以下に本発明の実施の形態を説明するが� ��これら実施の形態は例示的に示されるもの� ��、本発明の技術思想から逸脱しない限り種� ��の変形が可能なことはいうまでもない。

 本発明に係るグラビア製版工場を添付図� ��を用いて説明する。図1及び図2において、� �号10は本発明に係るグラビア製版工場を示し 、グラビア製版工場10は、グラビア印刷に用� ��られるグラビア製版ロールを製造するため� ��グラビア製版工場である。

 グラビア製版工場10は、Aゾーン、Bゾーン 及びCゾーンから構成されており、Bゾーンに� ��、空調設備(図示省略)が備えられている。

 前記Aゾーンには、中空ロール12を受け入� ��るための入り口側中継ボックス14と、中空� �ール12を待機させるための第1置き台16と、中 空ロール12を脱脂するための脱脂ユニット18� �、中空ロールを酸洗い(例えば希硫酸処理)す るための酸洗いユニット20と、中空ロールを� ��洗いするための水洗いユニット22と、中空� �ール12に銅めっきをするための銅めっき手段 としての第1銅めっきユニット24及び第2銅め� �きユニット26と、前記銅めっきがされた中空 ロール12を研磨するための研磨ユニット28と� �中空ロール12を待機させるための第2置き台30 と、が床面Fに設置されている。Aゾーンの上� ��にはレールRがグラビア製版工場10の長手方� ��に掛架されており、中空ロール12を移送す� �ための移送手段である第1スタッカクレーン3 2が該レールRに摺動自在に吊り下げられてい� ��。

 前記第1スタッカクレーン32はカセット型� ��ールチャック装置(図示省略)を吊り上げて� �送する構成であり、前記カセット型ロール� �ャック装置は、水平に位置される中空ロー� �12の両端のチャック孔をチャック回転し通電 し得る一対のチャックコーン及び各チャック コーンの外側を密封する防水キャップを有す る構成とされている。これらスタッカクレー ンの構造及びカセット型ロールチャック装置 の構造については、例えば特許文献8などか� �公知であるため詳細な説明は省略する。

 第1置き台16、脱脂ユニット18、酸洗いユ� �ット20、水洗いユニット22、第1銅めっきユニ ット24及び第2銅めっきユニット26については� ��いずれも公知の装置が適用でき、例えば特� ��文献1~10などに開示された装置が適用可能で ある。

 上記構成により、Aゾーンにおいて、中空 ロール12は、第1スタッカクレーン32によって� ��処理装置間を移動することが可能とされて� ��る。

 また、前記Bゾーンには、中空ロール12を� ��機させるため前記Aゾーンとの間に設けられ た第2置き台30と、中空ロールに感光液を塗布 するための感光液塗布装置34、中空ロール12� �回転乾燥させるための回転乾燥装置36と、該 感光液が塗布された中空ロール12をレーザー� ��光するためのレーザー露光装置38と、該中� �ロールを現像するための現像装置40と、中空 ロール12を待機させるための第3置き台42と、� ��床面Fに設置されている。Bゾーンの上部に� �レールRがグラビア製版工場10の長手方向に� �架されており、中空ロール12を移送するため の移送手段である第2スタッカクレーン44が該 レールRに摺動自在に吊り下げられている。

 前記第2スタッカクレーン44はカセット型� ��ールチャック装置(図示省略)を吊り上げて� �送する構成であり、前記カセット型ロール� �ャック装置は、水平に位置される中空ロー� �12の両端のチャック孔をチャック回転し通電 し得る一対のチャックコーン及び各チャック コーンの外側を密封する防水キャップを有す る構成とされている。

 第2置き台30,感光液塗布装置34、回転乾燥� ��置36、レーザー露光装置38、現像装置40など� ��ついては、いずれも公知の装置が適用でき� ��例えば特許文献1~10などに開示された装置が 適用可能である。

 上記構成により、Bゾーンにおいて、中空 ロール12は、第2スタッカクレーン44によって� ��処理装置間を移動することが可能とされて� ��る。なお、BゾーンにはBゾーン内の空気を� �浄化するための空気清浄装置(図示せず)が設 けられている。

