備動作)が 行され、シャッターボタン307が全押しされ と、撮影動作(撮像素子101(図3参照)を露光し その露光によって得られた画像信号に所定 画像処理を施してメモリカード等に記録す 一連の動作)が実行される。

 LCD311は、画像表示が可能なカラー液晶パ ルを備えており、撮像素子101(図3参照)によ 撮像された画像の表示や記録済みの画像の 生表示等を行うとともに、撮像装置1に搭載 される機能やモードの設定画面を表示するも のである。なお、LCD311に代えて、有機ELやプ ズマ表示装置を用いるようにしても良い。

 設定ボタン群312は、撮像装置1に搭載され た各種の機能に対する操作を行うボタンであ る。この設定ボタン群312には、例えばLCD311に 表示されるメニュー画面で選択された内容を 確定するための選択確定スイッチ、選択取り 消しスイッチ、メニュー画面の内容を切り替 えるメニュー表示スイッチ、表示オン/オフ イッチ、表示拡大スイッチなどが含まれる

 十字キー314は、円周方向に一定間隔で配 された複数の押圧部(図中の三角印の部分) 備える環状の部材を有し、各押圧部に対応 て備えられた図示省略の接点(スイッチ)によ り押圧部の押圧操作が検出されるように構成 されている。また、プッシュボタン315は、十 字キー314の中央に配置されている。十字キー 314及びプッシュボタン315は、撮影倍率の変更 (ズームレンズ212(図4参照)のワイド方向やテ 方向への移動)、LCD311等に再生する記録画像 コマ送り、及び撮影条件(絞り値、シャッタ スピード、フラッシュ発光の有無等)の設定 の指示を入力するためのものである。

 EVF316は、液晶パネル310(図3参照)を備えて り、撮像素子101(図3参照)によって撮像され 画像の表示や記録済みの画像の再生表示等 行う。このEVF316やLCD311において、本撮影(画 像記録用の撮影)前に撮像素子101で順次に生 される画像信号に基づき動画的態様で被写 を表示するライブビュー(プレビュー)表示が 行われることにより、ユーザは、実際に撮像 素子101にて撮影される被写体を視認すること が可能となる。

 メインスイッチ317は、左右にスライドす 2接点のスライドスイッチからなり、左にセ ットすると撮像装置1の電源がオンされ、右 セットすると電源がオフされる。

 フラッシュ部318は、ポップアップ式の内 フラッシュとして構成されている。一方、 部フラッシュ等をカメラボディ10に取り付 る場合には、接続端子部319を使用して接続 る。

 アイカップ321は、遮光性を有してEVF316へ 外光の侵入を抑制する「コ」字状の遮光部 である。

 露出補正ボタン323は、露出値(絞り値やシ ャッタースピード)を手動で調整するための タンであり、AEロックボタン324は、露出を固 定するためのボタンである。

 交換レンズ2は、被写体からの光(光像)を り込むレンズ窓として機能するとともに、 該被写体光をカメラボディ10の内部に配置 れている撮像素子101に導くための撮影光学 として機能するものである。この交換レン 2は、上述のレンズ交換ボタン302を押下操作 ることで、カメラボディ10から取り外すこ が可能となっている。

 交換レンズ2は、光軸LTに沿って直列的に 置された複数のレンズからなるレンズ群21 備えている(図4参照)。このレンズ群21には、 焦点の調節を行うためのフォーカスレンズ211 (図4参照)と、変倍を行うためのズームレンズ 212(図4参照)とが含まれており、それぞれ光軸 LT(図3参照)方向に駆動されることで、変倍や 点調節が行われる。また、交換レンズ2には 、その鏡胴の外周適所に該鏡胴の外周面に沿 って回転可能な操作環が備えられており、上 記のズームレンズ212は、マニュアル操作或い はオート操作により、上記操作環の回転方向 及び回転量に応じて光軸方向に移動し、その 移動先の位置に応じたズーム倍率(撮影倍率) 設定されるようになっている。

 <撮像装置1の内部構成>
 次に、撮像装置1の内部構成について説明す る。図3は、撮像装置1の縦断面図である。図3 に示すように、カメラボディ10の内部には、 像素子101、EVF316などが備えられている。

