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Document Document Title
JP5884743B2  
JP5884871B2  
JP5881221B2  
JP5878169B2  
JP2016031403A
To improve light utilization efficiency with a small-sized configuration.An illumination optical system 20A illuminating a liquid crystal panel 40 modulating light from a light source unit 10 with the light, includes, in order from a lig...  
JP5872639B2  
JP5868492B2  
JP5867576B2  
JP5863974B2  
JP5861897B2  
JP2016026306A
To provide an illumination optical device capable of forming a zonal illumination pupil distribution in a circumferential polarization state while satisfactorily suppressing light quantity loss.Provided is an illumination optical device ...  
JP2016504631A
本発明は、基板と、前記基板上に適用された 多層構成を備え、該多層構成は極端紫外波長 域(EUV)からの波長λを有する放射に対 る反射効果を有し、且つ、高屈折率層...  
JP5854082B2  
JP5854103B2  
JP5854107B2  
JP2016025316A
To provide a technique for suppressing ununiformity of lighting due to a light source with a small number of optical elements.An illumination optical element 3 irradiates a predetermined area A1 of an illuminated surface, i.e., a sample ...  
JP2016021526A
To provide an illumination optical device for forming the shape of the image of a secondary light source into a desired ring shape or a circular shape, while suppressing the loss of a light quantity.An illumination optical device 100 inc...  
JP5849727B2  
JP2016502684A
EUV投影リソグラフィのための照明光学ユ ニットは、各々が複数の反射ファセットを支 持体上に有する第1のファセットミラーと第 2のファセットミラーを有する。第1の...  
JPWO2013179977A1
照明装置(IU)は、第1の光源部(21a )と、第1の光源部と光の出射方向が異なる 第2の光源部(21b)と、第1の光源部か らの光と第2の光源部からの光の進行方...  
JP2016502136A
EUVコレクター(15)は、EUV放射線 源(3)からのEUV放射線(14)を照明 遠視野(17a)内に伝達するように機能す る。コレクター(15)は、法線入射の...  
JP2016502233A
照明装置1は、発光窓5と、前記発光窓の反 対側の反射器7とを備えるハウジング3を有 する。光透過性平面担体9が、前記発光窓及 び前記反射器の間に配設され、少なくと...  
JP5845684B2  
JP2016009014A
To provide an illumination device capable of projecting an image that is bright and high in chromatic purity.An illumination light source device according to the present invention comprises: a phosphor 5 which is irradiated by light from...  
JPWO2013179961A1
光伝達損失を低減しつつ、発光素子のビーム の断面形状を整形する。内視鏡用の光源装置 (13)には、レーザダイオード(LD2) を有する発光素子部(71)と、ビーム...  
JP2016500838A
EUV光学装置は、ミラー本体(120)上 に多数の調節可能なミラー(22x)を備え る。各ミラー本体は、可動部品(132、1 34、136)および固定筐体部(12...  
JP5842615B2  
JP5843905B2  
JPWO2013164923A1
撮像用の補助光として適した配光を有する補 助光源ユニット用の光学素子であって、小型 を保ちつつ、十分な光量を確保し、製造が容 易で低コストである光学素子及びそれを...  
JP5835828B2  
JP2015230354A
To provide a light source device that can improve the efficiency of use of light and reduce the size thereof, and efficiently cool a wavelength conversion element.A light source device includes: a light emitting element that emits excita...  
JPWO2013157249A1
【課題】6枚構成の投写用レンズにおいて、 小さなFナンバー、広角、諸収差の良好な補 正、高性能を実現する。【解決手段】投写用 レンズは、拡大側から順に、縮小側に凹...  
JPWO2013150752A1
映像表示装置は、光源と表示素子と照明プリ ズムと接眼光学系とを有する。光源は照明光 を射出する。表示素子は照明光を変調して映 像光として射出する。照明プリズムは光...  
JP2015223462A
To reduce speckle noises by a further simple method.The lighting system includes: at least one laser light source exiting laser beams; a coupling optical system for coupling the laser beams exited from the laser source, with optical fibe...  
JP2015534654A
本発明は、光ビームの光源;集光レンズ(5 );少なくとも1つのマイクロレンズアレイ (L3、L4)を含む光均一化系(4)であ って、光均一化系の像焦点面が集光レン...  
JP2015534123A
マイクロリソグラフィ装置を作動させる方法 は、アレイ上の光放射照度分布が第1の線( 76)に沿って少なくとも50%だけ変化す る傾斜可能ミラー(M)のアレイ(34...  
JP2015534130A
マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明シ ステムが、光積分器(70)を備え、光積分 器(70)が、第1の光学ラスタプレート( 74)と第2の光学ラスタプレート(7...  
JP2015206817A
To provide a lighting device capable of lighting under desired lighting conditions, and an inspection device.Provided is a lighting device 11 including: an EUV light source 21 of generating EUV light by discharge plasma; a filter 22 of s...  
JP5816152B2  
JP2015201433A
To provide an illumination optical system and an image projection device that can realize the projection of an image with high luminance and high image quality.An illumination optical system comprises a first lens array that divides ligh...  
JP5810467B2  
JP5807761B2  
JP2015198110A
To provide an imprint device which is advantageous when light from a light source is distributed to a plurality of processing parts.Disclosed is an imprint device for molding an imprint material on a substrate using a mold in which a pat...  
JP2015197963A
To provide a linear light source unit structure having a hole between the light source side of a light guide member and a light-emitting surface, and diffusing incident light.In a linear light source unit structure, the shape of a hole i...  
JP2015195141A
To provide an irradiation device enabling light irradiation with even illuminance and desired wavelength.An irradiation device 1 includes a light source 11, a recessed reflection mirror 12 reflecting light emitted from the light source 1...  
JP5803377B2  
JP5803222B2  
JP5803412B2  
JP2015191043A
To provide a lighting device configured to effectively obscure speckle, while using light from a light source with a high utilization rate.A lighting device 40 includes: an irradiation device 70; a diffusion element 50; a first lens arra...  
JP5800340B2  

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