 次に、前記Cゾーンには、中空ロール12を� ��機させるため前記Bゾーンとの間に設けられ た第3置き台42と、前記現像された中空ロール 12を腐食させるための腐食ユニット46、中空� �ール12に希塩酸処理するための希塩酸処理装 置48と、中空ロール12を水洗いするための水� �い装置50と、中空ロール12のレジスト剥離を� ��うためのレジスト剥離装置52と、中空ロー� �12に下地金属めっき層を形成するための下地 金属めっき層形成手段54(図示例ではニッケル めっきユニット)と、前記下地金属めっき層� �形成された中空ロールにDLC被膜を形成する� �めのDLC被膜形成手段55と、中空ロール12を送� ��出すための出口側中継ボックス60と、が床� �Fに設置されている。Cゾーンの上部にはレー ルRがグラビア製版工場10の長手方向に掛架さ れており、中空ロール12を移送するための移� ��手段である第3スタッカクレーン62が該レー� ��Rに摺動自在に吊り下げられている。

 前記第3スタッカクレーン62はカセット型� ��ールチャック装置(図示省略)を吊り上げて� �送する構成であり、前記カセット型ロール� �ャック装置は、水平に位置される中空ロー� �12の両端のチャック孔をチャック回転し通電 し得る一対のチャックコーン及び各チャック コーンの外側を密封する防水キャップを有す る構成とされている。

 第3置き台42、腐食ユニット46、希塩酸処� �装置48、水洗い装置50、レジスト剥離装置52� �下地金属めっき層形成手段54(図示例ではニ� �ケルめっきユニット)などについては、いず� ��も公知の装置が適用でき、例えば特許文献1 ~10などに開示された装置が適用可能である。

 上記構成により、Cゾーンにおいて、中空 ロール12は、第3スタッカクレーン62によって� ��処理装置間を移動することが可能とされて� ��る。

 前記DLC被膜形成手段55は、複数の中空ロ� �ル12を回動積載可能でありかつ中空ロール12� ��長手方向に移動可能とされた第1リボルビン グ式ロールカセット装置56a及び第2リボルビ� �グ式ロールカセット装置56bと、前記第1リボ� ��ビング式ロールカセット装置56a及び第2リボ ルビング式ロールカセット装置56bの移動方向 の軸線上に相対向して並べられ、かつ前記第 1及び第2リボルビング式ロールカセット装置5 6a,56bを内部に収納可能とされた第1収納型DLC� �膜形成処理装置58a及び第2収納型DLC被膜形成� ��理装置58bと、を含んでいる。

 符号64a,64bは一対のスライドレールであり 、第1リボルビング式ロールカセット装置56a� �び第2リボルビング式ロールカセット装置56b� ��移動方向の軸線上に敷設されており、第1収 納型DLC被膜形成処理装置58a及び第2収納型DLC� �膜形成処理装置58b内まで延伸して敷設され� �いる。第1リボルビング式ロールカセット装� ��56a及び第2リボルビング式ロールカセット装 置56bの下部にはタイヤが設けられており(図� �省略)、このようにして、第1リボルビング式 ロールカセット装置56a及び第2リボルビング� �ロールカセット装置56bは摺動自在に構成さ� �ている。

 第1リボルビング式ロールカセット装置56a 及び第2リボルビング式ロールカセット装置56 bは、前記下地金属めっき層形成手段54におい て例えばニッケルめっきがされた中空ロール 12を積載及び荷下ろしするための待機位置WP� �前記第1収納型DLC被膜形成処理装置58a及び第2 収納型DLC被膜形成処理装置58b内で該中空ロー ル12にDLC被膜形成処理を行うための第1及び第 2処理位置TP1,TP2とにそれぞれ停止可能とされ� ��いる。

 そして、前記第1又は第2リボルビング式� �ールカセット装置56a,56bが中空ロール非積載� ��態の場合には待機位置WPに停止して該中空� �ール12が積載され、前記第1又は第2リボルビ� ��グ式ロールカセット装置56a,56bが中空ロール 積載状態の場合には前記第1又は第2処理位置T P1,TP2に移動停止してDLC被膜形成処理が行われ るように構成されている。