 撮像素子101は、カメラボディ10に交換レ ズ2が装着された場合の当該交換レンズ2が備 えているレンズ群の光軸LT上において、光軸L Tに対して垂直となる方向に配置されている 撮像素子101としては、例えばフォトダイオ ドを有して構成される複数の画素がマトリ ス状に2次元配置されたCMOSカラーエリアセン サ(CMOS型の撮像素子)が用いられる。撮像素子 101は、交換レンズ2を通って受光された被写 光束に関するR(赤)、G(緑)、B(青)各色成分の ナログの電気信号(画像信号)を生成し、R、G B各色の画像信号として出力する。この撮像 素子101の構成については、後で詳述する。

 撮像素子101の光軸方向前方には、シャッ ユニット40が配置されている。このシャッ ユニット40は、上下方向に移動する幕体を備 え、その開動作および閉動作により光軸LTに って撮像素子101に導かれる被写体光の光路 口動作および光路遮断動作を行うメカニカ フォーカルプレーンシャッタとして構成さ ている。なお、シャッタユニット40は、撮 素子101が完全電子シャッター可能な撮像素 である場合には省略可能である。

 EVF316は、液晶パネル310と、接眼レンズ106 を備えている。液晶パネル310は、例えば画 表示が可能なカラー液晶パネルとして構成 れており、撮像素子101により撮像された画 の表示が可能である。接眼レンズ106は、液 パネル310に表示された被写体像をEVF316の外 に導く。このようなEVF316の構成により、ユ ザは、撮像素子101で撮影される被写体を視 できることとなる。

 <撮像装置1の電気的構成>
 図4は、撮像装置1の電気的な構成を示すブ ック図である。ここで、図1~図3と同一の部 等については、同一の符号を付している。 お、説明の便宜上、交換レンズ2の電気的構 について先ず説明する。

 交換レンズ2は、上述した撮影光学系を構 成するレンズ群21に加え、レンズ駆動機構24 、レンズ位置検出部25と、レンズ制御部26と 絞り駆動機構27とを備えている。

 レンズ群21では、フォーカスレンズ211及 ズームレンズ212と、カメラボディ10に備えら れた撮像素子101へ入射される光量を調節する ための絞り23とが、鏡胴内において光軸LT(図3 )方向に保持されており、被写体の光像を取 込んで撮像素子101に結像させる。AF制御では 、フォーカスレンズ211が交換レンズ2内のAFア クチュエータ71Mにより光軸LT方向に駆動され ことで焦点調節が行われる。

 フォーカス駆動制御部71Aは、レンズ制御 26を介してメイン制御部62から与えられるAF 御信号に基づき、フォーカスレンズ211を合 位置に移動させるために必要な、AFアクチ エータ71Mに対する駆動制御信号を生成する のである。AFアクチュエータ71Mは、ステッピ ングモータ等からなり、レンズ駆動機構24に ンズ駆動力を与える。

 レンズ駆動機構24は、例えばヘリコイド び該ヘリコイドを回転させる図示省略のギ 等で構成され、AFアクチュエータ71Mからの駆 動力を受けて、フォーカスレンズ211等を光軸 LTと平行な方向に駆動させるものである。な 、フォーカスレンズ211の移動方向及び移動 は、それぞれAFアクチュエータ71Mの回転方 及び回転数に従う。

 レンズ位置検出部25は、レンズ群21の移動 範囲内において光軸LT方向に複数個のコード ターンが所定ピッチで形成されたエンコー 板と、このエンコード板に摺接しながらレ ズと一体的に移動するエンコーダブラシと 備えており、レンズ群21の焦点調節時の移 量を検出する。なお、レンズ位置検出部25で 検出されたレンズ位置は、例えばパルス数と して出力される。

 レンズ制御部26は、例えば制御プログラ 等を記憶するROMや状態情報に関するデータ 記憶するフラッシュメモリ等のメモリが内 されたマイクロコンピュータからなってい 。このレンズ制御部26内のROMには、後述する 交換レンズ2の射出瞳位置の情報が記憶され いる。

 また、レンズ制御部26は、コネクタEcを介 してカメラボディ10のメイン制御部62との間 通信を行う通信機能を有している。これに り、例えばレンズ群21の焦点距離、射出瞳位 置、絞り値、合焦距離及び周辺光量状態等の 状態情報データや、レンズ位置検出部25で検 されるフォーカスレンズ211の位置情報をメ ン制御部62に送信できるとともに、メイン 御部62から例えばフォーカスレンズ211の駆動 量のデータを受信できる。

 絞り駆動機構27は、カプラ75を介して絞り 駆動アクチュエータ76Mからの駆動力を受けて 、絞り23の絞り径を変更するものである。

 続いて、カメラボディ10の電気的構成に いて説明する。カメラボディ10には、先に説 明した撮像素子101、シャッタユニット40等の に、AFE(アナログフロントエンド)5、画像処 部61、画像メモリ614、メイン制御部62、フラ ッシュ回路63、操作部64、VRAM65(65a、65b)、カー ド・インターフェース(I/F)66、メモリカード67 、通信用インターフェース(I/F)68、電源回路69 、電池69B、シャッタ駆動制御部73A及びシャッ タ駆動アクチュエータ73M、絞り駆動制御部76A 及び絞り駆動アクチュエータ76Mを備えて構成 されている。

 撮像素子101は、先に説明した通りCMOSカラ ーエリアセンサからなり、後述のタイミング 制御回路51により、当該撮像素子101の露光動 の開始(及び終了)や、撮像素子101が備える 画素の出力選択、画素信号の読出し等の撮 動作が制御される。

 AFE5は、撮像素子101に対して所定の動作を 行わせるタイミングパルスを与えると共に、 撮像素子101から出力される画像信号(CMOSエリ センサの各画素で受光されたアナログ信号 )に所定の信号処理を施し、デジタル信号に 変換して画像処理部61に出力するものである このAFE5は、タイミング制御回路51、信号処 部52及びA/D変換部53などを備えて構成されて いる。

 タイミング制御回路51は、メイン制御部62 から出力される基準クロックに基づいて所定 のタイミングパルス(垂直走査パルスφVn、水 走査パルスφVm、リセット信号φVr等を発生 せるパルス)を生成して撮像素子101に出力し 撮像素子101の撮像動作を制御する。また、 定のタイミングパルスを信号処理部52やA/D 換部53にそれぞれ出力することにより、信号 処理部52及びA/D変換部53の動作を制御する。

 信号処理部52は、撮像素子101から出力さ るアナログの画像信号に所定のアナログ信 処理を施すものである。この信号処理部52に は、CDS(相関二重サンプリング)回路、AGC(オー トゲインコントロール)回路及びクランプ回 等が備えられている。A/D変換部53は、信号処 理部52から出力されたアナログのR、G、Bの画 信号を、タイミング制御回路51から出力さ るタイミングパルスに基づいて、複数のビ ト(例えば12ビット)からなるデジタルの画像 号に変換するものである。

 画像処理部61は、AFE5から出力される画像 ータに所定の信号処理を行って画像ファイ を作成するもので、黒レベル補正回路611、 ワイトバランス制御回路612及びガンマ補正 路613等を備えて構成されている。なお、画 処理部61へ取り込まれた画像データは、撮 素子101の読み出しに同期して画像メモリ614 一旦書き込まれ、以後この画像メモリ614に き込まれた画像データにアクセスして、画 処理部61の各ブロックにおいて処理が行われ る。

 黒レベル補正回路611は、A/D変換部53によ A/D変換されたR、G、Bの各デジタル画像信号 黒レベルを、基準の黒レベルに補正するも である。

 ホワイトバランス制御回路612は、光源に じた白の基準に基づいて、R(赤)、G(緑)、B( )の各色成分のデジタル信号のレベル変換(ホ ワイトバランス(WB)調整)を行うものである。 なわちホワイトバランス制御回路612は、メ ン制御部62から与えられるWB調整データに基 づき、撮影被写体において輝度や彩度データ 等から本来白色であると推定される部分を特 定し、その部分のR、G、Bそれぞれを色成分の 平均と、G/R比及びG/B比とを求め、これをR、B 補正ゲインとしてレベル補正する。

 ガンマ補正回路613は、WB調整された画像 ータの階調特性を補正するものである。具 的にはガンマ補正回路613は、画像データの ベルを色成分毎に予め設定されたガンマ補 用テーブルを用いて非線形変換するととも オフセット調整を行う。

 画像メモリ614は、撮影モード時において 画像処理部61から出力される画像データを 時的に記憶するとともに、この画像データ 対しメイン制御部62により所定の処理を行う ための作業領域として用いられるメモリであ る。また、再生モード時には、メモリカード 67から読み出した画像データを一時的に記憶 る。

 メイン制御部62は、例えば制御プログラ を記憶するROMや一時的にデータを記憶するRA M等の記憶部が内蔵されたマイクロコンピュ タからなり、撮像装置1各部の動作を制御す ものである。

 フラッシュ回路63は、フラッシュ撮影モ ドにおいて、フラッシュ部318または接続端 部319に接続される外部フラッシュの発光量 、メイン制御部62により設定された発光量に 制御するものである。