 図2によく示される如く、第1又は第2リボ� ��ビング式ロールカセット装置56a,56bとしては 、中空ロール12を10本同時に回転積載させる� �とが可能とされている。すなわち、中空ロ� �ル12を1本積載したら次の中空ロール12の受け 入れ位置となるように回転軸66を軸を中心に� ��転し、このようにして中空ロール12を順次� �載していき、最大10本まで積載可能とされて いる。なお、中空ロール12の最大積載本数に� ��別の限定はない。

 すなわち、前記待機位置WPで前記中空ロ� �ル12が積載された前記第1リボルビング式ロ� �ルカセット装置56aは、前記第2処理位置TP2へ� ��摺動停止し、前記第1収納型DLC被膜形成処理 装置58a内で前記中空ロール12にDLC被膜形成処� ��が行われ、前記DLC被膜形成処理が行われて� ��る間、前記第2収納型DLC被膜形成処理装置58b 内に収納されている前記第2リボルビング式� �ールカセット装置56bは、前記待機位置WPへと 摺動停止し、中空ロール12が積載される。

 前記第1収納型DLC被膜形成処理装置58a及び 第2収納型DLC被膜形成処理装置58b内でのDLC被� �の形成方法としては、PVD法、例えば、スパ� �タリング法、真空蒸着法(エレクトロンビー� ��法)、イオンプレーティング法、MBE(分子線� �ピタキシー法)、レーザーアブレーション法� ��イオンアシスト成膜法等を適用できるが、� ��パッタリング法が好適である。

 ここで、スパッタリング法は、薄膜にし� ��い材料(ターゲット材料)にイオンをぶつけ� �と材料がはね飛ばされるが、このはね飛ば� �れた材料を基板上に堆積させ薄膜を作製す� �方法であり、ターゲット材料の制約が少な� �、薄膜を大面積に再現性よく作製できるな� �の特徴がある。

 図示の例では、まず、第1収納型DLC被膜形 成処理装置58a及び第2収納型DLC被膜形成処理� �置58b内を真空状態にしてテトラメチルシラ� �などの雰囲気ガスを導入する。そして、前� �雰囲気ガスを減量しながら、炭素供給源と� �て、炭素ガス(例えば、アセチレンガス、ベ� ��ゼンガス)を導入するようにしてDLC被膜形成 処理を行う。

 前記DLC被膜形成処理が終了すると前記第1 処理位置にある前記第1リボルビング式ロー� �カセット装置56aは前記待機位置WPへと摺動し 、前記DLC被膜形成処理が終了した中空ロール 12の荷下ろしが行われ、それと同時に前記中� ��ロール12が積載された前記第2リボルビング� ��ロールカセット装置56bは、前記第2収納型DLC 被膜形成処理装置58b内へと摺動し、前記第2� �納型DLC被膜形成処理装置58b内で前記中空ロ� �ル12にDLC被膜形成処理が行われる。中空ロー ル12を前記第1又は第2リボルビング式ロール� �セット装置56a,56bに積載する所要時間として� ��10分ほどであり、DLC被膜形成処理は約2時間� ��どで終了する。したがって、従来のグラビ� ��製版工場と比較して、グラビア製版ロール� ��製造時間が飛躍的に短縮されるという利点� ��ある。

 このように、前記第1又は第2リボルビン� �式ロールカセット装置56a,56bが、前記第1収納 型DLC被膜形成処理装置58a又は第2収納型DLC被� �形成処理装置58b内への収納及びそこからの� �出を繰り返して、グラビア製版ロールが連� �的に製造されるように構成されている。

 上記各装置はコンピュータによるプログ� ��ム制御により、無人で制御されている。該� ��ンピュータを含むコントロールパネルにつ� ��ては図示を省略する。

 このようにして、隣接するX倉庫から搬入 された中空ロール12は、第1スタッカクレーン 32、第2スタッカクレーン44及び第3スタッカク レーン62によって各処理装置間を移動し、前� ��第1又は第2リボルビング式ロールカセット� �置56a,56bに積載移動され、前記第1収納型DLC被 膜形成処理装置58a又は第2収納型DLC被膜形成� �理装置58b内でDLC被膜形成処理され、隣接す� �Y倉庫へと運び出される。このようにして、� ��ラビア製版ロールが全自動で出来上がる。� ��お、図示例では、作業ラインが1列のグラビ ア製版工場10の例を示したが、2列や3列とい� �た複数の作業ラインとすることができるこ� �も可能である。