 操作部64は、上述のモード設定ダイアル30 5、制御値設定ダイアル306、シャッターボタ 307、設定ボタン群312、十字キー314、プッシ ボタン315、メインスイッチ317等を含み、操 情報をメイン制御部62に入力するためのもの である。

 VRAM65a、65bは、LCD311およびEVF316の画素数に 対応した画像信号の記憶容量を有し、メイン 制御部62とLCD311およびEVF316との間のバッファ モリである。カードI/F66は、メモリカード67 とメイン制御部62との間で信号の送受信を可 とするためのインターフェースである。メ リカード67は、メイン制御部62で生成された 画像データを保存する記録媒体である。通信 用I/F68は、パーソナルコンピュータやその他 外部機器に対する画像データ等の伝送を可 とするためのインターフェースである。

 電源回路69は、例えば定電圧回路等から り、メイン制御部62等の制御部、撮像素子101 、その他の各種駆動部等、撮像装置1全体を 動させるための電圧を生成する。なお、撮 素子101への通電制御は、メイン制御部62から 電源回路69に与えられる制御信号により行わ る。電池69Bは、アルカリ乾電池等の一次電 や、ニッケル水素充電池等の二次電池から り、撮像装置1全体に電力を供給する電源で ある。

 シャッタ駆動制御部73Aは、メイン制御部6 2から与えられる制御信号に基づき、シャッ 駆動アクチュエータ73Mに対する駆動制御信 を生成するものである。シャッタ駆動アク ュエータ73Mは、シャッタユニット40の開閉駆 動を行うアクチュエータである。

 絞り駆動制御部76Aは、メイン制御部62か 与えられる制御信号に基づき、絞り駆動ア チュエータ76Mに対する駆動制御信号を生成 るものである。絞り駆動アクチュエータ76M 、カプラ75を介して絞り駆動機構27に駆動力 与える。

 また、カメラボディ10は、黒レベル補正 路611から出力される黒レベル補正済みの画 データに基づき、撮像素子101を用いたオー フォーカス(AF)制御時に必要な演算を行う位 差AF演算回路77を備えている。

 この位相差AF演算回路77を利用した撮像装 置1の位相差AF動作について、詳しく説明する 。

 <撮像装置1の位相差AF動作について>
 撮像装置1では、撮像素子101において射出瞳 の異なった部分を透過(通過)した透過光を受 することにより位相差AFが可能な構成とな ている。この撮像素子101の構成と、撮像素 101を利用した位相差AFの原理とを、以下で説 明する。

 図5および図6は、撮像素子101の構成を説 するための図である。

 撮像素子101では、その撮像面101fにおいて マトリックス状に規定された複数のAFエリアE fそれぞれで位相差検出方式の焦点検出が可 な構成となっている(図5)。

 各AFエリアEfには、フォトダイオード上に R(赤)、G(緑)およびB(青)の各カラーフィルタが 配設されたR画素111、G画素112およびB画素113か らなる通常の画素(以下では「通常画素」と いう)110が設けられるとともに、後述する下 の遮光マスク12a、12c(平行斜線部)を有して 相差AFを行うための画素のペア(以下では「AF 画素対」ともいう)11fが設けられている(図6)

 そして、AFエリアEfには、通常画素110の水 平ラインとしてG画素112とR画素111とが水平方 に交互に配置されたGrラインL1と、B画素113 G画素112とが水平方向に交互に配置されたGb インL2とが形成されている。このGrラインL1 GbラインL2とが垂直方向に交互に配置される とによりベイヤー配列が構成される。

 また、AFエリアEfには、AF画素対11fが水平 向に繰り返し配列されたAFライン(焦点検出 素列)Lfが垂直方向に周期的に形成されてい 。

 次に、AF画素対11fの構成について説明す 。

 図7は、AF画素対11fの構成を説明するため 縦断面図である。なお、図7に示すAF画素対1 1fは、撮像面101fの中央付近に位置するAFエリ Ef(例えば図5に示すAFエリアEfo)に設けられて いるものである。

 AF画素対11fは、交換レンズ2に関する射出 の左側部分Qaからの光束Taと右側部分Qbから 光束Tbとを分離させるための開口部OPa~OPb、O Pc~OPdの位置が鏡面対象となっている2枚の遮 マスク(遮光板)12a~12b、12c~12dを有した一対の 素11a、11bからなっており、AF画素対11fが水 方向に沿って2以上配列されることでAFライ Lfが形成される。

 より詳細には、画素(以下では「第1AF画素 」ともいう)11aでは、光電変換部(フォトダイ ード)PDに対して右側に偏った長方形状(スリ ット状)の開口部OPaが下段の遮光マスク12aに 成されるとともに、光電変換部PDに対して左 側に偏ったスリット状の開口部OPbが上段の遮 光マスク12bに設けられている。そして、各開 口部OPa、OPbにより遮光マスク12aおよび遮光マ スク12bからなる遮光部121の光透過部分が構成 されるとともに、この光透過部分により射出 瞳において左側部分Qaが規定される。一方、 素(以下では「第2AF画素」ともいう)11bでは 光電変換部PDに対して左側に偏ったスリット 状の開口部OPcが下段の遮光マスク12cに形成さ れるとともに、光電変換部PDに対して右側に ったスリット状の開口部OPdが上段の遮光マ ク12dに設けられている。そして、各開口部O Pc、OPdにより遮光マスク12cおよび遮光マスク1 2dからなる遮光部122の光透過部分が構成され とともに、この光透過部分により射出瞳に ける右側部分Qbが規定される。このような 1AF画素11aおよび第2AF画素11bは、図6のようにA FラインLfで交互に配置される。

 以上のような構成のAF画素対11fにより、 出瞳における瞳分割、つまり射出瞳の左側 分Qaからの光束TaがマイクロレンズML、カラ フィルタFRおよび各遮光マスク12a、12bの開口 部(光透過部分)OPa、OPbを通過して第1AF画素11a 光電変換部PDで受光されるとともに、射出 の右側部分Qbからの光束TbがマイクロレンズM L、カラーフィルタFRおよび各遮光マスク12c、 12dの開口部(光透過部分)OPc、OPdを通過して第2 AF画素11bの光電変換部PDで受光されることと る。換言すれば、AF画素対11fでは、交換レン ズ2の射出瞳において互いに逆方向となる左 向および右方向に偏った左側部分(第1の部分 領域)Qaおよび右側部分(第2の部分領域)Qbを通 した被写体の光束Ta、Tbが受光される。

 以下では、第1AF画素11aにおいて得られる 光データを「A系列のデータ」と呼び、第2AF 画素11bにおいて得られる受光データを「B系 のデータ」と呼ぶこととし、例えば、ある1 のAFラインLf(図6)に配置されたAF画素対11fの から得られるA系列のデータとB系列のデー とを表した図8~図12を参照して位相差AFの原 を説明する。

 図8は、焦点面が撮像素子101の撮像面101f ら200μm近側にデフォーカスしている場合の ミュレーション結果を示す図であり、図9は 焦点面が撮像面101fから100μm近側にデフォー カスしている場合のシミュレーション結果を 示す図である。また、図10は、焦点面が撮像 101fに一致している合焦状態のシミュレーシ ョン結果を示す図である。さらに、図11は、 点面が撮像面101fから100μm遠側にデフォーカ スしている場合のシミュレーション結果を示 す図であり、図12は、焦点面が撮像面101fから 200μm遠側にデフォーカスしている場合のシミ ュレーション結果を示す図である。ここで、 図8~図12においては、横軸がAFラインLf方向に する第1AF画素11a、第2AF画素11bの画素位置を し、縦軸が第1AF画素11aおよび第2AF画素11bそ ぞれの光電変換部PDからの出力を示してい 。また、図8~図12では、グラフGa1~Ga5(実線で 示)がA系列のデータを表し、グラフGb1~Gb5(破 で図示)がB系列のデータを表している。

 図8~図12においてA系列のグラフGa1~Ga5で示 れる各A系列の像列とB系列のグラフGb1~Gb5で される各B系列の像列とを比較すると、デフ ォーカス量が大きいほど、A系列の像列とB系 の像列との間に生じるAFラインLf(水平方向) 向のシフト量(ずれ量)が増大していること 分かる。

 このような一対の像列(A系列およびB系列の 列)におけるシフト量と、デフォーカス量と の関係をグラフ化すると、図13に示すグラフG cのように表される。この図13においては、横 軸がA系列の像列の重心位置に対するB系列の 列の重心位置の差(画素ピッチ)を示し、縦 がデフォーカス量(μm)を示している。なお、 各像列の重心位置X g は、例えば次のような演算式(1)により求めら れる。

 ただし、上式(1)において、X 1 ~X n は、例えばAFラインLfにおける左端からの画 位置を表し、Y 1 ~Y n は、各位置X 1 ~X n の第1AF画素11a、第2AF画素11bからの出力値を表 している。

 図13に示すグラフGcのように一対の像列にお ける重心位置の差とデフォーカス量との関係 は、比例関係となっている。この関係につい て、デフォーカス量をDF(μm)とし重心位置の をC(μm)として数式で表現すると、次の式(2) ようになる。

 ここで、上式(2)の係数kは、図13のグラフG cに関する傾きGk(破線で図示)を表しており、 場試験等によって事前に取得できるもので る。

 以上より、AF画素対11fから得られるA系列 データとB系列のデータとに関する重心位置 の差(位相差)を位相差AF演算回路77で求めた後 に、上式(2)を利用してデフォーカス量を算出 し、算出されたデフォーカス量に相当する駆 動量をフォーカスレンズ211に与えることで、 検出された焦点位置にフォーカスレンズ211を 移動させるオートフォーカス(AF)制御が可能 なる。なお、上記のデフォーカス量とフォ カスレンズ211の駆動量との関係は、カメラ ディ10に装着されている交換レンズ2の設計 より一意に定まるものである。

 以上のような撮像素子(位相差検出機能付 き撮像素子)101を備えた撮像装置1では、カメ ボディ10に装着される交換レンズ2の射出瞳 置に応じた測距制御を行って精度の良い位 差AFを実現しているが、この測距制御につ て以下で詳しく説明する。

 <交換レンズ2の射出瞳位置に応じた測距 御>
 図14は、交換レンズ2の射出瞳位置に応じて じる瞳分割のアンバランスを説明するため 図である。この図14においては、横軸が撮 面101fに対する射出瞳の位置を示しており、 軸が交換レンズ2の光軸、つまり撮像面101f 中心からの距離(像高)を示している。なお、 図14では、像高α[mm]の位置に配置された画素 関するマイクロレンズMLの入射瞳(OCL入射瞳) の範囲を角度θで示している。

 撮像素子101では、撮像面101fの中央部から 離れた位置のAFエリアEf(例えば図5に示すAFエ アEfa)に設けられた像高α[mm]のAF画素対にお ても、撮像面101fからの距離Hm(例えば80~90mm 度)にある標準的な射出瞳位置Pmで適切な瞳 割を行えるように構成されている。具体的 は、図15に示す概念図のようにAFエリアEfa内 AF画素対11gでは、例えば右側の画素11gbにお る下段の遮光マスク13cの左端を光電変換部P Dの中心Coから距離Eaだけ右側に設定すること より、撮像面101fからの距離Hmに形成される 径Roの射出瞳を2等分した左側部分Qcおよび 側部分Qdを通過する各光束Tc、Tdが各光電変 部PDで受光可能となっている。これにより、 図14に示すように像高α[mm]の位置に配置され AF画素対11gでは、撮像面101fの垂線に対して め方向に伸びる瞳分割ラインDmが設定され ため、撮像面101fから距離Hm離れた位置(以下 は「中位置」ともいう)Pmの射出瞳において 分割を等しく行えることとなる。

 一方、交換レンズ2においては、その射出 瞳位置が上述した位置Pmから大きく相違する のも存在する。例えば図14に示すように撮 面101fから比較的遠い距離Haの位置(以下では 遠位置」ともいう)Paに射出瞳が形成される 換レンズや、撮像面101fから比較的近い距離 Hbの位置(以下では「近位置」ともいう)Pbに射 出瞳が形成される交換レンズにおいて、瞳分 割ラインDmによる画一的な射出瞳の分割が行 れたのでは、分割される各領域の大きさに ンバランスが生じてしまう。これでは、AF 素対でバランス良くA系列およびB系列の画素 信号を生成できないため、精度の良い測距( 点検出)が困難となる。

 そこで、本実施形態の撮像装置1では、図 16に示すように射出瞳が遠位置Paとなる交換 ンズ2がカメラボディ10に装着された場合に 、その射出瞳位置に対応した瞳分割ラインDa が規定されるAF画素対11jを用いて測距するこ とする。具体的には、図17に示す概念図の うにAF画素対11jでは、例えば右側の画素11jb おける下段の遮光マスク13cの左端を光電変 部PDの中心Coから距離Eb(ここでEb<Ea)だけ右 に設定し、2枚の遮光マスク13a、13bからなる 遮光部131と2枚の遮光マスク13c、13dからなる 光部132とにおける光透過部分の構成を上記 AF画素対11gに対して異ならせることにより、 撮像面101fからの距離Haに形成される射出瞳を 2等分した左側部分Qeおよび右側部分Qfを通過 る各光束Te、Tfが各光電変換部PDで受光可能 なっている。これにより、図16に示すよう 像高α[mm]の位置に配置されたAF画素対11jでは 、瞳分割ラインDmより傾きが緩やかな瞳分割 インDaが設定されるため、遠位置Paの射出瞳 において瞳分割を等しく行えることとなる。

 また、本実施形態の撮像装置1では、図16 示すように射出瞳が近位置Pbとなる交換レ ズ2がカメラボディ10に装着された場合には その射出瞳位置に対応した瞳分割ラインDbが 規定されるAF画素対11kを用いて測距するよう する。具体的には、図18に示す概念図のよ にAF画素対11kでは、例えば右側の画素11kbに ける下段の遮光マスク13cの左端を光電変換 PDの中心Coから距離Ec(ここでEc>Ea)だけ右側 設定するとともに、左側の画素11kaにおける 下段の遮光マスク13aの右端を光電変換部PDの 心Coから距離Edだけ右側に設定し、遮光部131 、132における光透過部分の構成を上記のAF画 対11gに対して異ならせることにより、撮像 101fからの距離Hbに形成される射出瞳を2等分 した左側部分Qgおよび右側部分Qhを通過する 光束Tg、Thが各光電変換部PDで受光可能とな ている。これにより、図16に示すように像高 α[mm]の位置に配置されたAF画素対11kでは、瞳 割ラインDmより傾きが急な瞳分割ラインDbが 設定されるため、近位置Pbの射出瞳において 分割を等しく行えることとなる。

 以上のような構成を有するAF画素対11g、11 j、11kについては、撮像面101fの中心部から離 た位置のAFエリアEfa(図5)において、例えば 19に示すように遠位置Paの射出瞳に対応するA F画素対11jが水平方向に配列された瞳遠用のAF ラインLj、中位置Pmの射出瞳に対応するAF画素 対11gが水平方向に配列された瞳中用のAFライ Lg、および近位置Pbの射出瞳に対応するAF画 対11kが水平方向に配列された瞳近用のAFラ ンLkを通常画素110の水平ライン4本を挟んで 直方向に周期的に設け、交換レンズ2の射出 位置に応じて各AFラインLg、Lj、Lkを使い分 る測距制御を行うようにする。具体的には 図16のように閾値として撮像面101fからの距 Ps(例えば110mm)および距離Pt(例えば60mm)を設定 し、距離Ps以上となる射出瞳位置の交換レン 2が装着された場合には瞳遠用のAFラインLj 選択するとともに、距離Pt以下となる射出瞳 位置の交換レンズ2が装着された場合には瞳 用のAFラインLkを選択する一方、距離Ptと距 Psとの間にある射出瞳位置の交換レンズ2が 着された場合には瞳中用のAFラインLgを選択 、選択されたAFラインによる測距を行う。

 すなわち、AFエリアEfaに設けられるAFライ ンLg、Lj、Lkは、遮光部131、132における光透過 領域の配置を異ならせ射出瞳に対するニラミ 角を変えた3種類の画素対11g、11j、11kを有し 3種類の画素対11g、11j、11kそれぞれでは、瞳 割に係る左側の部分領域と右側の部分領域 の面積が同等となる射出瞳の撮像素子101(の 撮像面101f)に対する位置Pm、Pa、Pb(図16)が異な っているため、交換レンズ2の交換によって 出瞳位置が変化しても、その射出瞳位置に じたAF画素対を3種類の画素対11g、11j、11kか 選択することにより、バランス良く瞳分割 き、位相差検出方式の焦点検出を精度良く えることとなる。

 次に、射出瞳位置に応じて瞳中用のAFラ ンLg、瞳遠用のAFラインLjおよび瞳近用のAFラ インLkの使い分けを行う撮像装置1の具体的な 動作について説明する。

 <撮像装置1の動作>
 図20は、撮像装置1の基本的な動作を示すフ ーチャートである。なお、この撮像装置1の 動作については、メイン制御部62で実行され 。

 メインスイッチ317へのユーザ操作で撮像 置1の電源がオンにされると、交換レンズ2 射出瞳位置が撮像面101fから60mm以下であるか を判定する(ステップST1)。具体的には、レン 制御部26内のROMに記憶されている交換レン 2の射出瞳位置の情報をカメラボディ10のメ ン制御部62で取得し、射出瞳位置が60mm以下 否かが判断される。ここで、射出瞳位置が60 mm以下である場合には、ステップST3に進み、6 0mm以下でない場合にはステップST2に進む。

 ステップST2では、交換レンズ2の射出瞳位 置が撮像面101fから60~110mmの範囲内にあるかを 判定する。ここで、射出瞳位置が60~110mmの範 内にある場合には、ステップST4に進み、射 瞳位置が110mm以上の場合にはステップST4に む。

 ステップST3では、図18に示すAF画素対11kが 配設された瞳近用のAFラインLkを選択する。

 ステップST4では、図15に示すAF画素対11gが 配設された瞳中用のAFラインLmを選択する。

 ステップST5では、図17に示すAF画素対11jが 配設された瞳遠用のAFラインLjを選択する。

 ステップST6では、シャッターボタン307が ーザによって半押しされたかを判定する。 こで、半押しされた場合には、ステップST7 進み、半押しされていない場合には、ステ プST1に戻る。

 ステップST7では、ステップST3~ST5で選択さ れたAFラインを用いて測距を行う。すなわち 撮像素子101に対する射出瞳位置に応じて3種 類の画素対11g、11j、11kから1種類の画素対を 択し、この1種類の画素対で生成される画素 号に基づき位相差検出方式の焦点検出が行 れる。これにより、交換レンズ毎に異なる 出瞳位置に対応した良好な焦点検出が可能 なる。

 ステップST8では、シャッターボタン307が ーザによって全押しされたかを判定する。 こで、全押しされた場合には、ステップST10 に進み、全押しされていない場合には、ステ ップST9に進む。

 ステップST9では、シャッターボタン307が ーザによって半押しされているかを判定す 。ここで、半押しされている場合には、ス ップST8に進み、半押しされていない場合に 、ステップST1に戻る。

 ステップST10では、撮影を行う。すなわち 、撮像素子101で記録用の撮影画像データを生 成する本撮影の動作が行われる。

 以上で説明した撮像装置1には、図16に示 各位置Pm、Pa、Pbの射出瞳を2等分できるAF画 対11g、11j、11kを備えた撮像素子101が設けら ているため、交換レンズ2が交換されること により射出瞳の位置が変化しても位相差検出 方式の焦点検出を精度良く行える。

 <変形例>
 ・上記の実施形態におけるAF画素対につい は、図7に示すAF画素対11fのように2枚の遮光 スク12a、12bを備えた画素11aと2枚の遮光マス ク12c、12dを備えた画素11bとで構成されるのは 必須でなく、図21に示すAF画素対11faのように 口部OPeが形成される1枚の遮光マスク12eを備 えた画素11cと開口部OPfが形成される1枚の遮 マスク12fを備えた画素11dとで構成されても い。

 このように1枚の遮光マスクを備えた2つ 画素11c、11dからなるAF画素対11faにおいても 撮像面101fの中央付近から外れた位置に規定 れるAFエリアEfa(図5)などに配設される場合 は、AF画素対11g(図15)のように図16に示す瞳分 割ラインDmが設定される瞳中用のAF画素対と AF画素対11j(図17)のように図16に示す瞳分割ラ インDaが設定される瞳遠用のAF画素対と、AF画 素対11k(図18)のように図16に示す瞳分割ライン Dbが設定される瞳近用のAF画素対とを備える うにする。そして、上述のように交換レン の射出瞳位置に応じて瞳近用、瞳中用およ 瞳遠用のAF画素対を選択すれば、焦点検出を 精度良く行えることとなる。

 ・上記の実施形態においては、射出瞳を2 つの半円に瞳分割するのは必須でなく、分割 される箇所でオーバーラップが生じるように 瞳分割を行っても良い。

 ・上記の実施形態においては、3種類のAF 素対11g、11j、11kを交換レンズ毎に使い分け のは必須でなく、ズームレンズのズーム状 に応じて使い分けるようにしても良い。す わち、交換レンズ2のズーム倍率によって変 化する射出瞳位置に応じて、瞳中用、瞳遠用 および瞳近用のAF画素対11g、11j、11kを使い分 ても良い。

 ・上記実施形態の撮像素子においては、3 種類(瞳中用、瞳遠用および瞳近用)のAF画素 を備えるのは必須でなく、2種類や4種類以上 のAF画素対を備えても良い。